製品概要



この高度な熱処理システムは、高温材料研究および産業生産において比類のない精度を提供するように設計されています。独自の4ゾーン加熱構造を利用することで、オペレーターは完全に均一な定温ゾーンを作成するか、またはカスタマイズされた温度勾配を確立するかを選択できます。この汎用性は、化学反応を駆動し、結晶成長を促進し、または厳密な詳細で相転移を管理するために特定の温度プロファイルが必要とされる先進材料合成に不可欠です。分割炉設計はさらに運用効率を高め、迅速な冷却と石英処理チューブへの容易なアクセスを可能にし、高スループットの実験室環境にとって不可欠な資産となっています。
厳しいR&Dサイクルおよびパイロットスケール製造向けに設計されたこの装置は、半導体拡散、セラミック焼結、特殊焼鈍プロセスに優れています。その堅牢な構造と高度な断熱材は、1200°Cのピーク温度を維持しながら、敏感な実験室環境と周囲の電子機器を放熱から保護します。航空宇宙やバッテリー技術から固体化学に至るまでの幅広い産業が、真空または制御雰囲気条件下で再現性のある結果を提供するこのシステムの能力に依存しています。高純度石英と精密真空シールの統合は、最も敏感な分析サンプルに対しても清潔で汚染のない環境を提供します。
信頼性は、この熱システムのエンジニアリングの礎石です。高純度繊維状アルミナ断熱材から頑丈な冷却ファンに至るまでのすべてのコンポーネントは、連続運転下での構造的完全性と性能の長寿命を確保するために選定されています。二重層鋼製ハウジングは、ピーク加熱サイクル中でも触れても冷たい状態を保ち、オペレーターの安全性と機器の耐久性を優先します。最先端のタッチスクリーン自動化と伝統的な分割炉の信頼性を組み合わせることで、このシステムは、高温処理のパワーと多ゾーン熱管理の繊細さの両方を必要とする研究者に、プロフェッショナルグレードのソリューションを提供します。
主な特徴
- 独立制御4ゾーン加熱: このシステムは、150mm-300mm-300mm-150mmの構成で配置された4つの異なる加熱ゾーンを備えており、精密な温度勾配の作成または大規模バッチ処理のための合計900mmの広大な加熱長を可能にします。
- 高度なタッチスクリーンインターフェース: 集中型高解像度タッチパネルは4つのPIDコントローラーを統合し、±1°Cの精度で加熱速度、保持時間、冷却曲線のシームレスな30セグメントプログラミングを可能にします。
- 効率のための分割炉エンジニアリング: ヒンジ付き分割ケース設計により、チャンバーの迅速な開放が可能になり、処理後のサンプル冷却を速め、石英チューブおよび内部治具の取り付けまたは取り外しを簡素化します。
- 高性能真空シール: 内蔵ニードルバルブ、機械式圧力計、ボールバルブを備えたプロフェッショナルグレードの真空シールフランジシステムを装備し、適切なポンプシステムで10-4 Torrまでの深い真空レベルをサポートします。
- 優れた断熱性: 高純度繊維状アルミナ断熱材を利用することで、システムはエネルギー消費を最小限に抑え、熱漏れを防止し、内部の熱安定性を維持しながら外殻が安全な温度に保たれることを保証します。
- 精密熱電対アレイ: 4つのK型熱電対がゾーン内に戦略的に埋め込まれており、熱プロファイルの瞬時調整のためにPIDコントローラーにリアルタイムの高精度温度フィードバックを提供します。
- 強化された安全プロトコル: この装置には、内蔵過熱保護と熱電対断線警報システムが含まれており、無人運転中のハードウェア損傷または実験損失を防ぐために加熱を自動的に停止します。
- 多様なチューブ互換性: このシステムは、80mmから130mmまでの複数の石英チューブ径に対応するように設計されており、研究者は完全に新しい炉システムに投資することなくサンプルサイズをスケールする柔軟性を提供します。
- 強制空冷システム: エネルギー効率の高い冷却ファンを備えた統合二重層鋼製ケースにより、内殻と外殻の間の連続的な気流が確保され、電子部品の寿命が大幅に延長されます。
- 産業用PC接続性: RS485通信ポートと専用ソフトウェアを備えており、システムはリモート監視、データロギング、および包括的な監査証跡のための複雑な熱サイクルのPCベース制御を可能にします。
応用例
| 応用分野 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| 半導体拡散 | 処理チューブ全体に精密な温度勾配を使用してシリコンウェーハに不純物を導入。 | バッチ全体で均一な接合深度と電気的特性を保証。 |
| 全固体電池R&D | 制御雰囲気または真空下での電解質材料および電極コーティングの焼結。 | 敏感な電池部品の酸化を防止し、高いイオン伝導率を確保。 |
| CVD / PECVDプロセス | 薄膜、ナノチューブ、またはナノワイヤーの化学気相成長のための熱反応炉として機能。 | 安定した多ゾーン加熱により、気相反応と膜厚の精密制御が可能。 |
| 金属合金の焼鈍 | 精密加工された航空宇宙または医療用金属部品の内部応力緩和。 | 制御された冷却速度と真空環境により、表面脱炭およびスケーリングを防止。 |
| セラミック共焼成 | 積層セラミックコンデンサまたは圧電材料の高温処理。 | 300mmの定温ゾーンにより、均一な収縮と構造密度が確保。 |
| 結晶成長 | 4ゾーン勾配能力を利用して、ブリッジマン法またはチョクラルスキー法の成長方法を促進。 | 調整可能な温度勾配により、高純度結晶のための固液界面の厳密な制御が可能。 |
| 雰囲気焼結 | 窒素、アルゴン、またはフォーミングガス中の酸化物セラミックを加熱して理論密度に到達。 | 高品質の真空フランジとニードルバルブにより、精密なガス流量管理と純度が可能。 |
| 触媒試験 | 様々な流量条件下での高温における工業用触媒の性能評価。 | 堅牢な石英チューブ構造が、腐食性ガス環境と急速な熱サイクルに耐える。 |
技術仕様
一般的なシステムパラメータ
| 特徴 | 仕様詳細 (モデル TU-45) |
|---|---|
| 品番 | TU-45 |
| 炉構造 | 強制空冷ファン付き二重層鋼製ケース |
| 断熱材 | 高純度繊維状アルミナ断熱材 (省エネルギー) |
| 最高温度 | 1200 °C (1時間未満) |
| 連続使用温度 | 1100 °C |
| 最大昇温速度 | ≤ 20 °C / 分 |
| 温度精度 | ± 1 °C |
| 熱電対タイプ | K型熱電対 4組 |
多ゾーン構成
| 加熱ゾーンメトリクス | 測定値 |
|---|---|
| 総加熱ゾーン長 | 900 mm |
| ゾーン個別長 | ゾーン1: 150mm | ゾーン2: 300mm | ゾーン3: 300mm | ゾーン4: 150mm |
| 定温ゾーン | 300 mm以内 ± 2 °C (全ゾーン同一設定値時) |
| 制御方式 | タッチスクリーン経由の各ゾーン独立PID制御 |
電力および電気的要件
| パラメータ | 要件 |
|---|---|
| 入力電圧 | AC 208-240V 単相、50/60 Hz |
| 最大消費電力 | 7 KW |
| 回路保護 | 50Aブレーカー必要 |
| 通信インターフェース | RS485ポート (ソフトウェア付属) |
処理チューブおよびバリアントオプション
| 基本モデル | チューブ材質 | チューブ寸法 (外径 x 内径 x 長さ) | フランジ互換性 |
|---|---|---|---|
| TU-45-80 | 高純度石英 | 80 mm x 74 mm x 1400 mm | 1/4" フィッティング付き真空シール |
| TU-45-100 | 高純度石英 | 100 mm x 94 mm x 1400 mm | 1/4" フィッティング付き真空シール |
| TU-45-130 | 高純度石英 | 130 mm x 124 mm x 1400 mm | 1/4" フィッティング付き真空シール |
真空および雰囲気制御
| 特徴 | 仕様 |
|---|---|
| 真空レベル (ターボポンプ) | 最大 10-4 Torr |
| 真空レベル (機械式) | 最大 10-2 Torr |
| 真空ポート | KF25ポート (要望により利用可能) |
| ガス圧力制限 | < 0.2 bar (標準運転) |
| 最大ガス流量 | < 200 SCCM (石英の熱衝撃を保護するため) |
| 付属アクセサリー | ニードルバルブ、機械式ゲージ、ボールバルブ、セラミックチューブブロック |
当社を選ぶ理由
- 比類なき熱的柔軟性: 4ゾーン構成は、標準的な単一ゾーン炉では実現できないレベルの制御を提供し、複雑な勾配合成とより大きな体積にわたる優れた均一性を可能にします。
- 直感的なタッチ制御: 4つの独立したコントローラーを単一のタッチスクリーンインターフェースに統合することで、オペレーターエラーを減らし、複雑な30セグメント熱プロファイルの管理を簡素化します。
- プロフェッショナルな真空エンジニアリング: 標準的な実験室用オーブンとは異なり、このシステムは高真空完全性のために最適化されており、産業用半導体処理の基準を満たす精密加工フランジと高品質石英を備えています。
- 安全第一の設計: 二重殻構造と集中的な空冷は、人通りの多い実験室環境での安全性のために設計されており、高い内部温度が要員や他の機器にリスクをもたらさないことを保証します。
- 投資グレードの耐久性: 高純度アルミナ断熱材とプレミアム加熱体で構築されたこのシステムは、厳しいR&D環境での一貫した性能を長年にわたって提供するように設計されており、信頼性を通じて高い投資収益率を提供します。
この高性能4ゾーン熱システムは、実験室熱処理技術の頂点を表しています。THERMUNITSまでお問い合わせいただき、お見積りのご依頼または特定の材料科学要件に合わせたカスタマイズ構成についてご相談ください。
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい!
関連製品
材料研究・真空および雰囲気熱処理用 1500℃ 高温分割型チューブ炉
この1500℃高温分割型チューブ炉は、高度な材料研究や工業用焼結用途向けに精密な熱処理を提供します。二重シェル構造、統合型PID制御、真空対応ステンレス製フランジを備え、過酷なラボ環境でも信頼性の高い性能を発揮します。
精密熱処理向け3インチムライト管・真空密封フランジ搭載 1250℃分割式チューブ炉
本1250℃分割式チューブ炉は、先端研究開発向けに3インチムライト管と真空密封フランジを標準搭載。材料科学用途に設計され、精密PID制御、高純度断熱、真空・制御雰囲気下での信頼性の高い性能を提供するプロフェッショナルグレードの装置です。
オプションの大型径石英管付き 1200°C 最大 4ゾーン分割チューブ炉
オプションの直径14インチチャンバーと高純度断熱材を備えた、この1200°C 4ゾーン分割チューブ炉で材料研究を加速します。広い加熱ゾーン全体で高精度な温度均一性を実現し、大規模焼結、アニーリング、先進的な工業用気相成長プロセスに最適です。
4ゾーン 1200℃ マルチゾーン分割式チューブ炉 1インチまたは2インチ処理チューブ用独立デジタル温度コントローラー搭載
CVDおよびPVD用途向けに設計された精密な4ゾーン1200℃マルチゾーン分割式チューブ炉は、4つの加熱ゾーン全体で独立した温度制御を提供し、高度な材料研究および産業開発のための正確な温度勾配または均一なプロセス環境を作成します。
急速熱処理用1200℃石英管・ステンレス鋼真空フランジ付き分割型垂直管状炉
この1200°C対応分割型垂直管状炉は、5インチ石英管と精密PID制御を備え、急速焼入れ、真空処理、高度な材料合成を実現し、要求の高い産業研究環境における研究効率を最大化します。
1200°C 10ゾーン分割型チューブ炉(水平・垂直設置対応、マルチゾーン熱勾配および大口径材料処理用)
10個の独立した加熱ゾーンによる比類のない熱勾配制御と、水平・垂直設置が可能な柔軟性を備えた、先進の1200°C 10ゾーン分割型チューブ炉システム。精密な産業シミュレーション、材料合成、高性能な研究開発(R&D)熱処理用途向けに設計されており、卓越した信頼性を誇ります。
4ゾーンチューブ炉 1100℃ 600mm大口径石英管・真空フランジ付き
24インチ石英管を搭載し、1100℃の精密温度制御を実現する高性能な4ゾーンチューブ炉です。大規模材料処理、焼結、CVD用途向けに設計されており、要求の厳しい研究開発環境において優れた温度均一性と信頼性の高い真空シーリングを提供します。
1500℃高温熱処理およびCVD用アルミナ管・真空フランジ付き6ゾーン分割管状炉
この1500℃対応6ゾーン分割管状炉は、専門的な研究室での研究や高温CVD用途に優れた熱制御を提供します。1800mmのアルミナ管と、一貫した材料処理およびアニール結果を実現する精密な30セグメントPIDコントローラーを備えています。
高温1600℃ 分割型チューブ炉 真空フランジ・バルブ付 オプション:60mm/80mmアルミナチューブ
真空フランジ、バルブ、高精度PID制御を備えた高性能1600℃分割型チューブ炉です。60mmまたは80mmのアルミナチューブに対応し、先端材料の研究開発における雰囲気制御熱処理や高真空処理環境に最適です。
マルチゾーンアニールおよび材料研究用 3インチ石英管付き 高スループット1200℃ 4チャンネル管状炉
各3インチ石英管を個別に制御可能な、当社の先進的な1200℃ 4チャンネル管状炉で材料研究を加速させます。この高スループットシステムは、産業および学術研究開発ラボにおけるアニールや状態図研究に比類のない効率性を提供します。
高温1700℃ 6ゾーン分割型チューブ炉(アルミナチューブ、⽔冷フランジ付き)
材料研究および産業用蒸着用途向けに設計された高精度1700℃六ゾーン分割型チューブ炉です。この多用途システムは、独立した温度ゾーン制御と真空対応フランジを備え、一貫した熱処理と高度な材料開発要件に対応し、最大限の性能を実現します。
1200°C 高温 5インチ スプリット真空チューブ炉、12インチ加熱ゾーンおよび分離型PIDコントローラー付き
この高性能な1200°Cスプリット真空チューブ炉で、精密な熱処理を実現します。大型の5インチ石英チューブ、12インチ加熱ゾーン、分離型PIDコントローラーを備え、このNRTL認証システムは、高度な材料研究および産業R&D用途において信頼性の高い結果を保証します。
1200℃高温勾配熱処理用 10ゾーン多方向実験室チューブ炉
複雑な熱プロファイリング向けに最適化されたこの10ゾーン炉は、水平・垂直両方向で1200℃の高精度制御を実現します。1470mmの加熱長全体にわたり、大規模な温度勾配が必要な素材研究開発や、信頼性の高い雰囲気制御プロセスに最適です。
高度な雰囲気焼結および真空CVDアプリケーション向け高温デュアルゾーン分割型管状炉
この高精度1400℃デュアルゾーン分割型管状炉で材料研究を強化しましょう。独立した温度制御、雰囲気焼結機能、優れた熱安定性を備えており、高度なCVD実験や産業用熱処理プロジェクトに最適なソリューションです。
6ゾーン分割型チューブ炉 1.8メートル石英管 1200℃高温加熱システム
この6ゾーン高温分割型チューブ炉は、柔軟な温度勾配と1.8メートルの加熱ゾーンを提供します。最高温度1200℃の真空対応システムであり、6つのPIDコントローラーを搭載。高度な材料研究や産業用熱処理アプリケーションに最適です。
三ゾーン加熱 分割式縦型チューブ炉 1700 高温真空雰囲気熱処理システム
産業研究開発および材料科学用途向けの先進的な1700°C三ゾーン加熱分割式縦型チューブ炉。独立した熱制御、高真空機能、そしてエネルギー効率の高い断熱により、安定した高温処理と迅速な試料急冷結果を実現する高精度システムです。
1200°C 5インチ垂直型石英管状炉(ステンレス製真空フランジ付き)
5インチ径のチャンバーとステンレス製真空フランジを備えた高性能1200°C垂直型石英管状炉。30セグメントの精密PID制御により、材料科学の研究開発、CVD、および制御雰囲気下での特殊な焼入れ用途において正確な熱処理を実現します。
材料研究および工業用熱処理用 1700℃高温3ゾーン管状炉(アルミナ管 外径50mm 60mm 80mm)
この高性能1700℃ 3ゾーン管状炉は、精密アルミナ管と独立した加熱制御を特徴としています。高度な材料研究向けに設計されており、化学気相成長(CVD)や複雑な雰囲気制御下の工業用熱処理プロセスにおいて、優れた温度均一性と安定性を提供します。
タッチスクリーンコントローラーと複数の石英管オプションを備えた5ゾーン1200℃高温分割式チューブ炉
精密な熱勾配と雰囲気制御のために設計された高性能5ゾーン1200℃チューブ炉です。本システムは、直感的なタッチスクリーンプログラミングと真空シール機能を備え、精密焼結、アニーリング、材料合成の各ワークフローにおいて安定した結果を実現します。
高温3ゾーン分割型チューブ炉 最高1200℃ 加熱長35.4インチ 内径8インチチューブ
この高性能な3ゾーン分割型チューブ炉は、35.4インチの加熱ゾーンと8インチ径のチューブを備え、高度な熱処理を実現します。独立したゾーン管理により、真空またはガス雰囲気下で最高1200℃の温度と優れた均熱性を達成します。