製品概要
この高温処理システムは、精密さが求められる材料科学および産業研究のために設計された専門的な熱ソリューションです。分割管状構造と統合された真空環境を組み合わせることで、複雑な実験セットアップの完全性を損なうことなく、サンプルの迅速な出し入れが可能です。本システムは最大1200°Cまでの均一加熱を促進するように設計されており、アニーリング、焼結、化学気相成長（CVD）プロセスなど、最終的な材料特性のために雰囲気制御が不可欠なプロセスにおいて安定したプラットフォームを提供します。
高度な研究機関や産業用R&D施設を対象としており、学際的な研究に必要な柔軟性を備えています。半導体ウェハーの処理から新しい電池化学の開発まで、信頼性が高く再現性のある熱環境を提供します。専用の温度校正アセンブリが含まれているため、ユーザーは内部の管温度をリアルタイムで検証でき、設定パラメータと実際のサンプル曝露条件とのギャップを埋めることができます。
耐久性と長期的な運用の一貫性を考慮して構築されており、頑丈なスチール製ケーシングと高純度アルミナ繊維断熱材を採用しています。この組み合わせにより、優れたエネルギー効率を確保するだけでなく、高温サイクル中でも外部表面温度を低く保ちます。堅牢な設計は安全性と精密さへのこだわりを反映しており、現代の材料研究や産業用熱処理の厳しい基準を満たす、信頼性の高い高性能熱処理ユニットを求める調達チームにとって不可欠な資産となります。
主な特徴
- 精密な分割管状設計： 長手方向に開くチャンバーにより、プロセスチューブへのアクセスが容易になり、真空フランジやガスラインを完全に取り外すことなく、サンプルや組み立て済みの実験装置を迅速に挿入できます。
- 高度なPID温度制御： 30のプログラム可能なセグメントを備えた高精度PIDコントローラーを使用しており、±1°Cの厳密な熱精度を確保し、特定の材料要件に合わせた複雑な昇温・保持プロファイルが可能です。
- 統合型高真空システム： 156 L/minのダブルステージロータリーベーン真空ポンプと排気ろ過装置を備え、1E-2 Torrまでの真空レベルを達成可能で、制御された環境下での汚染のない処理を実現します。
- リアルタイム温度校正： NIST標準のOMEGA K型熱電対とデジタル校正器が統合されており、オペレーターは内部のサンプル温度を直接測定できるため、実験データとプロセスの再現性に対する高い信頼性が得られます。
- 優れた断熱性能： チャンバーはエネルギー効率の高いAl2O3繊維断熱材で裏打ちされており、熱損失と消費電力を削減しながら、最大10°C/minの迅速な加熱速度を実現し、実験室のスループットを向上させます。
- 両側雰囲気制御： 1/4インチバーブガス入口とKF25ガス出口を備えたステンレス製真空フランジにより、真空操作とガスフロー雰囲気の両方をサポートし、多様な化学的・物理的気相成長プロセスに対応します。
- モリブデン添加高性能ヒーター： モリブデンを添加して強化されたFe-Cr-Al合金ヒーターは、最大1200°Cまでの温度で長寿命かつ一貫した性能を発揮するように設計されており、酸化や熱疲労に耐性があります。
- モジュール式真空フランジ組立： 頑丈なステンレス製フランジには、統合された真空計と高温シールが含まれており、高温での長期的な高真空運用時にも迅速な組み立てと信頼性の高いシールが可能です。
- 統合された安全性とモニタリング： 放射熱損失を防ぐための内部安全ブロックが含まれており、PC経由でのリアルタイムデータログ記録やリモートレシピ管理のためのオプションの監視ソフトウェアと統合可能です。
用途
| 用途 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| 半導体アニーリング | 真空または不活性ガス雰囲気中でシリコンウェハーや薄膜を処理し、電気的特性を変化させる。 | ±1°Cの精密制御により、ウェハー特性の均一性を確保。 |
| 電池材料合成 | 制御された圧力下で正極/負極粉末を焼成・焼結し、イオン伝導性を最適化する。 | 真空環境が敏感なリチウム化合物の酸化を防止。 |
| カーボンナノチューブ成長 | CVDプロセスを利用して、石英管内の様々な基板上にカーボンナノ構造を成長させる。 | 分割設計により、繊細な基板の取り出しが容易。 |
| 金属熱処理 | 汚染のない真空中で金属合金や小型部品の焼き戻しや応力除去を行う。 | 内部校正器により、サンプルの正確な中心温度監視が可能。 |
| セラミック焼結 | セラミック粉末を高温で圧密し、高密度の構造部品にする。 | 繊維断熱材が安定した昇温をサポートし、ひび割れのないセラミック製造を実現。 |
| 触媒特性評価 | 特定のガス流組成下で化学触媒の熱安定性と反応性を試験する。 | デジタル校正器によるリアルタイム監視で正確な反応データを取得。 |
| 航空宇宙材料試験 | 高度や極限の熱環境をシミュレートするために、先進合金に熱サイクルを負荷する。 | 高い加熱速度により、迅速な熱衝撃シミュレーションが可能。 |
技術仕様
| パラメータ | TU-18の仕様 |
|---|---|
| モデル識別子 | TU-18 |
| ケーシング材質 | 頑丈なスチール、Al2O3繊維断熱材付き |
| 総電力 | 1.75 KW |
| 入力電圧 | AC 110V、単相、50/60 Hz（ご要望に応じて208V-240Vも対応可能） |
| 最高温度 | 1200 °C（1時間未満） |
| 連続動作温度 | 1100 °C |
| 加熱速度 | ≤ 10 °C/min |
| 標準プロセスチューブ | 高純度石英：外径50mm x 内径43mm x 長さ600mm |
| オプションのチューブ | 観察窓付き外径60mm石英管が利用可能 |
| 加熱ゾーン長 | 200 mm（シングルゾーン） |
| 恒温ゾーン | 100 mm（±2 °C @ 900 °C） |
| 温度コントローラー | PWMソリッドリレーによるPID自動制御、30ステッププログラム可能 |
| 温度精度 | ± 1 °C |
| 真空フランジ | 1/4インチバーブ継手、KF25出口、TCフィードスルー付きステンレス鋼 |
| 真空レベル | 1E-2 Torr（50 m-torr）、付属のメカニカルポンプ使用時 |
| 真空ポンプ | ダブルステージロータリーベーン（156 L/min）、排気フィルター付き |
| ヒーター | モリブデン添加Fe-Cr-Al合金 |
| 温度校正器 | OMEGA K型熱電対（18インチ x 直径1/4インチ）、デジタル表示付き |
| データインターフェース | NIST認定校正データ用のUSBおよびRS232インターフェース |
| 安全ブロック | 放射損失を防ぐための繊維セラミック製チューブブロック2個付属 |
| 適合規格 | NRTLまたはCSA認証（オプション） |
この炉システムを選ぶ理由
- 比類のない測定精度： 真空チャンバー内に直接組み込まれたNISTトレーサブルな専用温度校正器により、壁面取り付け型のセンサーでは不可能なサンプル温度の検証が可能です。
- 信頼性のための設計： 工業グレードのモリブデン添加ヒーターと高密度アルミナ断熱材を使用しており、性能を低下させることなく、過酷なR&D環境での継続的な使用に耐えるよう構築されています。
- すぐに使用可能なパッケージ： 真空コンポーネントを別途調達する必要がある他のシステムとは異なり、本ユニットには大容量156 L/minのメカニカルポンプ、必要なすべてのフランジ、および石英管が付属しています。
- 柔軟で拡張可能なアーキテクチャ： 分割管状設計とモジュール式フランジシステムにより、研究要件の進化に合わせて、より大きなチューブやターボ分子ポンプ（10E-6 Torr達成）へのアップグレードが可能です。
- 優れた製造品質： 頑丈なスチール製シャーシから精密なPID電子機器に至るまで、すべてのコンポーネントが工業的耐久性とユーザーの安全性の最高基準を満たすように製造されています。
正式な見積もりをご希望の場合、または特定の材料処理要件に合わせたカスタム構成についてのご相談は、弊社の技術営業チームまで今すぐお問い合わせください。
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい！
関連製品
挿入型温度校正器および真空システム一体型コンパクト分割式管状炉
この高性能なコンパクト分割式管状炉は、真空システムと精密温度校正器を一体化しています。1200°Cまでの材料研究用に設計されており、優れた熱均一性、高度なPID制御、および要求の厳しい産業・研究用加熱用途に対応する堅牢な性能を提供します。
一体型ターボポンプシステムと8インチ加熱ゾーンを備えた1200℃高真空コンパクトチューブ炉
この1200℃高真空コンパクトチューブ炉は、10^-5 torrを実現する一体型ターボポンプシステムを搭載しています。材料科学の研究開発に最適で、精密なPID制御、8インチの加熱ゾーン、そして処理用の堅牢な石英管構造を備えています。
1200°C対応 デュアル加熱ゾーン・コンパクト分割型チューブ炉（1インチ～2インチチューブおよび真空フランジ選択可能）
この1200°C対応デュアル加熱ゾーン・コンパクト分割型チューブ炉は、精密な温度勾配制御と真空機能を備えています。材料科学の研究開発向けに設計されており、独立したPIDコントローラー、ステンレス製フランジ、エネルギー効率の高い繊維状断熱材を採用し、一貫したラボ性能を実現します。
急速熱焼入れおよび制御雰囲気下での材料処理用 ステンレス製真空フランジ付きコンパクト縦型分割式石英管炉
高精度研究用に設計されたこのコンパクトな縦型分割式石英管炉は、最大1100°Cまでの急速加熱を実現します。ステンレス製真空フランジと30セグメントのプログラム制御を備えており、材料科学や工業的な焼入れ用途に不可欠なツールです。信頼性の高い性能を提供します。
高温材料合成用、オプションの石英管および真空フランジシステム付き 24インチ 3ゾーン分割式チューブ炉
独立した温度制御、石英管対応、真空シールフランジを備えたこの高級24インチ3ゾーン分割式チューブ炉で、材料研究を加速します。1200°Cまでの精密な熱処理を実現し、要求の厳しい実験室および産業R&D用途に対応します。
真空ステーション搭載 分割チャンバーCVD管状炉 化学気相成長システム装置
真空ステーションと4チャンネルMFCガス制御を統合した先進的な分割チャンバーCVD管状炉システムです。精密な薄膜堆積、ナノ材料合成、半導体研究開発向けに設計されており、高精度な温度制御と優れた堆積均一性を実現します。
急速熱処理用1200℃石英管・ステンレス鋼真空フランジ付き分割型垂直管状炉
この1200°C対応分割型垂直管状炉は、5インチ石英管と精密PID制御を備え、急速焼入れ、真空処理、高度な材料合成を実現し、要求の高い産業研究環境における研究効率を最大化します。
精密熱処理向け3インチムライト管・真空密封フランジ搭載 1250℃分割式チューブ炉
本1250℃分割式チューブ炉は、先端研究開発向けに3インチムライト管と真空密封フランジを標準搭載。材料科学用途に設計され、精密PID制御、高純度断熱、真空・制御雰囲気下での信頼性の高い性能を提供するプロフェッショナルグレードの装置です。
1600°C 3ゾーン分割型チューブ炉（アルミナチューブ・真空フランジ付）
この1600°C 3ゾーン分割型チューブ炉は、高度な材料合成や研究開発向けに、精密な温度プロファイリングと真空機能を提供します。複数の独立した加熱ゾーンにより優れた温度均一性を実現し、高い一貫性を備えた堅牢な設計が特徴です。
1500℃ 2ゾーン分割型チューブ炉（真空フランジ・80mmアルミナチューブ付）
80mmアルミナチューブ、SiC発熱体、高精度PID制御を搭載した高性能1500℃ 2ゾーン分割型チューブ炉。材料研究開発、化学気相成長（CVD）、真空および多雰囲気下での熱処理など、高度な産業用ラボ研究用途に最適です。
三ゾーン加熱 分割式縦型チューブ炉 1700 高温真空雰囲気熱処理システム
産業研究開発および材料科学用途向けの先進的な1700°C三ゾーン加熱分割式縦型チューブ炉。独立した熱制御、高真空機能、そしてエネルギー効率の高い断熱により、安定した高温処理と迅速な試料急冷結果を実現する高精度システムです。
4インチ石英管およびステンレス鋼製真空フランジ付き、最大1200℃対応の5ゾーン分割式縦型チューブ炉
この高性能な1200℃対応の5ゾーン分割式縦型チューブ炉は、5つの独立加熱ゾーンと4インチ石英管を備え、先端材料研究および産業用熱処理において卓越した温度均一性と急冷性能を提供します。
材料研究向け、アルミナ管と真空シーリングフランジを備えた1500°Cスプリットチューブ炉
SiC加熱素子と高精度PID制御を備えたこの高級1500°Cスプリットチューブ炉で、R&Dを最適化します。真空または制御雰囲気での処理に理想的で、優れた熱均一性と迅速な試料アクセスを提供し、要求の厳しい材料科学研究用途に対応します。
1100°C 分割型縦型チューブ炉（80mm石英管およびステンレス製真空フランジ付き）
この高性能な1100°C分割型縦型チューブ炉は、80mm石英管、ステンレス製真空フランジ、および精密な30セグメントPID制御を備えています。材料研究開発、急速冷却、および専門的な産業研究所での雰囲気制御熱処理のために設計されています。
8インチ加熱ゾーンとプログラマブルコントローラーを備えた1250Cコンパクト分割型チューブ炉
この1250Cコンパクト分割型チューブ炉は、精密な30セグメントプログラマブルコントローラーと8インチ加熱ゾーンを備え、厳しい実験室や産業研究開発環境、科学的パイロット研究において、高精度でエネルギー効率の良い熱処理を実現し、先進材料研究を最適化します。
高真空雰囲気制御および急速冷却機能付きデュアルゾーン分割型チューブ炉
卓越したエンジニアリングにより設計されたこのデュアルゾーン分割型チューブ炉は、精密な焼入れと真空雰囲気制御を実現します。先進の日本製制御システムと高品質な発熱体を採用し、重要な材料研究や高性能な産業用R&Dプロセスにおいて均一な熱プロファイルを保証します。
研究用 1200℃ 高温分割型チューブ炉（ヒンジ式真空フランジ・4インチ石英管付）
この1200℃分割型チューブ炉は、ヒンジ式真空フランジと4インチ石英管を備え、サンプルのセットアップを簡素化します。精密な熱処理のために設計されており、先端材料科学や産業用R&D用途において、優れた温度均一性と真空性能を提供します。
2インチチューブと真空ポンプを備えた、1200°C対応のコンパクト自動スライド式PECVD炉
この1200°C対応のコンパクトな自動スライド式PECVD炉は、2インチチューブと一体型真空ポンプを備えています。低温薄膜成膜に最適で、300W RFプラズマを採用し、優れた化学量論制御と先進的な産業材料研究における迅速な熱処理を実現します。
1800°C 高温コンパクト真空管状炉（60mm外径アルミナ管およびKanthal MoSi2発熱体搭載）
この1800°C高温コンパクト真空管状炉は、高品質なKanthal製発熱体と60mm外径のアルミナ管を備えています。材料研究や焼結用に設計されており、研究開発ラボ向けに真空または制御雰囲気下での精密な熱処理を提供します。
1200°C 高温 5インチ スプリット真空チューブ炉、12インチ加熱ゾーンおよび分離型PIDコントローラー付き
この高性能な1200°Cスプリット真空チューブ炉で、精密な熱処理を実現します。大型の5インチ石英チューブ、12インチ加熱ゾーン、分離型PIDコントローラーを備え、このNRTL認証システムは、高度な材料研究および産業R&D用途において信頼性の高い結果を保証します。
