製品概要


本高性能熱処理システムは、先端材料科学および産業研究開発用途向けに設計されています。分割式炉構造を採用することで、研究者が処理チューブに容易にアクセスでき、複雑な実験セットアップや迅速なサンプル処理を可能にします。最大1250℃の真空または制御雰囲気条件下で、高い熱安定性と精度を維持できる点が最大の特長です。本装置は、高温性能と操作性のバランスが求められる研究室、特にチューブのメンテナンスやサンプル装填の頻度が高い環境において、欠かせないツールとなります。
多用途性を考慮して設計された本システムは、セラミックス、冶金、半導体開発の研究室で広く導入されています。高純度ムライト部品を統合することで、重要な熱処理サイクル中にサンプルを汚染から保護します。本装置は、焼結、焼きなまし、化学気相成長プロセスに信頼性の高い再現性のある熱環境を必要とする研究機関にとって、基盤となる装置です。堅牢な設計により、連続運転と急速熱サイクルの両方の厳しい条件に耐えることができ、多様な材料変性研究のための柔軟なプラットフォームを提供します。
安全性と優れた設計を最優先することで、性能への信頼を確保しています。本装置は二層構造のスチールケーシングに空冷システムを搭載し、最大加熱サイクル中でも安全な外表面温度を維持します。高純度繊維状アルミナ断熱材と特殊耐火コーティングにより、エネルギー効率を最大化し、内部部品の耐用年数を延長します。調達チームや研究室管理者にとって、本装置はCE適合および精度試験済みの熱均一性を備えた、信頼できる長期的な熱処理インフラへの投資となります。
主な特長
- 縦型分割ボディ構造: 加熱チャンバーを縦方向に開放する設計により、サンプルの位置合わせを乱すことなく、処理チューブや複雑な内部部品の挿入・取り出しが容易です。この設計により、高温運転後のチューブの急速冷却も可能です。
- 精密PID温度制御: 高度なコントローラーが自動調整機能付きPID(比例・積分・微分)ロジックを採用し、昇温・冷却・保持の30段階のプログラム可能セグメントを備え、±1℃の高精度を実現します。
- 高純度ムライト処理チューブ: 外径3インチのムライト管を標準搭載し、標準的な石英と比較して優れた耐熱衝撃性と化学的安定性を提供するため、反応性ガスを使用するプロセスや連続高温プロセスに最適です。
- 先進真空密封技術: ステンレス製真空密封フランジをニードルバルブ・真空計と共に標準装備し、真空下または陽圧ガスフロー実験において高い密閉性を確保します。
- 省エネルギー断熱: チャンバー全体に高純度アルミナファイバー断熱材を使用して放熱を最小限に抑え、長時間運転時における恒温帯の均一性向上と消費電力削減を実現します。
- 統合安全・警報システム: 過昇温および熱電対故障警報を標準搭載し、装置とサンプルの両方を重要な保護を提供し、異常発生時には自動的にプロセスを停止します。
- 強化ケーシング冷却機構: 二層構造のスチールケーシング設計にアクティブ空冷を組み込み、炉表面温度を60℃以下に維持することで、混雑した研究室環境でも作業者の安全を確保します。
- 高性能合金加熱要素: 本システムはモリブデンドープFe-Cr-Al合金加熱要素を使用し、1250℃までの温度域で安定した熱分布と優れた耐久性を提供します。
- 柔軟な雰囲気制御: 標準のステンレスフランジにより不活性ガスや反応性ガスの導入が容易で、毎分5mtorr未満のリークレートで制御雰囲気処理に対応します。
- 拡張可能なデジタル通信: DB9 PC通信ポートを標準搭載し、リモートモニタリングとデータロギングが可能で、研究および品質管理環境における監査記録の管理に不可欠です。
用途
| 用途 | 説明 | 主なメリット |
|---|---|---|
| セラミックス焼結 | 制御雰囲気または真空下での先進セラミックス粉末の高温焼結 | 酸化を防止し、高密度の構造的完全性を確保 |
| 金属の焼きなまし | 特殊合金サンプルの応力除去および結晶粒組織改善 | 精密な冷却プロファイルにより熱衝撃を防止し、材料特性を維持 |
| CVD研究 | 半導体およびカーボンナノチューブ開発向け薄膜の化学気相成長 | 高い真空密閉性と正確なガス流量制御により均一な膜成長を実現 |
| 電池材料試験 | 不活性環境下での正極・負極材料の仮焼および熱処理 | 安定した連続加熱により、一貫性のある電気化学性能結果を得られる |
| 航空宇宙部品試験 | 極限運転条件をシミュレートするための小型航空宇宙部品の熱サイクル試験 | 分割設計により、精密計測されたサンプルの迅速な装填・取出しが可能 |
| ガラス相転移研究 | 特殊ガラス組成の融解・結晶化挙動の研究 | ムライト管が高温下で腐食性ガラス蒸気に対して優れた耐性を発揮 |
| 真空誘導研究 | 小型誘導溶解プロセスにおける予備加熱・二次処理 | 超高純度サンプルのための無汚染環境を維持 |
技術仕様
コアシステムパラメータ (TU-24)
| パラメータ | TU-24の仕様 |
|---|---|
| 品番 | TU-24 |
| 炉構造 | 空冷付き二層スチールケーシング;表面温度<60℃ |
| 断熱 | 特殊耐火コーティング付き高純度繊維状アルミナ |
| 定格電力 | 2.5 KW |
| 動作電圧 | AC 220-240V 単相、50/60 Hz |
| 最高温度 | 1250℃(1時間未満) |
| 連続使用温度 | 1200℃ |
| 最大昇温速度 | ≤ 20℃ / 分 |
| 加熱帯長 | 440 mm(シングルゾーン) |
| 恒温帯 | 150 mm(±1℃) |
| 加熱要素 | MoドープFe-Cr-Al合金 |
処理チューブ・真空性能
| 特長 | 詳細 |
|---|---|
| チューブ材質 | 高純度ムライト(米国産) |
| チューブ寸法 | 外径3インチ × 内径2.75インチ × 長さ40インチ |
| 真空シール | 真空計・バルブ付き二連ステンレススチールフランジ |
| 継手ポート | 標準1/4インチパイプアダプタ;オプションでKF25またはVCRフェースシール対応 |
| 真空度(機械式ポンプ) | 10E-2 torr(二段式機械ポンプ使用時) |
| 真空度(分子ポンプ) | 10E-5 torr(分子ポンプシステム使用時) |
| リークレート | < 5 mtorr / 分 |
| 耐圧限界 | 真空・低圧<0.02 MPa(3 PSI)向け設計 |
制御・ソフトウェア仕様
| 機能 | 詳細 |
|---|---|
| コントローラー種別 | FA-YD518P-AG PIDコントローラー |
| プログラミング | 30セグメント(昇温・冷却・保持) |
| 精度 | ± 1 ºCの温度制御精度 |
| 安全機能 | 過昇温および熱電対故障警報 |
| 接続性 | 標準DB9 PC通信ポート;オプションでRS485対応 |
| ソフトウェア(オプション) | レシピ管理・データプロット機能を備えたLabviewベース制御システム |
| 認証 | CE認証済み;要望に応じNRTLまたはCSA認証取得可能 |
標準パッケージ内容
- 断熱用アルミナフォームブロック(1組)
- 80mm/3インチ径チューブ用完全真空フランジセット
- 高純度ムライトチューブ(外径3インチ、長さ40インチ)
- 組立・メンテナンス用六角レンチセット
当社を選ぶ理由
- 優れた設計・品質: 本システムは米国産ムライトや高純度アルミナ断熱材などの高品質素材で製造され、産業研究開発環境下での長期的な熱安定性と耐用性を確保します。
- 卓越した精度と制御: ±1℃の精度と30セグメントプログラム可能コントローラーにより、研究者は複雑な熱プロファイルを再現性に全幅の信頼を持って実行できます。
- 比類のない多用途性: 分割炉設計と先進的な真空・ガスフロー性能の組み合わせにより、CVDから焼結まで多種多様な材料科学用途に適応する汎用性の高い装置となっています。
- 安全第一の設計思想: 空冷式二層ケーシングや包括的な警報システムなどの機能により、使用者と高価値実験サンプルの完全性の両方を保護します。
- グローバルな認証とサポート: CE認証に加えNRTL/CSA認証のオプションにより本装置が最高の国際安全規格に適合していることを保証し、対応の早い技術チームがサポートいたします。
本システムの能力の詳細や、お客様固有の研究ニーズに合わせたカスタム構成の見積もりをご希望の場合は、公式な見積もりのために弊社技術営業チームまでお問い合わせください。
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