材料科学研究用 1200℃高温スプリットチューブ炉(オプションの石英管サイズおよび真空シールフランジ付き)

管状炉

材料科学研究用 1200℃高温スプリットチューブ炉(オプションの石英管サイズおよび真空シールフランジ付き)

商品番号: TU-23

最高温度: 1200°C 温度精度: ±1°C 加热区长度: 440 mm
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製品概要

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この高性能スプリットチューブ炉は、現代の材料科学および産業用研究開発における熱処理の基盤となる装置です。最高1200℃までの精密な熱処理プロトコルを実行できるように設計されており、熱環境に対して厳密な制御を必要とする研究者に汎用性の高いプラットフォームを提供します。スプリットヒンジ構造を採用しているため、処理チャンバーへのアクセスが容易で、繊細なサンプル配置を乱すことなく、反応管の挿入、複雑なセンサーのセットアップ、または組み立て済みの実験コンポーネントの設置を迅速に行うことができます。

主に化学気相成長(CVD)、焼結、アニールプロセスで使用されるこのシステムは、半導体開発、電池研究、高度セラミックス工学に不可欠なツールです。高真空状態から制御された不活性ガスフローまで、多様な雰囲気条件下で動作する能力を備えており、酸化や環境汚染に敏感な高純度材料の合成に最適です。堅牢な構造により、学術研究室と産業用パイロットラインの両方の厳しい要求を満たします。

信頼性は本ユニットのエンジニアリングの中核です。長期的な運用の一貫性に重点を置き、ユーザーと熱サイクルの整合性の両方を保護する高度な安全機能と高品質の断熱材を組み込んでいます。ULおよびCSA規格に適合するコンポーネントの採用は、品質と規制遵守へのコミットメントを強調しており、調達担当者や研究室管理者に、あらゆる重要な研究環境において、過酷で継続的な使用条件下でもこの装置が確実に機能するという確信を提供します。

主な特徴

  • 精密PID温度制御:統合されたデジタルコントローラーは、オートチューニング機能を備えた高度な比例・積分・微分(PID)ロジックを使用し、±1℃以内の温度安定性を維持します。また、複雑な昇温・保持プロセスのために30セグメントのプログラムが可能です。
  • 高度なスプリットヒンジ構造:炉筐体は安全インターロック機構を備えた分割カバー設計を採用しており、ドアを開けると自動的に加熱要素への電源が遮断され、偶発的な露出を防ぎ、オペレーターの安全を確保します。
  • 強化された断熱材:高純度の繊維状アルミナ断熱材を使用して熱損失を最小限に抑え、エネルギー効率を最大化しています。また、内部ライナーと加熱要素に特殊な耐火コーティングを施すことで、ユニットの動作寿命を大幅に延ばしています。
  • 高性能加熱要素:MoドープFe-Cr-Al合金加熱要素は、不活性雰囲気下での高温サイクルにおける変形に耐えながら、最大20℃/分の急速加熱速度を提供するように設計されています。
  • 二重層安全筐体:頑丈な二重層スチール筐体にアクティブ空冷システムを組み込み、最高1200℃の動作時でも外部表面温度を60℃以下に保ち、安全な接触環境を確保します。
  • 汎用性の高い真空および雰囲気制御:ニードルバルブ、機械式圧力計、KF-25ポートを備えたステンレス鋼304製真空シールフランジを装備しており、適切なポンプシステムと組み合わせることで10E-5 torrまでの真空レベルをサポートします。
  • 柔軟なチューブ構成:60mmから100mmまでの複数の石英管径に対応できるように設計されており、研究者は新しい炉ユニットを丸ごと購入することなく、実験のスケールアップや処理容量の調整が可能です。
  • 統合データ通信:標準のDB9 PC通信ポートと付属ソフトウェアにより、熱サイクルのリモート監視とデータロギングが可能であり、研究開発における文書化とプロセス最適化に不可欠です。

用途

用途 説明 主な利点
CVD / PECVDシステム 制御されたガス環境下での薄膜、カーボンナノチューブ、グラフェンなどの2D材料の成長。 正確なガス流量と温度均一性により、高品質で再現性のある膜成長を保証。
半導体アニール シリコンウェハーや化合物半導体の熱処理による電気的特性の変更や結晶欠陥の修復。 高純度石英環境での急速加熱・冷却能力により汚染を防止。
電池材料合成 不活性窒素またはアルゴン雰囲気下での正極/負極粉末の焼成および焼結。 熱サイクル中の酸化を防ぎ、厳密な化学量論比を維持。
セラミックス焼結 高温でのテクニカルセラミックス粉末の緻密なコンポーネントへの固化。 高純度アルミナ断熱材が相互汚染を防ぎ、材料の完全性を確保。
触媒特性評価 効率と寿命を判断するための、異なる温度およびガス流量下での触媒材料の試験。 デュアルニードルバルブフランジにより、反応性ガス前駆体の精密な制御が可能。
真空冶金 低圧環境下での特殊合金の溶解または熱処理による溶解ガスの除去。 高真空能力(10E-5 torr)により、航空宇宙および医療用合金の超クリーンな処理を実現。

技術仕様

パラメータ TU-23の技術詳細
モデル識別子 TU-23シリーズ(UL/CSA構成対応)
入力電圧 208 - 240VAC 単相、50/60Hz
定格電力 3KW(回路ブレーカー:20A)
最高加熱温度 1200°C(チューブ内に不活性ガスが必要)
真空加熱限界 1000°C(真空条件下)
推奨昇温速度 ≤ 20°C / 分
温度精度 +/- 1 ºC
加熱ゾーン長 全長:440mm、均熱ゾーン:150mm (+/- 2°C)
温度均一性 +/- 10°C @ 1000°C(中心320mm)、+/- 5°C @ 1000°C(中心220mm)
温度コントローラー 30セグメントプログラム可能、PID制御、オートチューニング、内蔵アラーム
オプションコントローラー Eurotherm 3004(精度±0.1°C)、RS485-USB通信付き
熱電対タイプ Kタイプ(長さ6インチ、外径3mm、セラミックシース)
石英管オプション1 (TU-23-60) 外径60mm x 内径55mm x 長さ1000mm
石英管オプション2 (TU-23-75) 外径76mm x 内径70mm x 長さ1000mm
石英管オプション3 (TU-23-80) 外径80mm x 内径74mm x 長さ1000mm
石英管オプション4 (TU-23-100) 外径101mm x 内径92mm x 長さ1000mm
真空フランジ デュアルSS 304、1/4インチフィードスルー、KF-25ポート、ニードルバルブ、バーブ継手
真空圧力能力 10E-2 torr(メカニカルポンプ)、10E-5 torr(ターボポンプ)
標準断熱材 繊維状セラミックブロック付属(石英ブロックはオプション)
製品寸法 600mm(L) × 440mm(W) × 550mm(H)
正味重量 40 kg
コンプライアンス CE認証、ご要望に応じてNRTLまたはCSA対応可能

この高温スプリットチューブ炉が選ばれる理由

  • 妥協のない安全基準:本装置は国際的な安全認証を満たすか上回るように構築されており、インターロック保護や高度な冷却筐体を備えているため、利用者の多い学術研究室や産業現場に適しています。
  • スケーラブルな処理環境:固定径の炉とは異なり、このシステムのモジュール性により、さまざまなサイズの石英管を統合できるため、研究者は多額の設備投資をすることなく、変化するプロジェクト要件に柔軟に適応できます。
  • 優れた熱管理:Moドープ要素と高品質のアルミナ断熱材の使用により、ユニットは優れた温度均一性とエネルギー効率を実現し、バッチごとに一貫した材料特性を提供します。
  • 精密エンジニアリングとサポート:各ユニットには1年間の限定保証と生涯テクニカルサポートが付帯しており、高温熱処理のニュアンスを理解する専門家によって投資が保護されます。
  • カスタマイズ可能な制御オプション:標準的な高精度PIDコントローラーから、超高精度のEurothermアップグレードまで、最も繊細な材料合成プロトコルの特定の解像度要件を満たすようにシステムを調整できます。

正式な見積もりをご希望の場合、またはこの装置がお客様の具体的な研究目標をどのように満たせるかについては、当社のテクニカルセールスチームまでお問い合わせください。

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