最高使用温度1200℃・大口径石英管採用 7ゾーン分割型チューブ炉

製品概要

この高性能熱処理システムは、精密な温度勾配と広大な加熱容積が不可欠な産業規模の研究およびパイロット生産環境向けに設計されています。独自の7ゾーン加熱アーキテクチャを採用することで、非常に長く安定した均一温度ゾーンを形成できるため、大量の材料合成、半導体プロセス、複雑な化学気相成長（CVD）アプリケーションに最適です。分割可能な設計により、処理チャンバーへのアクセスが容易になり、高純度環境内での重量物や繊細なサンプルのセットアップが簡素化されます。

本システムは汎用性を重視しており、10^-2から10^-5 torrの真空レベルや多様なガス雰囲気に対応しています。広範囲な処理領域で一貫した再現性の高い結果を求める先端材料科学研究所、冶金部門、ハイテク製造施設にとっての基盤となります。アニール、焼結、コーティングプロセスのいずれにおいても、現代の材料工学基準が求める熱安定性を提供します。

信頼性は本炉の構造の核心です。アクティブファン冷却を備えた二重鋼製ケースと高純度繊維状アルミナ断熱材を採用し、外部温度を低く保ちながらエネルギー効率を最大化しています。電動シリンダー駆動のトップカバーにより、高スループットの産業現場でもスムーズかつ安全な操作が可能で、安全性や性能を損なうことなく過酷な熱サイクルを管理できます。

主な特長

• 7ゾーン独立温度制御： 7つの独立した加熱ゾーンを備え、それぞれが専用のデジタルPIDコントローラーで制御されます。これにより、熱勾配の精密な管理や、±2ºC以内の広大な1350mm均一温度ゾーンの維持が可能です。
• 電動シリンダー分割設計： 上部分割カバーは高耐久電動シリンダーで駆動され、スムーズで自動化された開閉を実現します。これにより、急速冷却、チューブ交換、サンプル投入が手動リフトなしで簡単に行えます。
• 精密加熱エレメント： 7つの全ゾーンに戦略的に配置された高性能熱エレメントにより、最大10°C/分の急速昇温と、短時間プロセスでの最高使用温度1200°Cを実現します。
• 高度な雰囲気制御： 8インチの内径を持つ大型石英管と、二重高温シリコンOリングを備えたステンレス製真空フランジにより、真空または不活性ガス処理のための強固なシール性を確保します。
• 水冷ジャケット内蔵： 真空フランジには水冷ジャケットが内蔵されており、高温からシール用Oリングや計器を保護し、連続運転中の長期的なシール完全性を保証します。
• 優れた断熱性能： 省エネ型の高純度繊維状アルミナ断熱材を使用することで、熱損失を最小限に抑え、昇温時間を短縮しつつ、外部ケース温度を70°C以下に保ちます。
• 包括的な安全システム： 過熱防止機能、熱電対断線保護、および過熱アラームを内蔵しており、長時間の熱サイクル中でも無人での安全な運転が可能です。
• デュアル冷却ファン構造： 二重鋼製ケース構造と2基の高速冷却ファンにより効率的な放熱を実現し、内部電子部品の寿命を延ばします。
• デジタル通信とソフトウェア： RS485通信ポートを内蔵し、PCによる制御と監視が可能です。複雑な30セグメントの加熱プロファイルをリモートで保存、読み込み、分析できます。
• 多様な材料適合性： 大口径石英管と付属のバッファー型熱ブロックは、多種多様なルツボ、ウェハーボート、材料搬送システムに最適化されています。

アプリケーション

技術仕様

高温7ゾーン分割型チューブ炉を選ぶ理由

• 比類なき温度均一性： 7ゾーン構造により、クラス最長の安定した加熱領域を提供し、大規模な産業用サンプルでも端から端まで同一の熱条件を体験できます。
• 工業グレードの堅牢性： 連続運転を前提に設計されており、高品質な鋼材構造、高度な冷却システム、国際基準に適合した高品質PID電子機器を備えています。
• 精密な真空完全性： 特殊なステンレス製フランジと高純度石英管により、半導体や航空宇宙用途に不可欠な超クリーン環境を維持できます。
• 高度なプロセス自動化： 30セグメントのプログラミングとオプションのソフトウェア統合により、複雑な熱サイクルを容易に自動化し、オペレーターのミスを減らしてスループットを向上させます。
• 柔軟なカスタマイズ： Eurothermコントローラーのアップグレードからカスタムガス供給システムまで、お客様の特定研究や生産要件に合わせて炉をカスタマイズする柔軟性を提供します。

当社のエンジニアリングチームが、貴社の研究室や生産ラインに最適な熱ソリューションの構成をサポートいたします。技術的なご相談や正式な見積依頼については、今すぐお問い合わせください。