製品概要


この高性能熱処理システムは、先端材料科学研究および産業R&D向けに設計されています。24インチの加熱長を3つの独立制御ゾーンに分割した構成により、研究者は精密な温度勾配を作成したり、非常に長い均一な温度フラットゾーンを維持したりする柔軟性を得られます。炉本体は分割可能な設計で、急速冷却とプロセスチューブへの容易なアクセスを実現し、各種ガス雰囲気下での試料のアニーリング、拡散、焼結プロセスのスループットを大幅に向上させます。
高純度環境向けに最適化された本装置は、ACS Nano などの査読付き学術誌で報告されている Ta および Nb ドープ MoS2 などの先端材料合成に広く利用されています。本システムは、高効率断熱材と先進的なマイクロプロセッサベース PID 制御を統合し、1200°C まで安定した性能を確保します。堅牢な機械構造と精密電子制御を組み合わせることで、半導体、電池研究、ナノテクノロジーに注力する研究室の中核装置として機能し、繊細な化学気相成長(CVD)および物理気相成長(PVD)プロセスに必要な信頼性を提供します。
要求の厳しい産業環境で長期使用できるよう設計されており、二重構造のスチールケースと省エネ型の高純度繊維状アルミナ断熱材を採用しています。この構造により、熱損失を最小限に抑えつつ、外装表面温度を低く保ち、作業者の安全性を確保します。日常的な熱処理から複雑な多段階合成まで、本システムは、現代の材料工学において再現性の高い高品質な結果を得るために不可欠な熱的一貫性と雰囲気の完全性を提供します。
主な特徴
- 独立した3ゾーン熱管理: 24インチの総加熱長は3つの区画(6" + 12" + 6")に分かれており、それぞれに専用コントローラーとK型熱電対が装備されています。これにより、高度な温度勾配の形成や、最大限に広い一定温度ゾーンの確保が可能です。
- 高精度PIDマイクロプロセッサ制御: 先進のMTE認証コントローラーは自己調整PIDアルゴリズムを採用し、全動作範囲で±1°Cの精度を維持。温度オーバーシュートを効果的に排除し、プロセスの安定性を確保します。
- プログラム可能な熱プロファイル: 各ゾーン最大30ステップのプログラムに対応し、特殊な材料変換や相転移研究に必要な複雑な加熱・保持・冷却サイクルを自動化できます。
- 雰囲気の多用途性と真空保持性: SS 304 ステンレス製真空フランジ2組と高温対応シリコンOリング2重シールを備え、機械式ポンプで10E-2 torr、ターボ分子ポンプシステムで最大10E-5 torrの真空到達が可能です。
- 優れた断熱性能: 内部には省エネ型の高純度繊維状アルミナ断熱材を使用しており、消費電力を削減しつつ、構造的完全性を損なうことなく毎分最大20°Cの急速加熱を実現します。
- 強化された安全性と冷却設計: 二重構造のスチールケースと一体型デュアル冷却ファンにより、高温での長時間運転中でも外装を安全に触れる状態に保ちます。また、内蔵の過昇温保護および熱電対断線保護により、無人運転時の安全性を確保します。
- 柔軟な分割ヒンジ構造: 炉本体は頑丈なヒンジで開閉できる設計で、石英管の迅速な設置・取り外しを容易にし、処理後の試料を素早く冷却できます。これは特定の材料相の保持に重要です。
- デジタル接続性と遠隔監視: RS485通信ポートにより、PCベースのソフトウェアと連携してリアルタイムのデータ記録、プロファイル管理、遠隔監視が可能となり、研究条件の包括的な記録を実現します。
- 最適化された発熱体: Moを添加したFe-Cr-Al合金発熱体を採用し、1100°Cで連続運転しても安定した放射熱と長寿命を提供します。
用途
| 用途 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| MoS2 ドーピング・合成 | 電極触媒研究向けの Ta および Nb ドープ二硫化モリブデンの合成。 | 高精度な勾配制御により、エッジ構造の最適な調整が可能。 |
| 半導体拡散 | シリコンウエハーやセラミック基板への不純物の制御導入。 | 3ゾーン独立制御により、不純物の蒸気圧を精密に管理可能。 |
| CVD/PECVD プロセス | 化学気相成長による高品質グラフェン、カーボンナノチューブ、薄膜の成長。 | 真空気密フランジが、成膜に必要な高純度雰囲気を維持。 |
| 試料アニーリング | 金属およびセラミック試料の応力除去と結晶構造の改善。 | 均一な熱分布が熱衝撃を防ぎ、一貫した粒成長を確保。 |
| 電池材料の焼結 | 不活性または反応性ガス中での正極・負極粉末の高温処理。 | 堅牢なPID制御が、敏感な電気化学材料の相純度を確保。 |
| 熱勾配試験 | 1回の実行で、さまざまな温度範囲にわたる材料の安定性を試験。 | 6"-12"-6" のゾーン構成により、急峻または緩やかな勾配プロファイルを実現。 |
| 高純度石英処理 | 汚染を防ぐため、オプションの石英ブロックを使用した高純度熱処理。 | 繊細な化学反応中の微量元素の干渉を最小化。 |
| 粉末冶金 | 真空または還元雰囲気下での金属粉末の焼結。 | 高真空対応により酸化を防ぎ、最終部品の密度を確保。 |
技術仕様
| 項目 | TU-34シリーズの仕様 |
|---|---|
| 標準モデル番号 | TU-34 |
| 最高加熱温度 | 1200°C (< 1時間) |
| 連続使用温度 | 1100°C |
| 加熱速度 | 最大 20°C/分 |
| 温度精度 | ± 1 ºC |
| 加熱ゾーン長 | 合計: 610mm (24") / Z1: 152.4mm (6") - Z2: 304.8mm (12") - Z3: 152.4mm (6") |
| 一定温度ゾーン | 260 mm (±1ºC) / 480 mm (±2ºC) |
| 発熱体 | Mo添加Fe-Cr-Al合金 |
| 熱電対 | K型熱電対3本 |
| 電圧要件 | AC 208-240V 単相、50/60 Hz(30Aブレーカー必要) |
| 消費電力 | 最大 5 kW |
| 温度コントローラー | 30ステップのプログラム可能な 3x MTE認証PIDコントローラー |
| 真空保持性 | 10E-2 torr(機械式ポンプ)/ 10E-5 torr(ターボポンプ) |
| 標準フランジセット | SS 304、二重シリコンOリング、1/4" バーブ継手、KF25ポート |
| 筐体構造 | デュアル冷却ファン付き二重構造スチール |
モデルバリエーションと管寸法
| モデル項目 | 石英管寸法(外径 x 内径 x 長さ) | 推奨アクセサリー |
|---|---|---|
| TU-34-60 | 60 O.D x 55 I.D x 1200 L (mm) | F-T-block-52 |
| TU-34-80 | 80 O.D x 72 I.D x 1200 L (mm) | F-T-block-70 |
| TU-34-100 | 101 O.D x 92 I.D x 1200 L (mm) | F-T-block-92 |
| TU-34-130 | 130 O.D x 122 I.D x 1200 L (mm) | F-T-block-125 |
このシステムを選ぶ理由
- 比類なき熱的柔軟性: 独立した3ゾーン制御により、非常に均一な温度ゾーンを大きな試料向けに提供することも、材料輸送研究向けの複雑な勾配を作成することも可能で、卓越した柔軟性を実現します。
- 高品質な設計と構造: 産業グレードの部品と二重シェル安全設計で構成されており、継続的なR&Dおよび産業生産サイクルの厳しい条件に耐えられるよう設計されています。
- 優れた雰囲気制御: 標準のステンレス製真空フランジと高品質Oリングにより、リークのない環境を確保し、酸化に敏感な材料の合成や高純度の化学気相成長に不可欠です。
- 実証された研究性能: 本プラットフォームは、主要な学術機関や世界各地の研究機関から信頼されており、遷移金属ジカルコゲナイドや先端電極触媒に関する高インパクト研究で使用されてきました。
- 拡張可能なカスタマイズ: 複数の管径オプション(60mm〜130mm)と、マスフローメーターや高真空ステーションなどの互換性のあるモジュラーアクセサリーにより、あらゆる材料科学研究室の特定要件に合わせて調整できます。
当社のエンジニアリングチームは、お客様の特定の熱処理ニーズに合わせたカスタム構成や技術統合をサポートする準備ができています。技術相談やお見積りは、ぜひ本日お問い合わせください。
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