CVDおよび材料焼結用3ゾーン高温真空管状炉

管状炉

CVDおよび材料焼結用3ゾーン高温真空管状炉

商品番号: TU-GS06

最高温度: 1700°C(中心区域)/ 1400°C(外部区域) 制御精度: ±1°C 真空度: 最大10^-3 Pa
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製品概要

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この高性能3ゾーン管状炉は、先端材料科学研究および工業生産において、究極の熱処理の柔軟性を提供するよう設計されています。独立して制御される3つの加熱セクションを利用することで、より長く安定した恒温ゾーンの作成や、複雑な化学気相成長(CVD)および昇華プロセスに必要な精密な温度勾配の設定が可能です。水平構成と洗練された二重シェルハウジングの組み合わせにより、中央ゾーンで最大1700°Cの内部温度を維持しながら、外表面を触れても安全な温度に保ちます。

過酷なラボおよび産業環境向けに設計された本システムは、大学、研究機関、鉱業企業にとっての主要な選択肢です。高温焼結、真空アニール、制御雰囲気下での実験に優れています。高純度多結晶アルミナファイバー断熱材と高度な加熱エレメントの統合により、急速な昇温・降温が可能となり、スループットとエネルギー効率が大幅に向上します。本装置は一貫性のある再現性の高い結果をもたらし、重要な研究データや生産バッチが最も厳しい品質基準を満たすことを保証します。

信頼性は、この熱処理システムの中核です。ステンレス鋼製真空フランジから精密PIDコントローラーに至るまで、すべてのコンポーネントは、連続運転下での長期耐久性を考慮して選定されています。堅牢な設計は10⁻³ Paまでの真空レベルに対応し、還元ガスや不活性ガスを含むさまざまな雰囲気をサポートします。日常的な熱処理から複雑な材料合成まで、本装置はハイレベルな研究開発に必要な技術的精度と構造的完全性を提供します。

主な特徴

  • 独立制御可能な3ゾーン加熱: 3つの独立した加熱セクションを備えており、それぞれ異なる温度に設定可能です。これにより、管端での熱損失を補償し、超広域の恒温フィールドや、蒸気輸送用途向けのカスタマイズされた温度勾配を作成できます。
  • 高度なデュアルエレメント構成: 広範囲な温度域で最適な性能を発揮するため、外側ゾーン(ゾーン1および3)には高品質な炭化ケイ素(SiC)ロッド、中央ゾーン(ゾーン2)には高純度二ケイ化モリブデン(MoSi2)ロッドを採用し、最大1700°Cまでの安定した動作を実現しています。
  • 精密ソフトウェア制御システム: 日本の島電(Shimaden)製FP93プログラム調節計を搭載し、40セグメントの温度制御が可能です。統合された通信インターフェースにより、PCでのリアルタイム監視、データロギング、曲線プロットが可能で、熱サイクルの完全なトレーサビリティを保証します。
  • 高性能真空シール: 二重層シリコンOリング技術とステンレス鋼製フランジを採用し、優れた気密性を維持します。システムは12時間以上真空圧を保持できるよう設計されており、高真空レベルでの繊細なプロセスをサポートします。
  • 優れた断熱性能: チャンバーには、高い反射率、低い熱質量、耐収縮性で知られる高品質なアルミナ多結晶ファイバーが内張りされています。これにより、温度フィールドのバランスを保ち、粉塵の飛散を防いで処理環境の純度を維持します。
  • 包括的な安全保護: 内蔵のトラベルスイッチにより、炉のカバーを開けると自動的に電源が遮断されます。さらに、漏電保護、過熱アラーム、自動回路遮断機能が含まれており、オペレーターと内部コンポーネントの両方を保護します。
  • 堅牢なガスハンドリング: 正確なガス供給のための標準的なフロート流量計が含まれています。CVDや還元プロセス中のより正確な自動雰囲気管理のために、デジタル質量流量コントローラー(マスフローコントローラー)へアップグレード可能です。
  • 位相シフトトリガーサイリスタ制御: この高度な電力調整方式により、加熱エレメントへのスムーズな電力供給が確保され、標準的なオン/オフスイッチングと比較して寿命が延び、より安定した温度遷移を実現します。
  • 構造的耐久性: 特殊なフランジブラケットの採用により、真空ハードウェアの重量によるコランダムプロセスチューブへの機械的ストレスを排除し、消耗品の寿命を大幅に延ばします。
  • 多用途なフランジインターフェース: 標準のステンレス鋼製フランジには、真空計、KF25ベローズ、ガスバルブ用のポートが装備されており、さまざまな実験ニーズに合わせてシステム構成をモジュール化できます。

用途

用途 説明 主なメリット
化学気相成長 (CVD) 気相前駆体を用いたカーボンナノチューブ、グラフェン、薄膜の合成。 基板全体にわたるガス分解および堆積速度の精密な制御。
拡散アニール Fe-Ni-Cuやその他の先端合金の1000°Cでの均質化による内部応力の除去。 優れた均一性により拡散速度の偏差を防ぎ、構造的一貫性を確保。
カーボンナノチューブグラフト 複合材料補強用に、大規模なカーボンファイバー束へナノチューブを成長させる。 ファイバー束の全長にわたり最適な触媒温度を維持。
窒素ドープ 半導体材料や炭素構造への窒素原子の精密な導入。 独立したゾーン制御により、調整されたドープ比と反応速度論を実現。
真空焼結 高純度かつ無酸素環境下でのセラミックまたは金属粉末の固化。 酸化を防ぎ、最終焼結体の密度と純度を向上。
雰囲気熱処理 還元(例:水素)または不活性(例:アルゴン)ガス環境下での材料処理。 確実なシールと流量制御により、安全で安定した雰囲気条件を実現。
高温恒温試験 一定温度下での材料の長期熱安定性試験。 3ゾーン設定により端部冷却を排除し、使用可能な炉内中央部を拡大。
結晶成長 蒸気輸送やブリッジマン法による結晶成長のための温度勾配の利用。 非常に安定した調整可能な温度勾配により、高品質な結晶形成を促進。

技術仕様

パラメータ TU-GS06-I TU-GS06-II TU-GS06-III
最高温度 ゾーン1: 1400°C / ゾーン2: 1700°C / ゾーン3: 1400°C ゾーン1: 1400°C / ゾーン2: 1700°C / ゾーン3: 1400°C ゾーン1: 1400°C / ゾーン2: 1700°C / ゾーン3: 1400°C
定格温度 ゾーン1: 1350°C / ゾーン2: 1700°C / ゾーン3: 1350°C ゾーン1: 1350°C / ゾーン2: 1700°C / ゾーン3: 1350°C ゾーン1: 1350°C / ゾーン2: 1700°C / ゾーン3: 1350°C
管寸法 (外径x長さ) 直径60mm x 1500mm 直径80mm x 1500mm 直径100mm x 1500mm
加熱エレメント Z1/Z3: SiCロッド; Z2: MoSi2ロッド Z1/Z3: SiCロッド; Z2: MoSi2ロッド Z1/Z3: SiCロッド; Z2: MoSi2ロッド
熱電対タイプ Sタイプ (Z1/Z3) / Bタイプ (Z2) Sタイプ (Z1/Z3) / Bタイプ (Z2) Sタイプ (Z1/Z3) / Bタイプ (Z2)
定格出力 10 KW 10 KW 10 KW
電圧 / 相 380V / 三相 380V / 三相 380V / 三相
昇温速度 推奨 ≤10°C/分 (最大 ≤20°C/分) 推奨 ≤10°C/分 (最大 ≤20°C/分) 推奨 ≤10°C/分 (最大 ≤20°C/分)
制御精度 ± 1 ℃ ± 1 ℃ ± 1 ℃
加熱長さ 各ゾーン210mm 各ゾーン210mm 各ゾーン210mm
恒温長さ 各ゾーン80-100mm 各ゾーン80-100mm 各ゾーン80-100mm
チャンバー材質 多結晶アルミナファイバー 多結晶アルミナファイバー 多結晶アルミナファイバー
トリガータイプ 位相シフトトリガー 位相シフトトリガー 位相シフトトリガー
真空レベル (標準) 約10 Pa (2XZ-2ポンプ) 約10 Pa (2XZ-2ポンプ) 約10 Pa (2XZ-2ポンプ)
真空レベル (高) 最大10⁻³ Pa (分子ポンプシステム) 最大10⁻³ Pa (分子ポンプシステム) 最大10⁻³ Pa (分子ポンプシステム)
コントローラー 島電 FP93 (40プログラム) 島電 FP93 (40プログラム) 島電 FP93 (40プログラム)
表面温度 ≤ 45℃ ≤ 45℃ ≤ 45℃

この3ゾーン管状炉を選ぶ理由

  • 優れた温度均一性: 3つの独立した加熱ゾーンを個別に調整できるため、管端での自然な放熱を補償し、シングルゾーンの代替品よりも大幅に広く正確な恒温処理エリアを提供します。
  • 精密エンジニアリングと品質: SEMIKRON製サイリスタから日本の島電製コントローラーまで、すべての重要な電気コンポーネントは業界をリードするメーカーから調達されており、長期的な動作信頼性と精度を保証します。
  • 統合された安全性と監視: 機械的安全スイッチ、漏電保護、PCソフトウェアによるリアルタイム監視の組み合わせにより、高温実験のための安全な環境を構築し、機器の故障やサンプルの損失リスクを低減します。
  • カスタマイズ可能な雰囲気および真空オプション: 通常の真空用のメカニカルポンプが必要な場合でも、高純度環境用のドイツ製分子ポンプが必要な場合でも、本システムは特定の真空システムやガス流量コントローラーでカスタマイズ可能です。
  • 消耗品の長寿命化: 当社独自のフランジサポートブラケットシステムは、ステンレス鋼製シーリングハードウェアの重量を支えることでコランダムチューブの損傷を防ぎます。これは、低品質な設計でよく見られる故障原因です。

本装置は、貴施設の熱処理能力へのプレミアムな投資であり、工業的な研究開発の過酷な環境に耐えつつ、比類のない精度を提供するよう設計されています。正式な見積もりや、特定の材料科学用途に合わせたカスタマイズ構成については、当社のエンジニアリングチームまでお問い合わせください。

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