製品概要
この高温真空管状炉は、材料科学および産業用R&Dラボ向けに特別に設計された、コンパクトな熱処理装置の最高峰です。本システムは最大1750℃までの安定した高温環境を提供するよう設計されており、新材料サンプルの焼結、化学気相成長（CVD）プロセス、および高度な熱処理を行うための不可欠なツールです。スウェーデン製の高品質ヒーターと洗練されたアルミナ断熱材を統合することで、繊細な雰囲気制御や真空操作に必要な極めてクリーンな加熱環境を提供します。
本装置の主な用途は、電子機器、航空宇宙、エネルギー貯蔵産業など、研究者が試料の熱履歴を正確に制御する必要がある分野に及びます。全固体電池の研究から高性能テクニカルセラミックスの開発まで、本システムはさまざまなガス条件や高真空レベルでの操作に対応する汎用性を備えています。コンパクトな設置面積により、過酷な産業用途で期待される性能や安全基準を犠牲にすることなく、スペースの限られた実験室環境にも統合可能です。
本装置への信頼は、厳格なエンジニアリングと高仕様コンポーネントの採用によって築かれています。炉は厳しい安全基準を満たすように事前構成されており、UL/CSA認証に対応可能で、国際的な実験室安全プロトコルへの準拠を保証します。二重層スチールケーシングと統合された冷却ファンが優れた熱管理を実現し、長時間の高温サイクル中でも外表面を安全な温度に保ちます。この堅牢性と精密なデジタル制御インターフェースの組み合わせにより、最も要求の厳しい研究条件下でも一貫した結果と長期的な運用信頼性を保証します。
主な特長
- 優れた加熱性能: スウェーデン製Kanthal Super-1800 MoSi2ヒーターを4本搭載し、最大10℃/分の急速昇温を実現。1720℃での連続運転が可能で、特殊なプロセス向けには最高1750℃まで到達します。
- 高精度SCR電力制御: 位相角制御方式のシリコン制御整流器（SCR）を採用し、標準的なソリッドステートリレーと比較して大幅に高い精度と安定性を提供します。この高度な電力管理によりヒーターへの熱衝撃が軽減され、寿命が延びるとともに±1℃の制御精度を確保します。
- 高度なアルミナ処理チャンバー: 米国製の最高品質アルミナ処理管（純度99.9%以上）を採用。材料の汚染を防ぎつつ、極端な熱勾配に耐える構造的完全性を備えています。
- インテリジェントな温度プログラミング: 統合されたデジタルコントローラーは30セグメントのプログラム機能を備えており、昇温速度、保持時間、冷却曲線の正確なカスタマイズが可能です。このレベルの制御は、複雑な焼結プロファイルや再現性のある実験結果を得るために不可欠です。
- 熱効率と安全性の向上: デュアル内部冷却ファンを備えた二重層スチールケーシングにより、外殻温度を60℃以下に維持します。高純度アルミナ耐火断熱材との組み合わせにより、エネルギー節約を最大化し、実験担当者を保護します。
- 柔軟な雰囲気管理: 二重シリコン高温Oリングを備えたステンレス製真空シールフランジを装備。統合されたニードルバルブとダイヤル真空計により、真空、不活性ガス、還元雰囲気の操作を即座に切り替え可能です。
- 産業グレードの接続性: 内蔵のRS485通信ポートにより、PC経由での遠隔操作とデータロギングが可能です。オプションの制御モジュールを装備すれば、外部ワークステーションから熱プロセスを監視・制御でき、常時手動監視の必要性を軽減します。
- 堅牢な真空完全性: フランジシステムは、標準的な機械式ポンプで50 mTorr、ターボ分子ポンプとの組み合わせで10^-5 Torrという低真空レベルに到達可能で、高純度材料処理に必要なクリーンな環境を提供します。
用途
| 用途 | 説明 | 主なメリット |
|---|---|---|
| 全固体電池研究 | 不活性ガス雰囲気下での高温におけるセラミック電解質および電極材料の焼結。 | 湿気による汚染を防ぎ、結晶構造の完全性を保証します。 |
| 先端セラミックス | アルミナやジルコニアなどの高性能テクニカルセラミックスの精製および焼結。 | 均一な温度分布により、安定した結晶成長と密度を実現します。 |
| 半導体CVD | 制御された真空管内での基板上への薄膜の化学気相成長。 | 高真空能力と正確な昇温速度により、膜厚の均一性を確保します。 |
| 触媒合成 | 特定のガス環境下での触媒担体の高温焼成および還元。 | 30セグメントのプログラミングにより、正確な多段階合成レシピが可能です。 |
| 核材料R&D | 極端な熱応力下における燃料ペレット代替材および被覆材の試験。 | 長時間の熱サイクル中でも安全な封じ込めと信頼性の高い動作を実現します。 |
| 航空宇宙冶金 | 高温合金および特殊金属コーティングの真空焼鈍。 | 酸化を最小限に抑え、処理された合金の機械的特性を向上させます。 |
| 電子部品 | 積層セラミックコンデンサ（MLCC）および高出力電子基板の同時焼成。 | 再現性の高い熱プロファイルにより、高い歩留まりと部品の信頼性を確保します。 |
技術仕様
| 仕様カテゴリ | パラメータ詳細 | TU-77の数値 |
|---|---|---|
| 熱性能 | 最高温度 | 1750ºC（2時間未満） |
| 連続使用温度 | 800ºC - 1720ºC | |
| 昇温速度 | 最大10ºC / 分 | |
| 加熱ゾーン長 | 120 mm | |
| 均熱ゾーン | 60mm（1500ºCで± 5ºC） | |
| 加熱・電力 | ヒーター | Kanthal Super-1800 MoSi2（長さ270mm、4本） |
| 最大消費電力 | 3 KW | |
| 入力電圧 | 単相、220V AC、50/60 Hz（30Aが必要） | |
| 雰囲気・チューブ | チューブ材質 | 最高品質高純度（>99.9%）Al2O3 |
| チューブ寸法 | 内径54mm x 外径60mm x 長さ790mm | |
| 真空レベル | 50 mTorr（機械式）/ 10^-5 Torr（ターボ） | |
| シールフランジ | ステンレス製、二重シリコンOリング付き | |
| 接続ポート | 1/4インチバーブ継手（ニードルバルブ付き） | |
| 制御・精度 | コントローラータイプ | 30セグメントPID（SCR電力制御付き） |
| 温度精度 | ± 1ºC | |
| 安全機能 | 過熱アラーム、自動シャットオフ、位相角制御 | |
| データ通信 | RS485ポート（PC制御モジュールはオプション） | |
| 機械的特徴 | 炉ケーシング | 二重層スチール、空冷式（外側60ºC未満） |
| 断熱材 | 高純度アルミナ耐火チャンバー | |
| コンパクトな設置面積 | 600mm x 600mmの移動式カートに最適化 |
TU-77を選ぶ理由
この熱処理システムへの投資は、貴社のラボに産業グレードの精度と長期的な信頼性をもたらします。標準的な実験用炉とは異なり、本装置はKanthal製ヒーターとSCR電力制御を採用しており、これらは熱安定性を確保し、長年の運用におけるメンテナンスコストを削減するために、ハイエンドの産業システムで一般的に使用されるコンポーネントです。
- 精密エンジニアリング: 米国製アルミナ管からスウェーデン製ヒーターに至るまで、すべてのコンポーネントは、限界に近い温度でも一貫した性能を発揮できるよう厳選されています。
- 運用安全性: アクティブ空冷システムと洗練されたアラームシステムを備えた安全第一の設計により、長時間の熱サイクル中でも無人運転が可能です。
- カスタマイズ可能なインフラ: オプションのPC制御モジュール、高真空ステーション、ガス混合システムにより、プロジェクトの進化に合わせて研究ニーズを満たすよう装置を最適化できます。
- 検証済みのコンプライアンス: 認証施設への統合を容易にする設計となっており、機関のコンプライアンス要件を満たすためのNRTLまたはCSA認証オプションも用意されています。
- 将来を見据えた研究: 高温（1750℃）と真空能力の組み合わせにより、研究トレンドがより極端な処理条件へと移行しても対応可能な、汎用性の高い資産となります。
詳細な見積もりをご希望の場合、または特定の研究要件に合わせたカスタム仕様のご相談については、今すぐ弊社の技術営業チームまでお問い合わせください。
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい！
関連製品
Kanthal Super 1800 発熱体と60mmアルミナ処理管を備えた1750°C高温卓上真空雰囲気管状炉
Kanthal Super-1800発熱体と高純度アルミナ管を備えた高性能1750°C真空管状炉。精密な材料研究に最適で、本システムは±1°Cの精度と30セグメントのプログラム制御を提供し、要求の厳しい実験室での熱処理および雰囲気制御下での焼結に対応します。
1800°C 高温コンパクト真空管状炉（60mm外径アルミナ管およびKanthal MoSi2発熱体搭載）
この1800°C高温コンパクト真空管状炉は、高品質なKanthal製発熱体と60mm外径のアルミナ管を備えています。材料研究や焼結用に設計されており、研究開発ラボ向けに真空または制御雰囲気下での精密な熱処理を提供します。
高温1700℃ スプリットチューブ炉（真空フランジ・バルブ、60mmアルミナ管付き）
60mmアルミナ管と真空フランジを備えた、この高温1700℃スプリットチューブ炉で精密な材料加工を実現します。厳格な研究環境において、精密な雰囲気制御、高度なPIDプログラミング、信頼性の高い高純度熱処理を必要とするR&D用途に最適です。
1700℃ 高温アルミナ管状炉（18インチ加熱ゾーンおよび真空シールフランジ付き）
このプロ仕様の1700℃管状炉は、18インチの加熱ゾーンと高純度アルミナチューブを備え、先端材料研究に最適です。真空および制御雰囲気下での使用を想定して設計されており、過酷な産業用研究プロセスにおいて卓越した熱安定性と信頼性を発揮します。
1700℃水素ガス管状炉 60mmアルミナプロセスチューブ一体型水素安全検知器付き
この高温1700℃水素ガス管状炉は、実験室の安全性を最大限に確保するため、60mmアルミナチューブと電磁遮断弁付きの一体型ガス検知器を搭載しています。可燃性雰囲気または不活性雰囲気環境での材料合成と熱処理用に設計されています。
二重層ボックス焼結と制御雰囲気アルミナチューブを備えた1700℃コンパクトハイブリッド炉
この業務用1700℃コンパクトハイブリッド炉は、一体型アルミナチューブによる二重層空気焼結および制御雰囲気処理を特長としています。省スペースで高性能な構成により、材料研究や産業用熱処理に優れた熱均一性を提供します。
高温1600℃ 分割型チューブ炉 真空フランジ・バルブ付 オプション：60mm/80mmアルミナチューブ
真空フランジ、バルブ、高精度PID制御を備えた高性能1600℃分割型チューブ炉です。60mmまたは80mmのアルミナチューブに対応し、先端材料の研究開発における雰囲気制御熱処理や高真空処理環境に最適です。
材料焼結用50mmアルミナ管および真空フランジ付きコンパクト高温1600℃管状炉
50mmアルミナ管と真空フランジを備えた、このコンパクトな高温1600℃管状炉で研究室の能力を強化しましょう。材料焼結や化学研究に最適で、産業用R&D用途向けに精密な熱処理と卓越した信頼性を提供します。
5インチ加熱ゾーン、高純度アルミナチューブ、真空シーリングフランジ付き 1700℃ 高温卓上チューブ炉
この1700℃の高温チューブ炉は、先進材料研究向けに5インチの加熱ゾーンとアルミナチューブを備えています。焼結、焼なまし、化学気相成長のために、精密な雰囲気制御と50 mTorrまでの真空レベルを実現します。
高温ハイブリッドマッフル・管状炉 1700℃ プログラマブルPID制御ボックスシステム（真空フランジおよびアルミナ加工チューブ付き）
ボックス炉と管状炉の機能を兼ね備えた、この汎用性の高い1700°Cハイブリッド炉で研究室のスペースを最適化しましょう。30セグメントのプログラム制御と高真空対応機能を備えており、要求の厳しい材料科学の研究開発環境における精密熱処理に最適なソリューションです。
材料研究用 1700℃ ハイブリッド高温チューブ・ボックス炉（2インチアルミナチューブ付）
この1700℃ハイブリッド炉は、ボックス炉とチューブ炉の機能を兼ね備え、真空または制御雰囲気下での材料研究を可能にします。高純度アルミナ断熱材とMoSi2発熱体を採用し、要求の厳しいラボの研究開発や産業用途に精密な熱処理を提供します。
粉末球状化・材料焼結用 高温1700℃縦型チューブ炉
本1700℃縦型チューブ炉システムは、電池電極や3Dプリンティング向け粉末球状化処理を最適化します。自動フィーダーと双区域制御を搭載し、真空または制御雰囲気下での高純度加工を実現し、産業用材料研究の高度なニーズに応えます。
高温1700℃ 4チャンネルチューブ炉 1インチアルミナチューブ ハイスループットアニーリング用
独立温度制御と一体型アルミナチューブを搭載したこの4チャンネル1700℃チューブ炉で材料研究を革新しましょう。コンパクトな実験室対応フットプリントでハイスループットアニーリングと熱処理を実現し、急速な材料開発と産業用合金合成に最適化されています。
高温1700℃管状炉（4インチ外径アルミナ管および真空シールフランジ付き）
4インチ外径のアルミナ管と精密なMoSi2発熱体を備えた高性能1700℃管状炉。高度なPID制御と堅牢な雰囲気シール機能を備え、材料研究、化学焼結、真空熱処理など、産業用研究開発に最適です。
高温1700℃ 6ゾーン分割型チューブ炉（アルミナチューブ、⽔冷フランジ付き）
材料研究および産業用蒸着用途向けに設計された高精度1700℃六ゾーン分割型チューブ炉です。この多用途システムは、独立した温度ゾーン制御と真空対応フランジを備え、一貫した熱処理と高度な材料開発要件に対応し、最大限の性能を実現します。
高温1700℃チューブ炉（高真空ターボ分子ポンプシステムおよびマルチチャンネルマスフローコントローラーガスミキサー搭載）
この先進的な高温1700℃チューブ炉は、精密ターボ分子高真空ポンプシステムとマルチチャンネルマスフローコントローラーガスミキサーを統合しており、要求の厳しい産業用R&D環境における高度なCVD、拡散、材料研究に卓越したパフォーマンスを提供します。
一体型ターボポンプシステムと8インチ加熱ゾーンを備えた1200℃高真空コンパクトチューブ炉
この1200℃高真空コンパクトチューブ炉は、10^-5 torrを実現する一体型ターボポンプシステムを搭載しています。材料科学の研究開発に最適で、精密なPID制御、8インチの加熱ゾーン、そして処理用の堅牢な石英管構造を備えています。
統合真空システムおよび精密温度校正器付きコンパクト分割管状炉
統合真空システムと精密温度校正器を備えた、この高性能コンパクト分割管状炉で材料研究を強化しましょう。要求の厳しい実験室用途や高度な産業用熱処理プロセスにおいて、最大1200°Cまでの優れた熱均一性と高精度な温度制御を実現します。
80mmアルミナ管採用 垂直型1700℃真空・雰囲気制御チューブ炉
この高精度垂直型チューブ炉は、材料合成のために最高1700℃までの卓越した熱均一性を実現します。80mmのアルミナ管と高度な真空シールフランジを備え、要求の厳しい産業用R&Dや特殊な熱処理プロセスに安定した雰囲気を提供します。
貴金属溶解および材料研究用 高真空対応1100℃コンパクトトップローディング式縦型真空管状炉
この1100℃コンパクトトップローディング式縦型真空管状炉は、貴金属の溶解や材料研究に高真空環境を提供します。精密なPID制御と高耐久ヒーターを備え、要求の厳しい研究開発や産業用熱処理アプリケーションにおいて、信頼性の高い安定した性能を発揮します。
