1700℃ 高温3ゾーン管状炉(アルミナ管・水冷フランジ付)

管状炉

1700℃ 高温3ゾーン管状炉(アルミナ管・水冷フランジ付)

商品番号: TU-85

最高温度: 1700 °C 加熱ゾーン構成: 3ゾーン(全長610 mm) 温度均一性: 300 mm @ 1600 °C
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製品概要

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この高温3ゾーン管状炉は、材料科学および産業用R&Dにおける熱処理技術の頂点を示す製品です。最高使用温度1700℃に達するように設計されており、厳密に制御された雰囲気下で複雑な熱処理を行う能力を研究者に提供します。本製品の最大の価値は、3ゾーン加熱構造にあります。これにより熱勾配を前例のないレベルで制御でき、従来の単一ゾーン装置と比較して、より長く安定した恒温ゾーンを確保します。このレベルの精度は、わずかな温度変動が実験の完全性を損なう可能性のある重要なプロセスにおいて不可欠です。

本装置は、先端半導体ナノワイヤの成長、特殊合金の均質化、テクニカルセラミックスの焼結といった、高い要求が求められる用途向けに特別に設計されています。真空および多様なガス環境をサポートする汎用性の高いプラットフォームを提供することで、研究室は異なる研究プロトコル間をシームレスに移行できます。対象となる産業には、航空宇宙、マイクロエレクトロニクス、再生可能エネルギーが含まれ、現代の性能基準を満たすために極限条件下で材料を試験・改良する必要があります。

継続的な産業および研究室での使用に耐えうるよう、強制空冷技術を統合した堅牢な二重層スチールケースを採用しています。この設計により、内部チャンバーが極限温度に達しても外装は安全に触れる温度に保たれ、生産的で安全な作業環境を維持します。高純度アルミナ断熱材とMoSi2発熱体により、長期的な運用信頼性と一貫した性能を実現しており、あらゆる高温研究施設にとっての基盤となる投資となります。

主な特徴

  • 独立制御可能な3ゾーン加熱: 左、中央、右の3つの独立した加熱ゾーンを備え、それぞれに個別のPIDコントローラーを搭載しています。この構成により、カスタムの熱プロファイルを作成したり、300mmの均熱ゾーンを大幅に拡張したりすることが可能で、大量処理や長尺結晶成長に不可欠です。
  • 高性能MoSi2発熱体: 14本の二ケイ化モリブデン(MoSi2)発熱体を装備し、急速昇温と1700℃までの安定した温度維持を実現します。これらの発熱体は、高温環境下での優れた耐酸化性と長寿命を考慮して選定されています。
  • 精密な雰囲気管理: 高品質な真空シールを備えた水冷式ステンレス製フランジを採用しています。統合された1/4インチのガス入出力ポートとKF25真空ポートにより、化学気相成長(CVD)やアニールプロセスに必要な密閉環境を維持できます。
  • 優れた断熱性能: 高純度繊維状アルミナ断熱材を使用することで、熱損失を最小限に抑え、エネルギー効率を最大化しています。この高度な断熱パッケージにより、素早い昇温と長時間保持時の優れた温度安定性を保証します。
  • 高度な安全性と冷却: 二重壁スチールハウジングには強制空冷システムが組み込まれており、外殻温度を70℃以下に保ちます。さらに、過熱や熱電対の故障から保護する安全インターロックが内蔵されており、装置とオペレーターの安全を確保します。
  • 柔軟なチューブ寸法: サンプルサイズや処理量に合わせて、外径50mm、60mm、または80mmの高純度アルミナ管に対応しています。この柔軟性により、研究者は特定の実験形状に合わせて炉を最適化できます。
  • プログラム可能なPIDコントローラー: 3つの各ゾーンは、加熱・保持・冷却サイクルの精密な制御が可能な30セグメントプログラム対応のデジタルコントローラーによって管理されます。この自動化により、手動操作を減らし、複数回の実行間で再現性のあるプロセス結果を保証します。
  • 洗練された真空接続: プッシュ接続式の水ポート、およびバルブとメーターを内蔵した真空シールフランジにより、真空処理中の迅速なセットアップと内部圧力の精密な監視が可能です。

用途

用途 説明 主なメリット
半導体ナノワイヤ成長 3つのゾーンで特定の熱ステージを設定し、酸化ガリウム(Ga2O3)などのナノワイヤ成長を促進。 触媒の合金化と軸方向の成長を最適化し、優れた形態規則性を実現。
冶金アニール 最大1000℃までのFe-Ni-Cu合金の均質化および拡散アニールに使用。 サンプル全体に均一な熱履歴を提供し、拡散速度の偏差を排除。
セラミックス焼結 制御された雰囲気下でのテクニカルセラミックスおよび先端複合材料の高温焼成。 精密な昇温・保持制御により、一貫した密度と構造的完全性を確保。
CVD / PECVDプロセス ガス流と真空を必要とする化学気相成長実験の熱反応器として機能。 密閉シールにより汚染を防ぎ、安定した反応環境を提供。
材料劣化試験 航空宇宙部品や産業用コンポーネントを1650℃以上の環境に長時間曝露。 極限の運用条件を高い再現性でシミュレートし、耐久性を検証。
結晶成長 高純度結晶を合成するための気相輸送および方向性凝固技術。 高品質な結晶形成に必要な温度勾配を精密に制御可能。

技術仕様

パラメータグループ 仕様詳細 TU-85シリーズ値
最高温度 短時間(1時間未満) 1700 °C
連続使用温度 長時間運転 1650 °C
真空使用温度 真空条件下 1500 °C
加熱ゾーン 構成 3ゾーン:195mm (左) / 220mm (中) / 195mm (右)
総加熱長 合計ゾーン 610 mm
均熱ゾーン @ 1600 °C 300 mm
発熱体 種類と数量 MoSi2発熱体 14本
処理チューブ 材質とサイズ 99.8%アルミナ; 外径 50, 60, 80 mm x 長さ 1200 mm
温度制御 精度とセグメント ± 1 ºC; ゾーンごとに30プログラムセグメント
熱電対 センサータイプ B型 (Pt-Rh)
電源要件 電圧と相数 208-240 VAC, 3相 (380-415 VACはオプション)
定格電力 最大消費電力 15 kVA / 50 A
真空インターフェース ポートタイプ KF25(水冷ステンレスフランジ付)
ガスインターフェース 接続 1/4" 圧縮チューブ継手
冷却システム 冷却ポート Ø12 mm プッシュ接続式(水入出力用)
安全機能 保護システム 過熱保護、熱電対断線インターロック、空冷式外殻
アップグレードオプション 1800 °Cモデル Kanthal 1900°C発熱体および1900°C対応アルミナ断熱材で対応可能

高温3ゾーン管状炉を選ぶ理由

  • 比類なき熱精度: 3ゾーン構造により、端部での熱損失を補正し、高精度な材料研究や産業スケールアップに不可欠な均一な温度場を提供します。
  • 最高水準のエンジニアリング: 二ケイ化モリブデン発熱体から水冷式ステンレスフランジに至るまで、すべてのコンポーネントは極限の熱的・化学的ストレスに耐えられるよう選定されています。
  • 設計による汎用性: 高真空、不活性ガスブランケット、結晶成長のための特定の熱勾配など、どのようなプロセスであっても、本システムは技術的要件に容易に適応します。
  • 実証済みの長期信頼性: 高品質なアルミナ断熱材と二重シェル構造の使用により、構造疲労を防ぎ、繊細な電子部品を保護することで、長年にわたる運用で高い投資収益率を保証します。
  • 専門的なカスタマイズとサポート: ±0.1ºCの精度を誇るEurothermコントローラーや、リモートデータロギングおよびレシピ管理のためのLabviewベースのソフトウェアなど、オプションのアップグレードを提供しています。

最も要求の厳しいR&Dプロジェクトにおいて、一貫性と精度を保証する熱処理ソリューションに投資しましょう。詳細な見積もりや、特定のプロセス要件に合わせたカスタム構成については、当社の技術営業チームまで今すぐお問い合わせください。

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