製品概要

この高性能熱処理システムは、精密な温度勾配と卓越した均熱性を必要とする高度な材料科学用途向けに設計されています。3ゾーン加熱構成と分割型ケース設計を採用することで、研究者や産業エンジニアに複雑な熱処理サイクルを管理する柔軟性を提供します。本システムは最高1200°Cまでの高温動作に最適化されており、大気および真空ベースのプロセスの両方に対応する堅牢なプラットフォームを提供します。8インチの大きな内径チューブは大型サンプルの収容を可能にし、パイロットスケールの生産や厳格なR&Dワークフローに理想的な選択肢です。
主に半導体研究、冶金、先端セラミックスで使用される本装置は、精度と再現性が不可欠な環境で優れた性能を発揮します。化学気相成長(CVD)、焼結、アニーリングのいずれにおいても、サンプル環境の安定性と汚染防止を保証します。対象産業には、航空宇宙製造、電子機器開発、学術材料科学研究室が含まれます。3つの独立した加熱ゾーンにより、傾斜結晶成長や二硫化モリブデンのような2D材料の合成など、プロセスに不可欠なカスタム熱プロファイルの作成が可能です。
信頼性は本システムの設計の中核です。二重層スチールケースと統合された冷却ファンにより、長時間の高温運転中でも外装表面温度を低く保ちます。高純度繊維状アルミナ断熱材の使用により、エネルギー効率を最大化し、迅速な加熱・冷却応答時間を実現しています。B2B調達チームは、プロ仕様のPID制御と統合された安全機構により、無人運転でも安心して使用できる本システムの安定した性能を信頼いただけます。
主な特徴
- 独立した3ゾーン熱管理: 加熱チャンバーは3つの11.8インチセクションに分割されており、合計35.4インチの加熱長を実現します。各ゾーンは独自のデジタルコントローラーによって制御され、+/- 2ºC以内の12インチの均熱ゾーンを達成したり、特殊な材料成長に必要な特定の熱勾配を作成したりすることが可能です。
- 精密な分割型ケース構造: ヒンジ付きの炉体により、処理チューブや内部チャンバーへのアクセスが容易です。この設計により、チューブの迅速な交換、サンプルの簡単な装填、および長いチューブを固定された加熱エレメントに通す必要なく、組み立て済みの実験セットアップを使用することが可能になります。
- 高純度アルミナ断熱材: 省エネ型の繊維状アルミナで設計された断熱層は、熱損失を最小限に抑え、炉全体の熱応答を向上させます。この材料選択により、クリーンな環境が確保され、耐火性粒子によるサンプルの汚染を防ぎます。
- 高度なPID温度制御: 3つのMETおよびCE認証済みデジタルコントローラーが、加熱速度、冷却速度、保持時間を精密に制御するための30のプログラムセグメントを提供します。システムは+/- 1ºCの温度精度を維持し、複数のバッチにわたって再現性のある結果を保証します。
- 高真空およびガス雰囲気への対応: 本システムには、二重高温シリコンOリングと水冷ジャケットを備えた高耐久性ステンレス鋼304真空フランジが含まれています。ターボポンプと組み合わせることで10-5 torrまでの真空レベルを達成でき、不活性ガスまたは反応性ガス環境下でのクリーンな熱処理をサポートします。
- 統合された安全・保護システム: 分割カバーインターロック保護システムにより、炉を開くと自動的に電源が切断されます。さらに、過熱および熱電対断線保護機能が内蔵されており、過熱状態に対する音響および視覚アラームも備えています。
- 堅牢な加熱エレメント: 高品質のK型熱電対と戦略的に配置された加熱エレメントにより、石英チューブへの効率的なエネルギー伝達を確保し、熱プロファイルの完全性を維持しながら最大20°C/分の加熱速度を可能にします。
- スケーラブルなデジタル通信: 各コントローラーにはRS485通信ポートが装備されており、オプションのPCベースのデータロギングやリモート操作が可能です。このスケーラビリティは、品質管理のためにデータのトレーサビリティが求められる産業環境において不可欠です。
用途
| 用途 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| 2D材料合成 | ACS Nanoの研究で文書化されているTaおよびNbドープMoS2の合成に使用。 | 電気触媒用途向けの精密なエッジ構造調整が可能。 |
| 拡散アニーリング | Fe-Ni-Cu合金や半導体ウェハーの高温(1000°C以上)均質化。 | 優れた3ゾーン均熱性により拡散速度の偏差を排除。 |
| CVD / PECVD | グラフェンやカーボンナノチューブの化学気相成長の主要加熱ユニットとして使用。 | 前駆体反応のために長い経路にわたって安定した温度環境を提供。 |
| セラミックス焼結 | 制御された雰囲気下での先端技術セラミックスおよび酸化物材料の処理。 | 高純度断熱材が重要な焼成段階での汚染を防止。 |
| 熱勾配成長 | 単結晶成長や気相輸送のための特定の温度傾斜の作成。 | 独立したゾーン制御により、チューブ全体の熱勾配を微調整可能。 |
| 酸化研究 | 空気または酸素雰囲気下での合金の高温酸化挙動の分析。 | 大型サンプル全体にわたる一貫した温度制御により信頼性の高い腐食データを確保。 |
| 材料脱ガス | 高真空条件下でのバルク材料からのトラップガスの除去。 | 大容量の8インチチューブと真空シールにより高スループットの脱ガスが可能。 |
| 相変態 | 実験的な産業用合金の相転移点の調査。 | 正確なPID制御により変態温度の精密な特定を保証。 |
技術仕様
| 仕様カテゴリ | パラメータ | TU-38 詳細仕様 |
|---|---|---|
| モデル識別 | 商品番号 | TU-38 |
| 炉構造 | ハウジング | 二重冷却ファン付き二重層スチールケース |
| 断熱材 | 高純度繊維状アルミナ(省エネ型) | |
| 安全機能 | インターロック保護付き分割カバー | |
| 電気データ | 電源要件 | AC 208-240V、三相、50/60 Hz |
| 最大消費電力 | 10 KW | |
| 回路保護 | 50Aブレーカーが必要 | |
| 加熱性能 | 最高加熱温度 | 1200°C |
| 連続使用温度 | 1100°C(真空下では1000°C) | |
| 最大昇温速度 | 20°C / 分 | |
| ゾーン構成 | 合計加熱長 | 900mm (35.4") |
| 各ゾーン長 | 300mm (11.8") / ゾーン | |
| 均熱ゾーン | 300mm (12")、+/- 2ºC以内 | |
| チューブ&フランジ | 石英チューブ寸法 | 外径216mm x 内径206mm x 長さ1524mm (8.5" x 8.1" x 60") |
| シールタイプ | 水冷ジャケット付きSS 304真空フランジ | |
| 接続ポート | KF-40Dアダプター、ニードルバルブ2個、圧力計 | |
| 真空レベル | 10-2 torr(メカニカルポンプ)〜10-5 torr(ターボポンプ) | |
| 温度制御 | コントローラータイプ | デジタルPIDコントローラー x 3(MET/CE認証) |
| プログラムセグメント | コントローラーあたり30プログラムセグメント | |
| 精度 | +/- 1ºC | |
| 通信 | RS485ポート | |
| コンプライアンス | 認証 | CE認証(ご要望に応じてUL61010/CSA対応可能) |
この3ゾーン分割型チューブ炉を選ぶ理由
この3ゾーン分割型チューブ炉への投資は、高精度エンジニアリングと運用寿命へのコミットメントを意味します。標準的な単一ゾーン炉とは異なり、本システムは温度均一性の「スイートスポット」を広げる能力を提供します。これは、長いサンプルを処理する場合や、実験室での実験をパイロット生産にスケールアップする場合に不可欠です。3つの異なるセグメントを個別に制御できるため、ユーザーはチューブ端での熱損失を補償でき、より予測可能で安定した熱環境を実現できます。
装置の構造的完全性は、産業研究の過酷な環境に耐えるよう設計されています。作業者を高温から保護する二重層スチールケーシングから、熱橋を防止する高純度アルミナ断熱材に至るまで、すべてのコンポーネントが耐久性を基準に選択されています。分割型炉設計は、人間工学を向上させるだけでなく、サンプル交換やチューブメンテナンス時のダウンタイムを削減し、稼働率の高い実験室環境において大きな利点を提供します。
さらに、真空およびガス供給インターフェースの汎用性により、将来にわたって価値ある投資となります。現在のプロジェクトが単純な大気環境を必要とする場合でも、反応性ガス流を伴う複雑な高真空環境を必要とする場合でも、本システムは容易に移行に対応できます。業界をリードする認証と、影響力の大きい科学論文での実績に裏打ちされたこの炉は、データの精度や装置の稼働時間に妥協できない施設にとって信頼できる選択肢です。
当社のエンジニアリングチームは、統合されたマスフローコントローラーや、お客様の特定の研究パラメータに合わせて調整された高真空ポンプステーションなど、カスタム構成のサポートを提供します。熱処理要件に関する技術相談および正式な見積もりについては、今すぐお問い合わせください。
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい!
関連製品
1200°C 3ゾーン分割式管状炉(加熱長18インチ、真空フランジ付き)
この1200°C 3ゾーン分割式管状炉で熱処理プロセスを最適化しましょう。18インチの加熱長と精密なPID制御を備え、高度な材料研究、アニーリング、焼結、および世界中の研究施設における専門的な産業R&Dアプリケーションに優れた温度均一性を提供します。
真空フランジ付き 三温度ゾーン分割型チューブ炉 36インチ加熱長 高温1200℃ 材料研究用炉
1200℃の高温処理向けに精密設計された三温度ゾーン分割型チューブ炉です。材料科学の研究開発における雰囲気制御および真空用途のための高度なPID制御を備え、卓越した熱均一性と信頼性の高い性能を産業用ラボ環境および研究機関に提供します。
1200C 三ゾーン分割式縦型チューブ炉 4インチ石英管 ステンレス鋼真空フランジ
この1200C三ゾーン分割式縦型チューブ炉は、高精度な熱処理のための4インチ石英管とステンレス鋼真空フランジを備えています。材料の急冷や合成に最適で、この堅牢なシステムは均一加熱と迅速な試料投入アクセスを実現します。
82mm超合金管とデュアル水素検知器を搭載した3ゾーン水素ガスチューブ炉 1200℃高温材料加工システム
ニッケル基超合金管と統合安全検知器を備えたこの高度な3ゾーン水素ガスチューブ炉で、高温材料研究を最適化し、要求の厳しい産業・研究開発用途での安全な1200℃加工を実現し、最大限の信頼性と性能を確保します
1200°C 高温 5インチ スプリット真空チューブ炉、12インチ加熱ゾーンおよび分離型PIDコントローラー付き
この高性能な1200°Cスプリット真空チューブ炉で、精密な熱処理を実現します。大型の5インチ石英チューブ、12インチ加熱ゾーン、分離型PIDコントローラーを備え、このNRTL認証システムは、高度な材料研究および産業R&D用途において信頼性の高い結果を保証します。
急速熱処理用1200℃石英管・ステンレス鋼真空フランジ付き分割型垂直管状炉
この1200°C対応分割型垂直管状炉は、5インチ石英管と精密PID制御を備え、急速焼入れ、真空処理、高度な材料合成を実現し、要求の高い産業研究環境における研究効率を最大化します。
CVD研究および真空雰囲気熱処理用 1200℃高温分割管状炉
精密CVD、雰囲気焼結、真空アニール用に設計された高性能1200℃分割管状炉。高度なPID制御、エネルギー効率の高い日本製アルミナファイバー断熱材、産業用R&Dおよび先端材料研究所向けの急速冷却可能な分割設計を採用しています。
最高使用温度1200℃・大口径石英管採用 7ゾーン分割型チューブ炉
この高性能な7ゾーン分割型チューブ炉は、82.6インチの広大な加熱長と8インチの石英管を備えています。精密な材料研究のために設計されており、優れた温度均一性と高度な雰囲気制御を実現し、産業用R&Dや要求の厳しい製造用途に最適です。
1200°C 10ゾーン分割型チューブ炉(水平・垂直設置対応、マルチゾーン熱勾配および大口径材料処理用)
10個の独立した加熱ゾーンによる比類のない熱勾配制御と、水平・垂直設置が可能な柔軟性を備えた、先進の1200°C 10ゾーン分割型チューブ炉システム。精密な産業シミュレーション、材料合成、高性能な研究開発(R&D)熱処理用途向けに設計されており、卓越した信頼性を誇ります。
オプションの大型径石英管付き 1200°C 最大 4ゾーン分割チューブ炉
オプションの直径14インチチャンバーと高純度断熱材を備えた、この1200°C 4ゾーン分割チューブ炉で材料研究を加速します。広い加熱ゾーン全体で高精度な温度均一性を実現し、大規模焼結、アニーリング、先進的な工業用気相成長プロセスに最適です。
高温1500℃ 3ゾーン分割型チューブ炉(80mmアルミナ管・真空フランジ付)
この設計された1500℃ 3ゾーン分割型チューブ炉は、80mmアルミナ管と精密なPID制御を備えています。高度な材料研究、CVDプロセス、および優れた温度均一性と高真空安定性を必要とする工業用熱処理に最適です。
精密温度コントローラーおよびクイックフランジ真空システム付き 7ゾーン 1200℃ 分割型チューブ炉
材料研究用に設計されたプロ仕様の7ゾーン1200℃分割型チューブ炉。5インチ石英チューブ、精密PID制御、真空または制御雰囲気下での迅速な熱処理を可能にするクイックフランジを備えています。高性能な研究開発用熱処理ソリューションです。
タッチスクリーンコントローラーと複数の石英管オプションを備えた5ゾーン1200℃高温分割式チューブ炉
精密な熱勾配と雰囲気制御のために設計された高性能5ゾーン1200℃チューブ炉です。本システムは、直感的なタッチスクリーンプログラミングと真空シール機能を備え、精密焼結、アニーリング、材料合成の各ワークフローにおいて安定した結果を実現します。
三ゾーン加熱 分割式縦型チューブ炉 1700 高温真空雰囲気熱処理システム
産業研究開発および材料科学用途向けの先進的な1700°C三ゾーン加熱分割式縦型チューブ炉。独立した熱制御、高真空機能、そしてエネルギー効率の高い断熱により、安定した高温処理と迅速な試料急冷結果を実現する高精度システムです。
4ゾーン 1200℃ マルチゾーン分割式チューブ炉 1インチまたは2インチ処理チューブ用独立デジタル温度コントローラー搭載
CVDおよびPVD用途向けに設計された精密な4ゾーン1200℃マルチゾーン分割式チューブ炉は、4つの加熱ゾーン全体で独立した温度制御を提供し、高度な材料研究および産業開発のための正確な温度勾配または均一なプロセス環境を作成します。
1200℃ デュアルゾーン分割型チューブ炉(溶融石英管および真空フランジ付き、60mm/80mm/100mm径から選択可能)
独立した温度制御により精密な温度勾配を実現する、1200℃デュアルゾーン分割型チューブ炉で材料研究を加速させます。溶融石英管と真空シールフランジを備え、高度なCVDやナノ材料合成に最適なソリューションです。
6ゾーン分割型チューブ炉 1.8メートル石英管 1200℃高温加熱システム
この6ゾーン高温分割型チューブ炉は、柔軟な温度勾配と1.8メートルの加熱ゾーンを提供します。最高温度1200℃の真空対応システムであり、6つのPIDコントローラーを搭載。高度な材料研究や産業用熱処理アプリケーションに最適です。
高温材料合成用、オプションの石英管および真空フランジシステム付き 24インチ 3ゾーン分割式チューブ炉
独立した温度制御、石英管対応、真空シールフランジを備えたこの高級24インチ3ゾーン分割式チューブ炉で、材料研究を加速します。1200°Cまでの精密な熱処理を実現し、要求の厳しい実験室および産業R&D用途に対応します。
1600°C 3ゾーン分割型チューブ炉(アルミナチューブ・真空フランジ付)
この1600°C 3ゾーン分割型チューブ炉は、高度な材料合成や研究開発向けに、精密な温度プロファイリングと真空機能を提供します。複数の独立した加熱ゾーンにより優れた温度均一性を実現し、高い一貫性を備えた堅牢な設計が特徴です。
精密熱処理向け3インチムライト管・真空密封フランジ搭載 1250℃分割式チューブ炉
本1250℃分割式チューブ炉は、先端研究開発向けに3インチムライト管と真空密封フランジを標準搭載。材料科学用途に設計され、精密PID制御、高純度断熱、真空・制御雰囲気下での信頼性の高い性能を提供するプロフェッショナルグレードの装置です。