製品概要
この高性能な6ゾーン分割管状炉は、現代の材料科学および産業研究開発における熱工学の頂点に位置する装置です。1500℃に達する温度で動作するように設計されており、完全に均一な温度ゾーンが必要な場合でも、非常に特定の温度勾配が必要な場合でも、研究者に比類のない熱環境制御を提供します。高度な発熱体とモジュール式の分割設計を統合することで、複雑な実験セットアップや繊細な真空接続の完全性を損なうことなく、サンプルの迅速な装填と取り出しを容易にします。
主に化学気相成長（CVD）、アニール、焼結用途向けに設計された本機は、半導体製造から先端セラミックス、航空宇宙材料試験に至るまで、幅広い産業で活用されています。6ゾーン構成の汎用性により、実験室規模で複雑な産業プロセスをシミュレーションでき、生産拡大に必要なデータを提供します。真空または制御された雰囲気下で厳しい公差を維持できる能力は、高温材料挙動の限界を押し広げる研究室にとって不可欠なツールとなっています。
信頼性は、この熱処理システムの証です。頑丈なコンポーネントと高純度アルミナ耐火材料で構築されたこの炉は、過酷な環境下での連続運転に耐えうる設計です。堅牢な炭化ケイ素発熱体から精密機械加工された真空フランジに至るまで、あらゆる側面が再現性と長期的な耐久性を確保するために選定されています。オペレーターは、セッションごとに大気の純度と熱安定性を維持できるシステムの能力を完全に信頼して、長サイクルの実験を進めることができます。
主な特徴
- 独立した6ゾーン熱制御: 加熱チャンバーは6つの異なるゾーン（12インチ + 8インチ + 8インチ + 8インチ + 8インチ + 12インチ）に分割されており、それぞれが専用のコントローラーによって管理されます。この構成により、最大100℃/cmの調整された温度勾配や、800mmの非常に長い均一温度ゾーンを作成でき、多様な研究プロジェクトに柔軟に対応します。
- 高純度アルミナ処理管: 外径60mm、長さ1800mmのプロ仕様アルミナ管を装備しており、極端な温度下でも優れた耐薬品性と構造的完全性を提供し、高温サイクル中でもサンプルが汚染されないことを保証します。
- 精密PID計装: 6つのデジタル温度コントローラーはそれぞれ30のプログラム可能なセグメントを備えています。これにより、昇温速度、保持時間、冷却段階を綿密に管理できます。±1℃の精度により、繊細な半導体や冶金プロセスに必要な厳密な精度を実現します。
- 高度な炭化ケイ素発熱体: 48本の高品質SiCロッドを使用することで、急速加熱と高温安定性を維持します。これらの発熱体は、酸化性および中性雰囲気における寿命と効率を考慮して特別に選定されており、高温耐久性において標準的な金属製発熱体を凌駕します。
- 統合された真空および雰囲気機能: システムには、二重の高温シリコンOリングを備えた真空シールステンレス鋼フランジが含まれています。メカニカルポンプで10^-2 Torr、分子ポンプシステムで最大10^-5 Torrの真空レベルを達成可能で、酸素に敏感な用途に最適です。
- 分割ヒンジ工学: 炉体は長手方向に開く分割設計を採用しています。これにより、処理管や内部加熱チャンバーへのアクセスが容易になり、ガス供給システム全体を解体することなく、清掃、サンプルの配置、発熱体のメンテナンスを行うことができます。
- 包括的な安全システム: 過熱防止機能と熱電対断線保護機能が組み込まれており、コンポーネントの故障時に装置を安全にシャットダウンします。視覚および聴覚アラームが温度偏差をオペレーターに通知するため、長時間の保持サイクル中でも無人運転が可能です。
- 拡張可能な通信インターフェース: RS485通信ポートが含まれており、PCベースの制御モジュールと統合できます。これにより、集中管理ソフトウェア環境を通じて、遠隔監視、データロギング、複雑な熱処理レシピの管理が可能になります。
用途
| 用途 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| CVD / PECVD | グラフェンやカーボンナノチューブなどの薄膜およびナノ材料の成長。 | ガスダイナミクスと熱ゾーンの精密制御により、高品質な膜成長を保証。 |
| 半導体アニール | 結晶損傷を修復するためのシリコンウェハーおよび化合物半導体の高温処理。 | マルチゾーン制御により熱衝撃を防ぎ、均一なドーパント活性化を保証。 |
| 勾配焼結 | 既知の温度勾配下でのセラミックまたは金属粉末の焼結。 | 1回の実行で温度が密度に与える影響を研究可能。 |
| 触媒試験 | さまざまな熱およびガス条件下での工業用触媒の性能評価。 | 耐久性のあるアルミナ管が腐食性プロセスガスや高温疲労に耐性。 |
| 材料脱ガス | 真空環境下での高純度材料からの揮発性不純物の除去。 | 高真空の完全性と1500℃の能力により、深部の汚染物質を除去。 |
| 熱サイクル試験 | 繰り返し加熱/冷却下での航空宇宙または自動車部品の耐久性試験。 | プログラム可能な昇温により、動作環境の正確なシミュレーションが可能。 |
技術仕様
TU-67シリーズ炉については、以下の包括的な技術データをご参照ください。これらの仕様は、高性能な実験環境向けに設計された標準構成を反映しています。
電力および性能
| パラメータ | 仕様 (TU-67) |
|---|---|
| 入力電力 | 22 KW |
| 動作電圧 | AC 220V +/- 10%, 三相, 50/60Hz |
| 電流要件 | 100Aブレーカーが必要 |
| 最高温度 | 1500°C (30分未満) |
| 連続動作温度 | 800°C - 1400°C |
| 推奨昇温速度 | ≤ 5°C/分 |
| 温度精度 | ± 1°C |
加熱ゾーンおよび管寸法
| コンポーネント | 仕様 (TU-67) |
|---|---|
| 管材質 | 高純度アルミナ |
| 管寸法 | 60mm 外径 x 51mm 内径 x 1800mm 長 |
| ゾーン数 | 6つの独立したゾーン |
| 各ゾーンの長さ | 12" + 8" + 8" + 8" + 8" + 12" |
| 総加熱ゾーン長 | 1422 mm (~56") |
| 恒温ゾーン | 800 mm (± 5°C、ゾーンスペーサーなし) |
| 最大温度勾配 | 最大100°C/cm (内部スペーシング使用時) |
計装および真空
| 機能 | 詳細 |
|---|---|
| 温度コントローラー | 6x デジタルPIDコントローラー (30プログラムセグメント) |
| 熱電対 | 6x S型 (各ゾーンに1つ) |
| 発熱体 | 48x 1500°Cグレード 炭化ケイ素 (SiC) ロッド |
| 真空レベル (メカニカル) | 最大 10^-2 Torr |
| 真空レベル (分子) | 最大 10^-5 Torr |
| 通信 | RS485ポート (PC制御モジュールはオプション) |
| 安全機能 | 熱電対断線保護、過熱アラーム |
| コンプライアンス | CE認証 (ご要望に応じてNRTL/UL/CSA対応可能) |
操作上の注意
- 真空運転の場合、温度は1300℃を超えないようにしてください。
- ガス流量は200 SCCM以下に維持してください。
- ガスボンベの安全のため、2段式圧力調整器の使用が必須です。
- アルミナ管に直接接触する形でグラファイトるつぼを使用しないでください。
TU-67を選ぶ理由
- 比類のない熱の汎用性: TU-67の6ゾーンアーキテクチャは、単一ゾーンの炉では実現できない熱プロファイルをカスタマイズするユニークな能力を研究技術者に提供し、同クラスで最も柔軟なツールとなっています。
- 頑丈な工業用ビルド: 48本の個別のSiCロッドと高密度アルミナ断熱材を使用することで、この炉は1500℃のサイクルを繰り返しても長寿命でメンテナンスを最小限に抑えるように設計されています。
- 精度と安定性: S型熱電対と精密PIDロジックの統合により、研究データが安定した再現性のある熱条件に裏打ちされ、複雑な実験における変数を低減します。
- 高度な雰囲気制御: プロセスが高真空を必要とする場合でも、特定の不活性ガス環境を必要とする場合でも、高品質のフランジシステムが純粋な化学反応のためのリークフリー環境を保証します。
- グローバルな安全基準: 標準のCE認証に加え、ULまたはCSAへのアップグレードオプションもあり、世界中のトップクラスの学術機関や企業研究機関の厳しい安全要件を満たしています。
研究ニーズとともに成長する熱システムに投資しましょう。TU-67がどのように材料処理能力を向上させることができるか、カスタム構成の見積もりや技術相談については、今すぐお問い合わせください。
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