製品概要

この縦型処理システムは、コンパクトな設計と熱効率の極致であり、急速な熱サイクルと精密な雰囲気制御を必要とする研究室やR&Dセンター向けに特別に設計されています。分割ヒンジ構造を採用することで、反応チャンバーへの即時アクセスが可能となり、複雑な実験セットアップを解体することなく、サンプルの出し入れを迅速に行うことができます。この装置の最大の価値は、卓上操作に最適化された設置面積の中で、超高速加熱と焼入れ機能を両立させている点にあり、ハイスループットな材料試験に不可欠な資産となります。
主に材料科学研究、半導体開発、工業冶金で使用されるこの装置は、厳格な雰囲気管理が必要なシナリオで優れた性能を発揮します。高真空環境下での操作であれ、窒素やアルゴンなどの保護ガスの精密な流量制御下での操作であれ、システムは安定したクリーンな反応ゾーンを提供します。縦型構造は、重力を利用した焼入れ実験に特に有利であり、臨界温度に達した直後にサンプルを焼入れ媒体に落下させることができるため、特定の金属組織を維持することが可能です。
信頼性は、この熱処理ユニットの設計の核心です。最高級の断熱材と高度な発熱体を使用して炉を構築することで、最も過酷な工業的R&D条件下でも一貫した性能を保証します。高純度アルミナ繊維断熱材と空冷式二重層スチールケーシングが連携し、内部のエネルギー効率を最大化しながら外部の安全性を維持します。研究者は、このシステムの堅牢な構造により、何千回もの熱サイクルにわたって再現性のある結果を得ることができ、長期的な実験データの完全性を確保できます。
主な特長
- 高度な縦型分割構造: 加熱チャンバーは、縦方向に開く独自の分割設計を採用しており、研究者は溶融石英管に人間工学に基づいたアクセスが可能です。この設計により、内部のるつぼ、熱電対、吊り下げサンプルの配置が簡素化され、実験間のダウンタイムを大幅に短縮します。
- 精密なPID温度管理: 洗練された30セグメントのプログラムコントローラーを搭載し、±1°Cの精度を実現します。統合されたPIDオートチューニング機能により温度オーバーシュートを防ぎ、複雑な加熱、保持、冷却速度を管理することで、サンプルの熱履歴を完全に制御できます。
- 優れた真空シール技術: 本ユニットには、真空計とニードルバルブを備えた2つの高品質ステンレス製フランジが含まれています。上部フランジにはサンプルやるつぼを吊り下げるための溶接フックリングがあり、アセンブリ全体は標準的なメカニカルポンプで10⁻² Torr、オプションのターボ分子ポンプシステムでそれ以上の真空レベルを達成するように設計されています。
- 高性能発熱体: モリブデン(Mo)をドープしたFe-Cr-Al合金発熱体を使用しており、急速な昇温速度と優れた耐酸化性を実現しています。これらの発熱体は、200mmの有効加熱ゾーンと、中心部に60mmの極めて安定した均熱ゾーンを提供するように戦略的に配置されています。
- 高純度アルミナ繊維断熱材: 内部はエネルギー効率の高いAl₂O₃繊維断熱材で裏打ちされています。この材料は熱質量が低いため、加熱・冷却速度が速く、高温の定常状態を維持するために必要な消費電力を大幅に削減します。
- 安全第一のケーシング設計: 炉のケーシングには、強制空冷ファンを統合した二重層スチール構造を採用しています。この設計により、内部チャンバーが最高連続温度の1000°Cで動作している場合でも、外表面温度をオペレーターが触れても安全なレベルに保ちます。
- モジュール式雰囲気制御: 標準のバーブ継手とニードルバルブにより、不活性ガスの導入が可能です。このシステムは、制御されたガス流量(通常200 SCCM未満)を処理できるように設計されており、石英管への熱衝撃を防ぎながら、化学気相成長や表面処理プロセスに高純度環境を維持します。
- インテリジェントな保護システム: 過熱保護や熱電対断線保護などの安全対策が組み込まれています。過熱が発生した場合、統合されたアラームシステムと自動電源遮断機能により、常時監視なしで装置を安全に稼働させることができ、長時間の焼結やアニールプロジェクトにおいて非常に重要です。
用途
| 用途 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| 材料相研究 | 金属合金の急速加熱・焼入れによる高温相の捕捉。 | 効率的な重力落下式焼入れ機構。 |
| 半導体R&D | 制御された不活性雰囲気下での1インチおよび2インチウェハーまたは基板の処理。 | 高純度石英環境による汚染防止。 |
| 化学気相成長 (CVD) | グラフェンやMoS₂などの2D材料を含む薄膜およびナノ材料の合成。 | 精密な流量制御と均一な温度分布。 |
| 焼結およびアニール | 真空または窒素フロー下でのセラミックおよび金属粉末の熱処理。 | プログラム可能なサイクルによる一貫した結晶粒成長。 |
| 材料溶解度 | 工業研究所における溶解度試験のための塩またはガラス成分の急速加熱。 | 高速な熱応答時間と目視監視。 |
| 触媒試験 | 連続ガスフロー下での高温における触媒性能の評価。 | 均一性のための安定した60mm均熱ゾーン。 |
技術仕様
| パラメータグループ | 仕様詳細 | 値 / バリエーション |
|---|---|---|
| モデル識別子 | 基本ユニット参照 | TU-C03 |
| 温度指標 | 最高温度 | 1100ºC |
| 連続使用温度 | 1000ºC | |
| 最大昇温速度 | ≤ 20ºC/分 | |
| 熱幾何学 | 加熱ゾーン長 | 200mm (単一ゾーン) |
| 均熱ゾーン | 60mm (+/- 1ºC) | |
| 電源 | 標準構成 | 1.2 KW; 110VAC (10A) または 208-240VAC (6A) |
| 周波数 | 50/60 Hz | |
| 管構成 | バリエーション TU-C03-25 | 外径25mm x 内径20mm x 長さ610mm (溶融石英) |
| バリエーション TU-C03-50 | 外径50mm x 内径44mm x 長さ600mm (溶融石英) | |
| オプション材料 | SS304またはSS310合金管 (要リクエスト) | |
| 制御システム | コントローラーモデル | PIDオートチューニング付き30プログラムセグメント |
| 精度 | +/- 1ºC (標準) / +/- 0.1ºCにアップグレード可能 | |
| 安全機能 | 過熱アラーム; 熱電対断線保護 | |
| 真空・シール | フランジ材料 | ステンレス鋼 (SS304)、真空計およびバルブ付き |
| 真空レベル | 10⁻² Torr (メカニカルポンプ); 10⁻⁴ Torr (オプションの分子ポンプ) | |
| 継手ポート | 1/4インチバーブ式ニードルバルブ (Swagelok / KF25はオプション) | |
| 寸法・構造 | ケーシング | 空冷ファン付き二重層スチール |
| 断熱材 | 高純度Al₂O₃繊維断熱材 | |
| 雰囲気フロー | 推奨ガス流量 | < 200 SCCM (標準ガス圧 < 3 PSIG) |
| コンプライアンス | 規格 | CE認証取得済み (NRTL/CSAはリクエストにより対応可) |
この石英管炉を選ぶ理由
- 優れた熱管理: 低熱質量のAl₂O₃断熱材とMoドープ発熱体の組み合わせにより、極めて速い昇温速度と急速焼入れが可能であり、現代の材料研究や焼入れプロトコルにおいて譲れない要素です。
- 安定性のための精密工学: 標準的なボックス炉とは異なり、この縦型システムは専用の雰囲気制御環境を提供します。高品質の石英管を使用することで、化学的不活性と熱衝撃耐性を最大化し、サンプルの純度を保護します。
- 連続使用における安全性と信頼性: 空冷式二重層ケーシングとフェイルセーフPIDコントローラー保護により、本システムは工業および学術研究室での24時間365日の信頼性を考慮して設計されており、ハードウェアの故障によって研究が損なわれることはありません。
- 多用途でカスタマイズ可能: 高精度Eurothermコントローラーへのアップグレードや、ワイヤレスPCベースのデータロギングオプションなど、この装置は研究ニーズに合わせて成長する柔軟なプラットフォームであり、複数の管サイズや真空要件をサポートします。
- 業界をリードする構築品質: SUS304真空フランジから内部の繊維ライニングに至るまで、すべてのコンポーネントは、長期的な耐久性と高温サイクルの過酷さに耐えるために選択されています。
このシステムは、材料科学の未来に焦点を当てたあらゆる施設にとって重要なアップグレードとなります。カスタマイズの詳細や正式な見積もりについては、今すぐ弊社の技術営業チームまでお問い合わせください。
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい!
関連製品
1100°C 分割型縦型チューブ炉(80mm石英管およびステンレス製真空フランジ付き)
この高性能な1100°C分割型縦型チューブ炉は、80mm石英管、ステンレス製真空フランジ、および精密な30セグメントPID制御を備えています。材料研究開発、急速冷却、および専門的な産業研究所での雰囲気制御熱処理のために設計されています。
急速熱処理用1200℃石英管・ステンレス鋼真空フランジ付き分割型垂直管状炉
この1200°C対応分割型垂直管状炉は、5インチ石英管と精密PID制御を備え、急速焼入れ、真空処理、高度な材料合成を実現し、要求の高い産業研究環境における研究効率を最大化します。
4インチ石英管およびステンレス鋼製真空フランジ付き、最大1200℃対応の5ゾーン分割式縦型チューブ炉
この高性能な1200℃対応の5ゾーン分割式縦型チューブ炉は、5つの独立加熱ゾーンと4インチ石英管を備え、先端材料研究および産業用熱処理において卓越した温度均一性と急冷性能を提供します。
1100°C デュアルゾーン分割型縦型チューブ炉(4インチ石英管および真空シールフランジ付き)
この1100°Cデュアルゾーン分割型縦型チューブ炉は、4インチの石英管と真空シールフランジを備えています。CVDおよびPVD用途向けに設計されたこの高精度システムは、研究開発において卓越した熱均一性を実現します。
1200°C 5インチ垂直型石英管状炉(ステンレス製真空フランジ付き)
5インチ径のチャンバーとステンレス製真空フランジを備えた高性能1200°C垂直型石英管状炉。30セグメントの精密PID制御により、材料科学の研究開発、CVD、および制御雰囲気下での特殊な焼入れ用途において正確な熱処理を実現します。
1200C 三ゾーン分割式縦型チューブ炉 4インチ石英管 ステンレス鋼真空フランジ
この1200C三ゾーン分割式縦型チューブ炉は、高精度な熱処理のための4インチ石英管とステンレス鋼真空フランジを備えています。材料の急冷や合成に最適で、この堅牢なシステムは均一加熱と迅速な試料投入アクセスを実現します。
統合真空システムおよび精密温度校正器付きコンパクト分割管状炉
統合真空システムと精密温度校正器を備えた、この高性能コンパクト分割管状炉で材料研究を強化しましょう。要求の厳しい実験室用途や高度な産業用熱処理プロセスにおいて、最大1200°Cまでの優れた熱均一性と高精度な温度制御を実現します。
研究用 1200℃ 高温分割型チューブ炉(ヒンジ式真空フランジ・4インチ石英管付)
この1200℃分割型チューブ炉は、ヒンジ式真空フランジと4インチ石英管を備え、サンプルのセットアップを簡素化します。精密な熱処理のために設計されており、先端材料科学や産業用R&D用途において、優れた温度均一性と真空性能を提供します。
1100°C 大口径石英チューブ炉(24インチ加熱ゾーンおよび水冷フランジ付き)
この1100°C大口径石英チューブ炉は、24インチの加熱ゾーンと精密なCVD処理のための水冷フランジを備えています。材料研究や産業用R&Dに最適で、優れた熱安定性と堅牢な熱性能を提供します。
高温材料合成用、オプションの石英管および真空フランジシステム付き 24インチ 3ゾーン分割式チューブ炉
独立した温度制御、石英管対応、真空シールフランジを備えたこの高級24インチ3ゾーン分割式チューブ炉で、材料研究を加速します。1200°Cまでの精密な熱処理を実現し、要求の厳しい実験室および産業R&D用途に対応します。
1100°C 高温石英チャンバー炉 8インチ外径 7.6リットル容量 真空雰囲気対応
外径8インチ、容量7.6リットルの1100°C石英チャンバー炉で、研究室の能力を向上させましょう。真空および制御雰囲気環境向けに設計されたこのシステムは、先端材料研究や半導体製造のための精密な熱処理を提供します。
マルチゾーンアニールおよび材料研究用 3インチ石英管付き 高スループット1200℃ 4チャンネル管状炉
各3インチ石英管を個別に制御可能な、当社の先進的な1200℃ 4チャンネル管状炉で材料研究を加速させます。この高スループットシステムは、産業および学術研究開発ラボにおけるアニールや状態図研究に比類のない効率性を提供します。
石英管と真空フランジを備えた材料合成用高温ロッキングチューブ炉
高純度石英管と真空フランジを備えた高精度ロッキングチューブ炉で、材料研究を強化します。均一な熱処理のために設計されており、安定した試料撹拌を実現し、優れた熱電材料合成や先進的な2次元結晶成長に貢献します。
11インチまたは15インチ石英管とヒンジ式フランジを装備した真空雰囲気熱処理用3ゾーンチューブ炉
本3ゾーンチューブ炉は11インチまたは15インチの石英管を備え、精密な真空制御下での大規模ウェハアニーリングや材料合成に優れた熱均一性を実現します。産業研究所の安全性のため電動式リッド操作に対応しています。
1インチ・2インチ処理チューブ対応 PID温度コントローラ搭載 高温竪型分割式チューブ炉
材料科学研究および触媒開発向けに設計された、高精度な1100℃対応竪型分割チューブ炉です。高性能PID制御、チューブ交換を容易にする分割カバー設計、優れた断熱性を特長とし、研究室および産業用途の研究開発において高性能な加熱を実現します。
挿入型温度校正器および真空システム一体型コンパクト分割式管状炉
この高性能なコンパクト分割式管状炉は、真空システムと精密温度校正器を一体化しています。1200°Cまでの材料研究用に設計されており、優れた熱均一性、高度なPID制御、および要求の厳しい産業・研究用加熱用途に対応する堅牢な性能を提供します。
タッチスクリーン制御・高純度石英管・真空シールフランジ付き 1200℃ 4ゾーン分割型チューブ炉
高度なタッチスクリーンコントローラー、高純度石英管、柔軟な真空シールフランジを備えたこの1200℃ 4ゾーン分割型チューブ炉で、材料科学研究を強化しましょう。産業用途全体で精密な温度勾配制御と一貫した高温処理を実現します。
12ゾーン超長尺分割型チューブ炉(20フィート石英管、最高温度1100℃)
この高精度な12ゾーン分割型チューブ炉は、6メートルの加熱長と最高温度1100℃を実現し、長尺サンプルの処理に最適です。独立したPID制御と真空対応フランジを備え、先端材料科学や研究開発用途において卓越した均熱性を提供します。
材料焼入れおよび単結晶育成用 1700℃高温縦型分割式チューブ炉
この高度な1700℃縦型分割式チューブ炉は、材料の焼入れや単結晶育成のための精密な熱処理を実現します。研究開発向けに設計された本システムは、真空対応およびPID制御を備えており、要求の厳しい産業研究ラボ環境において、信頼性が高く再現性のある結果を提供します。
三ゾーン加熱 分割式縦型チューブ炉 1700 高温真空雰囲気熱処理システム
産業研究開発および材料科学用途向けの先進的な1700°C三ゾーン加熱分割式縦型チューブ炉。独立した熱制御、高真空機能、そしてエネルギー効率の高い断熱により、安定した高温処理と迅速な試料急冷結果を実現する高精度システムです。