材料科学研究用 1200℃高温スプリットチューブ炉(オプションの石英管サイズおよび真空シールフランジ付き)

管状炉

材料科学研究用 1200℃高温スプリットチューブ炉(オプションの石英管サイズおよび真空シールフランジ付き)

商品番号: TU-23

最高温度: 1200°C 温度精度: ±1°C 加热区长度: 440 mm
品質保証 Fast Delivery Global Support
お問合せ

配送: お問い合わせ 配送詳細を確認してください オンタイムディスパッチ保証.

製品概要

Product image 1

Product image 3

Product image 1

この高性能スプリットチューブ炉は、現代の材料科学および産業用研究開発における熱処理の基盤となる装置です。最高1200℃までの精密な熱処理プロトコルを実行できるように設計されており、熱環境に対して厳密な制御を必要とする研究者に汎用性の高いプラットフォームを提供します。スプリットヒンジ構造を採用しているため、処理チャンバーへのアクセスが容易で、繊細なサンプル配置を乱すことなく、反応管の挿入、複雑なセンサーのセットアップ、または組み立て済みの実験コンポーネントの設置を迅速に行うことができます。

主に化学気相成長(CVD)、焼結、アニールプロセスで使用されるこのシステムは、半導体開発、電池研究、高度セラミックス工学に不可欠なツールです。高真空状態から制御された不活性ガスフローまで、多様な雰囲気条件下で動作する能力を備えており、酸化や環境汚染に敏感な高純度材料の合成に最適です。堅牢な構造により、学術研究室と産業用パイロットラインの両方の厳しい要求を満たします。

信頼性は本ユニットのエンジニアリングの中核です。長期的な運用の一貫性に重点を置き、ユーザーと熱サイクルの整合性の両方を保護する高度な安全機能と高品質の断熱材を組み込んでいます。ULおよびCSA規格に適合するコンポーネントの採用は、品質と規制遵守へのコミットメントを強調しており、調達担当者や研究室管理者に、あらゆる重要な研究環境において、過酷で継続的な使用条件下でもこの装置が確実に機能するという確信を提供します。

主な特徴

  • 精密PID温度制御:統合されたデジタルコントローラーは、オートチューニング機能を備えた高度な比例・積分・微分(PID)ロジックを使用し、±1℃以内の温度安定性を維持します。また、複雑な昇温・保持プロセスのために30セグメントのプログラムが可能です。
  • 高度なスプリットヒンジ構造:炉筐体は安全インターロック機構を備えた分割カバー設計を採用しており、ドアを開けると自動的に加熱要素への電源が遮断され、偶発的な露出を防ぎ、オペレーターの安全を確保します。
  • 強化された断熱材:高純度の繊維状アルミナ断熱材を使用して熱損失を最小限に抑え、エネルギー効率を最大化しています。また、内部ライナーと加熱要素に特殊な耐火コーティングを施すことで、ユニットの動作寿命を大幅に延ばしています。
  • 高性能加熱要素:MoドープFe-Cr-Al合金加熱要素は、不活性雰囲気下での高温サイクルにおける変形に耐えながら、最大20℃/分の急速加熱速度を提供するように設計されています。
  • 二重層安全筐体:頑丈な二重層スチール筐体にアクティブ空冷システムを組み込み、最高1200℃の動作時でも外部表面温度を60℃以下に保ち、安全な接触環境を確保します。
  • 汎用性の高い真空および雰囲気制御:ニードルバルブ、機械式圧力計、KF-25ポートを備えたステンレス鋼304製真空シールフランジを装備しており、適切なポンプシステムと組み合わせることで10E-5 torrまでの真空レベルをサポートします。
  • 柔軟なチューブ構成:60mmから100mmまでの複数の石英管径に対応できるように設計されており、研究者は新しい炉ユニットを丸ごと購入することなく、実験のスケールアップや処理容量の調整が可能です。
  • 統合データ通信:標準のDB9 PC通信ポートと付属ソフトウェアにより、熱サイクルのリモート監視とデータロギングが可能であり、研究開発における文書化とプロセス最適化に不可欠です。

用途

用途 説明 主な利点
CVD / PECVDシステム 制御されたガス環境下での薄膜、カーボンナノチューブ、グラフェンなどの2D材料の成長。 正確なガス流量と温度均一性により、高品質で再現性のある膜成長を保証。
半導体アニール シリコンウェハーや化合物半導体の熱処理による電気的特性の変更や結晶欠陥の修復。 高純度石英環境での急速加熱・冷却能力により汚染を防止。
電池材料合成 不活性窒素またはアルゴン雰囲気下での正極/負極粉末の焼成および焼結。 熱サイクル中の酸化を防ぎ、厳密な化学量論比を維持。
セラミックス焼結 高温でのテクニカルセラミックス粉末の緻密なコンポーネントへの固化。 高純度アルミナ断熱材が相互汚染を防ぎ、材料の完全性を確保。
触媒特性評価 効率と寿命を判断するための、異なる温度およびガス流量下での触媒材料の試験。 デュアルニードルバルブフランジにより、反応性ガス前駆体の精密な制御が可能。
真空冶金 低圧環境下での特殊合金の溶解または熱処理による溶解ガスの除去。 高真空能力(10E-5 torr)により、航空宇宙および医療用合金の超クリーンな処理を実現。

技術仕様

パラメータ TU-23の技術詳細
モデル識別子 TU-23シリーズ(UL/CSA構成対応)
入力電圧 208 - 240VAC 単相、50/60Hz
定格電力 3KW(回路ブレーカー:20A)
最高加熱温度 1200°C(チューブ内に不活性ガスが必要)
真空加熱限界 1000°C(真空条件下)
推奨昇温速度 ≤ 20°C / 分
温度精度 +/- 1 ºC
加熱ゾーン長 全長:440mm、均熱ゾーン:150mm (+/- 2°C)
温度均一性 +/- 10°C @ 1000°C(中心320mm)、+/- 5°C @ 1000°C(中心220mm)
温度コントローラー 30セグメントプログラム可能、PID制御、オートチューニング、内蔵アラーム
オプションコントローラー Eurotherm 3004(精度±0.1°C)、RS485-USB通信付き
熱電対タイプ Kタイプ(長さ6インチ、外径3mm、セラミックシース)
石英管オプション1 (TU-23-60) 外径60mm x 内径55mm x 長さ1000mm
石英管オプション2 (TU-23-75) 外径76mm x 内径70mm x 長さ1000mm
石英管オプション3 (TU-23-80) 外径80mm x 内径74mm x 長さ1000mm
石英管オプション4 (TU-23-100) 外径101mm x 内径92mm x 長さ1000mm
真空フランジ デュアルSS 304、1/4インチフィードスルー、KF-25ポート、ニードルバルブ、バーブ継手
真空圧力能力 10E-2 torr(メカニカルポンプ)、10E-5 torr(ターボポンプ)
標準断熱材 繊維状セラミックブロック付属(石英ブロックはオプション)
製品寸法 600mm(L) × 440mm(W) × 550mm(H)
正味重量 40 kg
コンプライアンス CE認証、ご要望に応じてNRTLまたはCSA対応可能

この高温スプリットチューブ炉が選ばれる理由

  • 妥協のない安全基準:本装置は国際的な安全認証を満たすか上回るように構築されており、インターロック保護や高度な冷却筐体を備えているため、利用者の多い学術研究室や産業現場に適しています。
  • スケーラブルな処理環境:固定径の炉とは異なり、このシステムのモジュール性により、さまざまなサイズの石英管を統合できるため、研究者は多額の設備投資をすることなく、変化するプロジェクト要件に柔軟に適応できます。
  • 優れた熱管理:Moドープ要素と高品質のアルミナ断熱材の使用により、ユニットは優れた温度均一性とエネルギー効率を実現し、バッチごとに一貫した材料特性を提供します。
  • 精密エンジニアリングとサポート:各ユニットには1年間の限定保証と生涯テクニカルサポートが付帯しており、高温熱処理のニュアンスを理解する専門家によって投資が保護されます。
  • カスタマイズ可能な制御オプション:標準的な高精度PIDコントローラーから、超高精度のEurothermアップグレードまで、最も繊細な材料合成プロトコルの特定の解像度要件を満たすようにシステムを調整できます。

正式な見積もりをご希望の場合、またはこの装置がお客様の具体的な研究目標をどのように満たせるかについては、当社のテクニカルセールスチームまでお問い合わせください。

この製品に関するよくある質問をもっと見る

引用を要求

弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい!

関連製品

研究用 1200℃ 高温分割型チューブ炉(ヒンジ式真空フランジ・4インチ石英管付)

研究用 1200℃ 高温分割型チューブ炉(ヒンジ式真空フランジ・4インチ石英管付)

この1200℃分割型チューブ炉は、ヒンジ式真空フランジと4インチ石英管を備え、サンプルのセットアップを簡素化します。精密な熱処理のために設計されており、先端材料科学や産業用R&D用途において、優れた温度均一性と真空性能を提供します。

1200℃ デュアルゾーン分割型チューブ炉(溶融石英管および真空フランジ付き、60mm/80mm/100mm径から選択可能)

1200℃ デュアルゾーン分割型チューブ炉(溶融石英管および真空フランジ付き、60mm/80mm/100mm径から選択可能)

独立した温度制御により精密な温度勾配を実現する、1200℃デュアルゾーン分割型チューブ炉で材料研究を加速させます。溶融石英管と真空シールフランジを備え、高度なCVDやナノ材料合成に最適なソリューションです。

精密温度コントローラーおよびクイックフランジ真空システム付き 7ゾーン 1200℃ 分割型チューブ炉

精密温度コントローラーおよびクイックフランジ真空システム付き 7ゾーン 1200℃ 分割型チューブ炉

材料研究用に設計されたプロ仕様の7ゾーン1200℃分割型チューブ炉。5インチ石英チューブ、精密PID制御、真空または制御雰囲気下での迅速な熱処理を可能にするクイックフランジを備えています。高性能な研究開発用熱処理ソリューションです。

最高使用温度1200℃・大口径石英管採用 7ゾーン分割型チューブ炉

最高使用温度1200℃・大口径石英管採用 7ゾーン分割型チューブ炉

この高性能な7ゾーン分割型チューブ炉は、82.6インチの広大な加熱長と8インチの石英管を備えています。精密な材料研究のために設計されており、優れた温度均一性と高度な雰囲気制御を実現し、産業用R&Dや要求の厳しい製造用途に最適です。

1200°C 10ゾーン分割型チューブ炉(水平・垂直設置対応、マルチゾーン熱勾配および大口径材料処理用)

1200°C 10ゾーン分割型チューブ炉(水平・垂直設置対応、マルチゾーン熱勾配および大口径材料処理用)

10個の独立した加熱ゾーンによる比類のない熱勾配制御と、水平・垂直設置が可能な柔軟性を備えた、先進の1200°C 10ゾーン分割型チューブ炉システム。精密な産業シミュレーション、材料合成、高性能な研究開発(R&D)熱処理用途向けに設計されており、卓越した信頼性を誇ります。

1200°C 高温 5インチ スプリット真空チューブ炉、12インチ加熱ゾーンおよび分離型PIDコントローラー付き

1200°C 高温 5インチ スプリット真空チューブ炉、12インチ加熱ゾーンおよび分離型PIDコントローラー付き

この高性能な1200°Cスプリット真空チューブ炉で、精密な熱処理を実現します。大型の5インチ石英チューブ、12インチ加熱ゾーン、分離型PIDコントローラーを備え、このNRTL認証システムは、高度な材料研究および産業R&D用途において信頼性の高い結果を保証します。

急速熱処理用1200℃石英管・ステンレス鋼真空フランジ付き分割型垂直管状炉

急速熱処理用1200℃石英管・ステンレス鋼真空フランジ付き分割型垂直管状炉

この1200°C対応分割型垂直管状炉は、5インチ石英管と精密PID制御を備え、急速焼入れ、真空処理、高度な材料合成を実現し、要求の高い産業研究環境における研究効率を最大化します。

1200°C 3ゾーン分割式管状炉(加熱長18インチ、真空フランジ付き)

1200°C 3ゾーン分割式管状炉(加熱長18インチ、真空フランジ付き)

この1200°C 3ゾーン分割式管状炉で熱処理プロセスを最適化しましょう。18インチの加熱長と精密なPID制御を備え、高度な材料研究、アニーリング、焼結、および世界中の研究施設における専門的な産業R&Dアプリケーションに優れた温度均一性を提供します。

CVD研究および真空雰囲気熱処理用 1200℃高温分割管状炉

CVD研究および真空雰囲気熱処理用 1200℃高温分割管状炉

精密CVD、雰囲気焼結、真空アニール用に設計された高性能1200℃分割管状炉。高度なPID制御、エネルギー効率の高い日本製アルミナファイバー断熱材、産業用R&Dおよび先端材料研究所向けの急速冷却可能な分割設計を採用しています。

オプションの大型径石英管付き 1200°C 最大 4ゾーン分割チューブ炉

オプションの大型径石英管付き 1200°C 最大 4ゾーン分割チューブ炉

オプションの直径14インチチャンバーと高純度断熱材を備えた、この1200°C 4ゾーン分割チューブ炉で材料研究を加速します。広い加熱ゾーン全体で高精度な温度均一性を実現し、大規模焼結、アニーリング、先進的な工業用気相成長プロセスに最適です。

HPCVDおよび結晶成長研究用内部移動機構付き1200℃高温スプリットチューブ炉

HPCVDおよび結晶成長研究用内部移動機構付き1200℃高温スプリットチューブ炉

この1200℃スプリットチューブ炉は、HPCVDおよび結晶成長中の精密なサンプル位置決めを可能にする統合型内部移動機構を備えています。急速熱処理用に設計されており、先端材料科学研究に求められる優れた温度均一性と真空安定性を提供します。

高温3ゾーン分割型チューブ炉 最高1200℃ 加熱長35.4インチ 内径8インチチューブ

高温3ゾーン分割型チューブ炉 最高1200℃ 加熱長35.4インチ 内径8インチチューブ

この高性能な3ゾーン分割型チューブ炉は、35.4インチの加熱ゾーンと8インチ径のチューブを備え、高度な熱処理を実現します。独立したゾーン管理により、真空またはガス雰囲気下で最高1200℃の温度と優れた均熱性を達成します。

タッチスクリーンコントローラーと複数の石英管オプションを備えた5ゾーン1200℃高温分割式チューブ炉

タッチスクリーンコントローラーと複数の石英管オプションを備えた5ゾーン1200℃高温分割式チューブ炉

精密な熱勾配と雰囲気制御のために設計された高性能5ゾーン1200℃チューブ炉です。本システムは、直感的なタッチスクリーンプログラミングと真空シール機能を備え、精密焼結、アニーリング、材料合成の各ワークフローにおいて安定した結果を実現します。

1200C 三ゾーン分割式縦型チューブ炉 4インチ石英管 ステンレス鋼真空フランジ

1200C 三ゾーン分割式縦型チューブ炉 4インチ石英管 ステンレス鋼真空フランジ

この1200C三ゾーン分割式縦型チューブ炉は、高精度な熱処理のための4インチ石英管とステンレス鋼真空フランジを備えています。材料の急冷や合成に最適で、この堅牢なシステムは均一加熱と迅速な試料投入アクセスを実現します。

精密熱処理向け3インチムライト管・真空密封フランジ搭載 1250℃分割式チューブ炉

精密熱処理向け3インチムライト管・真空密封フランジ搭載 1250℃分割式チューブ炉

本1250℃分割式チューブ炉は、先端研究開発向けに3インチムライト管と真空密封フランジを標準搭載。材料科学用途に設計され、精密PID制御、高純度断熱、真空・制御雰囲気下での信頼性の高い性能を提供するプロフェッショナルグレードの装置です。

6ゾーン分割型チューブ炉 1.8メートル石英管 1200℃高温加熱システム

6ゾーン分割型チューブ炉 1.8メートル石英管 1200℃高温加熱システム

この6ゾーン高温分割型チューブ炉は、柔軟な温度勾配と1.8メートルの加熱ゾーンを提供します。最高温度1200℃の真空対応システムであり、6つのPIDコントローラーを搭載。高度な材料研究や産業用熱処理アプリケーションに最適です。

Twelve Zone 1700°C マルチゾーン分割式チューブ炉 100mmアルミナ加工チューブ付き 独立温度勾配制御

Twelve Zone 1700°C マルチゾーン分割式チューブ炉 100mmアルミナ加工チューブ付き 独立温度勾配制御

高精度1700°C 12ゾーン分割式チューブ炉で、直径100mmのアルミナチューブと個別PIDコントローラーを搭載し、複雑な熱勾配プロファイルに対応。先端材料科学研究、反応動力学シミュレーション、高温工業熱処理に最適です。

12ゾーン超長尺分割型チューブ炉(20フィート石英管、最高温度1100℃)

12ゾーン超長尺分割型チューブ炉(20フィート石英管、最高温度1100℃)

この高精度な12ゾーン分割型チューブ炉は、6メートルの加熱長と最高温度1100℃を実現し、長尺サンプルの処理に最適です。独立したPID制御と真空対応フランジを備え、先端材料科学や研究開発用途において卓越した均熱性を提供します。

材料研究・真空および雰囲気熱処理用 1500℃ 高温分割型チューブ炉

材料研究・真空および雰囲気熱処理用 1500℃ 高温分割型チューブ炉

この1500℃高温分割型チューブ炉は、高度な材料研究や工業用焼結用途向けに精密な熱処理を提供します。二重シェル構造、統合型PID制御、真空対応ステンレス製フランジを備え、過酷なラボ環境でも信頼性の高い性能を発揮します。

急速熱焼入れおよび制御雰囲気下での材料処理用 ステンレス製真空フランジ付きコンパクト縦型分割式石英管炉

急速熱焼入れおよび制御雰囲気下での材料処理用 ステンレス製真空フランジ付きコンパクト縦型分割式石英管炉

高精度研究用に設計されたこのコンパクトな縦型分割式石英管炉は、最大1100°Cまでの急速加熱を実現します。ステンレス製真空フランジと30セグメントのプログラム制御を備えており、材料科学や工業的な焼入れ用途に不可欠なツールです。信頼性の高い性能を提供します。