製品概要


この高性能な熱処理システムは、制御された環境下での精密な材料合成および熱処理のために設計されています。本装置は、急速冷却と石英処理管への容易なアクセスを可能にする分割ヒンジ構造を採用しており、頻繁なサンプル交換や複雑な実験セットアップを必要とする研究室に最適です。専用の真空システムと挿入型温度校正器を統合することで、熱サイクルにおいて高度な精度と再現性を求める研究者にターンキーソリューションを提供します。
本装置の主な用途は、材料科学、半導体研究、産業用R&Dに及びます。真空またはガスフロー条件下でのアニール、焼結、化学気相成長(CVD)などのプロセスを処理するために特別に設計されています。1200°Cまでの安定した環境を維持する能力により、学術機関と産業用冶金ラボの両方の厳しい基準を満たします。コンパクトな設置面積により、既存のラボスペースへのシームレスな統合や、特殊な安全要件のためのドラフトチャンバー内への設置が可能です。
長期的な信頼性に重点を置いて構築されており、頑丈なスチール製ケーシングとエネルギー効率の高いアルミナ繊維断熱材を使用することで、構造的完全性と熱効率を確保しています。モリブデンをドープした高品質なFe-Cr-Al合金発熱体の採用により、過酷な連続運転下でも安定した性能を保証します。調達チームは、その堅牢なエンジニアリングとNISTトレーサブルな校正ツールの付属により、実験データが異なるバッチやプロジェクト間で検証可能かつ一貫性を保てることを信頼できます。
主な特徴
- 精密分割ヒンジ設計: 炉室は分割開閉機構を備えており、装置全体を分解することなく、処理管の取り付けやサンプルへのアクセスが容易に行えます。この機能は、高温サイクル後の急速冷却も促進します。
- インサイチュ温度校正: 本システムには、専用のOMEGA K型熱電対とNIST証明書付きのポータブルデジタル温度校正器が含まれています。これにより、管内のサンプル温度をリアルタイムかつ正確に測定でき、コントローラーの読み値と実際の試料状態とのギャップを埋めることができます。
- 高度なPID熱管理: PWMソリッドステートリレーを使用した洗練されたPID自動コントローラーを搭載しています。加熱、保持、冷却のための30のプログラム可能なセグメントをサポートし、±1°Cの厳密な温度精度を維持します。
- 高効率真空統合: 156 L/mの二段式ロータリーベーンメカニカルポンプを備えた完全な真空ソリューションが提供されます。ステンレス製フランジとデジタル真空計により、1E-2 Torr (50 m-torr) の真空レベルに迅速に到達可能です。
- 優れた断熱性: 加熱室は高純度Al2O3繊維断熱材で裏打ちされています。このエネルギー効率の高い素材は、外装ケーシングへの熱損失を低減し、長時間のプロセスにおける急速な昇温と低消費電力を実現します。
- 多用途なガスハンドリング機能: 左側のフランジには1/4インチバーブガス入口、右側にはKF25ガス出口が装備されています。この構成により、不活性ガスや反応性ガスを使用した低流量での雰囲気制御が可能です。
- 耐久性の高い発熱体: モリブデンをドープしたFe-Cr-Al合金エレメントにより、高温下でも長い耐用年数と安定した抵抗値を維持し、200mmの加熱ゾーン全体で均一な熱分布を確保します。
- 強化された安全性と監視: 放射損失を防ぐサーマルブロックや頑丈なスチール製ケーシングなど、包括的な安全機能を備えています。オプションのソフトウェアインターフェースにより、PC経由でのリモートデータロギングやレシピ管理が可能です。
用途
| 用途 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| 半導体アニール | 真空下でのシリコンウェハーや薄膜の精密熱処理。 | 結晶構造と電気的特性の改善。 |
| CVD研究 | 制御されたガスフローを使用したカーボンナノチューブや2D材料の成長。 | 再現性の高い熱プロファイルを備えた高純度成長環境。 |
| セラミック焼結 | 最大1100°C(連続)でのセラミック粉末の緻密な固体への固化。 | 優れた機械的密度と一貫した材料相転移。 |
| センサー校正 | 挿入型校正器を使用した外部温度センサーの検証。 | 品質保証プロトコルのためのNISTトレーサブルな精度。 |
| 真空脱ガス | 金属や複合材料サンプルからのトラップされたガスの除去。 | 内部空隙の排除と酸化の防止。 |
| 金属熱処理 | 小型合金部品の焼き入れ、焼き戻し、応力除去。 | 制御された雰囲気による表面脱炭の防止。 |
| 電池材料R&D | 特定の雰囲気条件下でのアノード/カソード材料の試験。 | 工業生産熱サイクルの正確なシミュレーション。 |
| 触媒試験 | 流動ガスを用いた高温下での触媒効率の評価。 | 接触時間と反応温度の精密な制御。 |
技術仕様
| パラメータ | TU-19 仕様詳細 |
|---|---|
| 製品モデル | TU-19 |
| 最高温度 | 1200 °C (1時間未満) |
| 連続運転温度 | 1100 °C |
| 推奨昇温速度 | ≤ 10 °C/分 |
| 加熱ゾーン長 | 200 mm (8インチ) |
| 均熱ゾーン | 100 mm (4インチ) (±2 °C @ 900 °C) |
| 発熱体 | MoドープFe-Cr-Al合金 |
| 処理管 | 高純度石英管: 外径50mm x 内径43mm x 長さ600mm |
| 真空レベル | 1E-2 Torr (50 m-torr) ※付属ポンプ使用時 |
| 真空ポンプ | 二段式ロータリーベーン (110V, 156 L/m)、排気フィルター付き |
| 温度コントローラー | PID自動制御、30プログラムセグメント、精度±1 °C |
| 校正ツール | OMEGA K型熱電対 (18インチ x 1/4インチ) およびデジタル校正器 |
| 真空フランジ | ステンレス製、1/4インチバーブ入口およびKF25出口 |
| 入力電力 | 1.75 KW |
| 電圧 | AC 110V 単相, 50/60 Hz (208V-240Vはオプション) |
| 断熱材 | Al2O3繊維断熱材 |
| サーマルブロック | 繊維セラミック製管ブロック2個付属 |
| 寸法 (ケーシング) | 分割式チャンバーを備えた頑丈なスチール構造 |
本炉を選ぶ理由
- ターンキー真空ソリューション: 標準的な炉とは異なり、本システムは大容量メカニカルポンプと専用フランジが完全に統合されており、個別の調達や互換性テストの必要性を低減します。
- 比類のない測定精度: 挿入型K型熱電対とNIST認定校正器の付属により、サンプルゾーンから直接得られるトレーサブルで高精度な温度読み値が研究データを裏付けます。
- 研究スループットの最適化: 分割式管状設計は、高効率なラボ向けに特別に設計されており、従来の密閉管設計と比較して、より迅速な冷却と容易なサンプル取り扱いを可能にします。
- プレミアムなビルド品質: Moドープ発熱体から頑丈なスチール製ケーシングに至るまで、すべてのコンポーネントは産業用R&Dの過酷な環境に耐え、長い耐用年数を提供するように選択されています。
- カスタマイズおよび拡張性: 超高真空(10E-6 Torr)用のターボ分子ポンプ、より大きなチューブオプション、自動データ管理用のLabviewベースのソフトウェアなど、さまざまなアップグレードパスを提供します。
当社のエンジニアリングチームが、お客様の特定の材料科学要件に合わせた理想的な熱ソリューションの構築をサポートいたします。技術的なご相談や正式なお見積りについては、今すぐお問い合わせください。
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい!
関連製品
統合真空システムおよび精密温度校正器付きコンパクト分割管状炉
統合真空システムと精密温度校正器を備えた、この高性能コンパクト分割管状炉で材料研究を強化しましょう。要求の厳しい実験室用途や高度な産業用熱処理プロセスにおいて、最大1200°Cまでの優れた熱均一性と高精度な温度制御を実現します。
8インチ加熱ゾーンとプログラマブルコントローラーを備えた1250Cコンパクト分割型チューブ炉
この1250Cコンパクト分割型チューブ炉は、精密な30セグメントプログラマブルコントローラーと8インチ加熱ゾーンを備え、厳しい実験室や産業研究開発環境、科学的パイロット研究において、高精度でエネルギー効率の良い熱処理を実現し、先進材料研究を最適化します。
研究用 1200℃ 高温分割型チューブ炉(ヒンジ式真空フランジ・4インチ石英管付)
この1200℃分割型チューブ炉は、ヒンジ式真空フランジと4インチ石英管を備え、サンプルのセットアップを簡素化します。精密な熱処理のために設計されており、先端材料科学や産業用R&D用途において、優れた温度均一性と真空性能を提供します。
材料研究・真空および雰囲気熱処理用 1500℃ 高温分割型チューブ炉
この1500℃高温分割型チューブ炉は、高度な材料研究や工業用焼結用途向けに精密な熱処理を提供します。二重シェル構造、統合型PID制御、真空対応ステンレス製フランジを備え、過酷なラボ環境でも信頼性の高い性能を発揮します。
高温1700℃ スプリットチューブ炉(真空フランジ・バルブ、60mmアルミナ管付き)
60mmアルミナ管と真空フランジを備えた、この高温1700℃スプリットチューブ炉で精密な材料加工を実現します。厳格な研究環境において、精密な雰囲気制御、高度なPIDプログラミング、信頼性の高い高純度熱処理を必要とするR&D用途に最適です。
材料科学研究用 1200℃高温スプリットチューブ炉(オプションの石英管サイズおよび真空シールフランジ付き)
オプションの石英管サイズと精密PID制御を備えたこの1200℃スプリットチューブ炉で、高度な研究を最適化しましょう。雰囲気処理や真空処理に対応し、厳しい産業環境や研究開発環境における耐久性と高純度材料合成のために設計されています。
1200°C対応 デュアル加熱ゾーン・コンパクト分割型チューブ炉(1インチ~2インチチューブおよび真空フランジ選択可能)
この1200°C対応デュアル加熱ゾーン・コンパクト分割型チューブ炉は、精密な温度勾配制御と真空機能を備えています。材料科学の研究開発向けに設計されており、独立したPIDコントローラー、ステンレス製フランジ、エネルギー効率の高い繊維状断熱材を採用し、一貫したラボ性能を実現します。
CVD研究および真空雰囲気熱処理用 1200℃高温分割管状炉
精密CVD、雰囲気焼結、真空アニール用に設計された高性能1200℃分割管状炉。高度なPID制御、エネルギー効率の高い日本製アルミナファイバー断熱材、産業用R&Dおよび先端材料研究所向けの急速冷却可能な分割設計を採用しています。
高温1700℃ 6ゾーン分割型チューブ炉(アルミナチューブ、⽔冷フランジ付き)
材料研究および産業用蒸着用途向けに設計された高精度1700℃六ゾーン分割型チューブ炉です。この多用途システムは、独立した温度ゾーン制御と真空対応フランジを備え、一貫した熱処理と高度な材料開発要件に対応し、最大限の性能を実現します。
急速熱焼入れおよび制御雰囲気下での材料処理用 ステンレス製真空フランジ付きコンパクト縦型分割式石英管炉
高精度研究用に設計されたこのコンパクトな縦型分割式石英管炉は、最大1100°Cまでの急速加熱を実現します。ステンレス製真空フランジと30セグメントのプログラム制御を備えており、材料科学や工業的な焼入れ用途に不可欠なツールです。信頼性の高い性能を提供します。
1500℃高温熱処理およびCVD用アルミナ管・真空フランジ付き6ゾーン分割管状炉
この1500℃対応6ゾーン分割管状炉は、専門的な研究室での研究や高温CVD用途に優れた熱制御を提供します。1800mmのアルミナ管と、一貫した材料処理およびアニール結果を実現する精密な30セグメントPIDコントローラーを備えています。
精密熱処理向け3インチムライト管・真空密封フランジ搭載 1250℃分割式チューブ炉
本1250℃分割式チューブ炉は、先端研究開発向けに3インチムライト管と真空密封フランジを標準搭載。材料科学用途に設計され、精密PID制御、高純度断熱、真空・制御雰囲気下での信頼性の高い性能を提供するプロフェッショナルグレードの装置です。
高温1600℃ 分割型チューブ炉 真空フランジ・バルブ付 オプション:60mm/80mmアルミナチューブ
真空フランジ、バルブ、高精度PID制御を備えた高性能1600℃分割型チューブ炉です。60mmまたは80mmのアルミナチューブに対応し、先端材料の研究開発における雰囲気制御熱処理や高真空処理環境に最適です。
材料研究向け、アルミナ管と真空シーリングフランジを備えた1500°Cスプリットチューブ炉
SiC加熱素子と高精度PID制御を備えたこの高級1500°Cスプリットチューブ炉で、R&Dを最適化します。真空または制御雰囲気での処理に理想的で、優れた熱均一性と迅速な試料アクセスを提供し、要求の厳しい材料科学研究用途に対応します。
高度な雰囲気焼結および真空CVDアプリケーション向け高温デュアルゾーン分割型管状炉
この高精度1400℃デュアルゾーン分割型管状炉で材料研究を強化しましょう。独立した温度制御、雰囲気焼結機能、優れた熱安定性を備えており、高度なCVD実験や産業用熱処理プロジェクトに最適なソリューションです。
1200°C 3ゾーン分割式管状炉(加熱長18インチ、真空フランジ付き)
この1200°C 3ゾーン分割式管状炉で熱処理プロセスを最適化しましょう。18インチの加熱長と精密なPID制御を備え、高度な材料研究、アニーリング、焼結、および世界中の研究施設における専門的な産業R&Dアプリケーションに優れた温度均一性を提供します。
三ゾーン加熱 分割式縦型チューブ炉 1700 高温真空雰囲気熱処理システム
産業研究開発および材料科学用途向けの先進的な1700°C三ゾーン加熱分割式縦型チューブ炉。独立した熱制御、高真空機能、そしてエネルギー効率の高い断熱により、安定した高温処理と迅速な試料急冷結果を実現する高精度システムです。
1200°C 高温 5インチ スプリット真空チューブ炉、12インチ加熱ゾーンおよび分離型PIDコントローラー付き
この高性能な1200°Cスプリット真空チューブ炉で、精密な熱処理を実現します。大型の5インチ石英チューブ、12インチ加熱ゾーン、分離型PIDコントローラーを備え、このNRTL認証システムは、高度な材料研究および産業R&D用途において信頼性の高い結果を保証します。
材料焼入れおよび単結晶育成用 1700℃高温縦型分割式チューブ炉
この高度な1700℃縦型分割式チューブ炉は、材料の焼入れや単結晶育成のための精密な熱処理を実現します。研究開発向けに設計された本システムは、真空対応およびPID制御を備えており、要求の厳しい産業研究ラボ環境において、信頼性が高く再現性のある結果を提供します。
高温材料合成用、オプションの石英管および真空フランジシステム付き 24インチ 3ゾーン分割式チューブ炉
独立した温度制御、石英管対応、真空シールフランジを備えたこの高級24インチ3ゾーン分割式チューブ炉で、材料研究を加速します。1200°Cまでの精密な熱処理を実現し、要求の厳しい実験室および産業R&D用途に対応します。