製品概要
この高温熱処理システムは、精密な温度勾配と高スループットの研究が極めて重要となる、高度な材料科学アプリケーション向けに特別に設計されています。8つの独立して制御される加熱ゾーンを統合することで、単一ゾーンや3ゾーンの炉では実現不可能な複雑な熱プロファイルの作成が可能です。この機能は、傾斜機能材料の開発や多相変態再結晶の研究に不可欠であり、制御された実験室環境で実際の産業用冷却・加熱サイクルをシミュレートする柔軟性を研究者に提供します。
過酷な産業用R&D環境での信頼性を考慮し、本システムは高純度ムライトセラミック管と分割チャンバー構成を採用しています。この設計により反応ゾーンへのアクセスが容易になり、サンプルの迅速なセットアップや複雑な実験構成の統合が可能になります。堅牢な炭化ケイ素発熱体は1500℃までの一貫した性能を保証し、過熱保護や自動アラームなどの二次安全層により、継続的な監視なしでの長時間運転が可能です。これにより、本システムは先端セラミックス、冶金、半導体研究に欠かせないツールとなっています。
極めて高い安定性で動作する本装置は、高純度雰囲気または真空環境を維持し、触媒黒鉛化や炭素系材料の細孔構造の進化に関する研究をサポートします。タッチスクリーン温度コントローラーから精密加工されたフランジに至るまで、すべてのコンポーネントはプレミアムな実験室エンジニアリングの厳しい基準を満たすよう選定されています。本ユニットは、精度、再現性、および初期段階の発見から再現可能な産業用プロトタイプまで熱プロセスをスケールアップする能力を求める研究者に、汎用性の高いプラットフォームを提供します。
主な特長
- 8チャンネル独立ゾーン制御: 8つの加熱ゾーンそれぞれが専用のタッチスクリーンPIDコントローラーによって管理されており、1500℃まで、他に類を見ない空間精度で急勾配または緩やかな熱勾配を作成できます。
- 高度な熱勾配チューニング: 本システムは1インチあたり最大100℃の熱勾配を実現可能で、ゾーン間に断熱スペーサーを挿入することで、カスタマイズされた熱場プロファイリングが可能です。
- 高性能炭化ケイ素発熱体: 1500℃グレードのSiCロッドを16本装備し、迅速な昇温速度を実現するとともに、400mmの加熱長全体にわたって安定した温度を維持するために必要な熱密度を提供します。
- 精密ムライトセラミック反応管: 米国製の高純度ムライト管（外径84mm）を同梱しており、真空および低圧条件下での耐熱衝撃性と化学的安定性を考慮して特別に選定されています。
- 最新のヒューマンマシンインターフェース: 統合されたタッチスクリーンコントローラーは、昇温、冷却、保持時間の正確な自動化のための30のプログラム可能なセグメントを備え、RS485通信によるデータロギング機能も完備しています。
- 優れた分割チャンバー設計: 炉ハウジングは分割開閉式を採用しており、加熱チャンバーを縦方向に開くことができるため、繊細なサンプルを乱すことなく、組み立て済みの管、熱電対、センサーの設置が容易です。
- 真空および雰囲気の汎用性: 低圧環境に最適化されており、メカニカルポンプで10E-2 torr、分子ポンプシステムで10-5 torrの真空レベルを維持でき、高品質な真空フランジとシールによってサポートされています。
- 冗長安全システム: 過熱保護、熱電対断線アラーム、緊急遮断プロトコルが組み込まれており、研究スタッフと処理される高価な材料の両方の安全を確保します。
- スケーラブルなデジタルモニタリング: オプションのLabviewベースのソフトウェアとWiFi制御により、最大300メートル範囲での熱処理レシピの遠隔監視と管理が可能で、現代のネットワーク化された研究施設に最適です。
用途
| 用途 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| 傾斜機能材料 | サンプル長全体に異なる温度を印加することで、空間的に特性が変化する材料を合成する。 | 単一の処理プロセス内で機械的および化学的勾配を精密に制御可能。 |
| 相変態研究 | 複数の温度ポイントにわたる高スループットな相変化および再結晶化速度論を同時に調査する。 | 1サイクルで複数の温度ゾーンからデータを収集し、研究期間を短縮。 |
| 触媒黒鉛化 | 炭素と触媒の混合物を高温処理し、アモルファス炭素を黒鉛構造に変換する。 | 優れた熱場の均一性により、均一な変換と安定した細孔構造の発達を保証。 |
| 半導体CVDサポート | 大面積の温度均一性を必要とする化学気相成長（CVD）プロセスに安定した熱環境を提供する。 | 高精度PID制御により局所的な過熱を防ぎ、成膜の一貫性を確保。 |
| セラミック同時焼成 | 収縮率の違いを管理するために特定の加熱ゾーンを必要とする複雑なセラミック部品の焼結。 | 独立したゾーン制御により内部応力を低減し、セラミック・金属複合材料の亀裂を防止。 |
| 航空宇宙合金研究 | ジェットエンジン環境をシミュレートするため、高温勾配下で耐熱合金をテストする。 | 信頼性の高い1500℃の能力により、現実的な極限動作条件下でのテストが可能。 |
| 核材料試験 | 被覆材や構造材料の試験のために、原子炉炉心で見られる熱プロファイルをシミュレートする。 | 堅牢なSiC発熱体とムライト管が、長時間の過酷な熱サイクルに必要な耐久性を提供。 |
技術仕様
| パラメータ | モデル TU-68 の仕様詳細 |
|---|---|
| 製品モデル識別子 | TU-68 |
| 定格出力 | 9.0 kW |
| 動作電圧 | AC 208 - 240V, 単相, 50/60Hz (50Aブレーカーが必要) |
| 最高使用温度 | 1500°C |
| 常用使用温度 | 1400°C |
| 推奨昇温速度 | ≤ 5°C / 分 |
| 処理管材質 | 高純度ムライトセラミック (米国製) |
| 処理管寸法 | 外径84mm x 内径73mm x 長さ1219mm |
| 加熱ゾーン構成 | 8ゾーン (各ゾーン50mm、20mmの間隔を含む) |
| 総加熱ゾーン長 | 400 mm |
| 恒温ゾーン | 300 mm (全ゾーンを同一温度に設定時) |
| 温度精度 | +/- 1ºC |
| 最大熱勾配 | 100°C / インチ |
| 温度コントローラー | 8チャンネルタッチスクリーンPID; 30プログラムセグメント |
| センサー | S型熱電対 x 8 (各加熱ゾーンに1つ) |
| 発熱体 | 1500ºCグレード炭化ケイ素(SiC)ロッド x 16 |
| 真空レベル | 10E-2 Torr (メカニカルポンプ) / 10-5 Torr (分子ポンプ) |
| 最大ガス圧力 | < 0.02 Mpa (低圧環境のみ) |
| 通信インターフェース | ノートPC/データシステム接続用RS485ポート |
| 適合規格 | CE認証 (ご要望に応じてNRTLまたはCSAも対応可能) |
TU-68を選ぶ理由
- 比類のない空間制御: 8ゾーンアーキテクチャにより、業界最高レベルの空間熱制御を実現し、標準的な炉では不可能な勾配設定や高スループット研究を可能にします。
- 高品質素材の統合: 米国製ムライト管と1500℃グレードのSiC発熱体を採用しており、劣化することなく長期間の連続高温サイクルに耐えるよう構築されています。
- 精密工学による一貫性: +/- 1ºCの温度精度と各ゾーンの独立したPIDループにより、研究者はデータの正確性とあらゆるプロセスの再現性を信頼できます。
- 高い汎用性と適応性: 高真空、不活性ガス雰囲気、または断熱スペーサーによる特定の熱勾配チューニングなど、研究ニーズに合わせてシステムを適応させることができます。
- サポートとカスタマイズ: THERMUNITSは、熱プロファイルの設定を支援する包括的な技術サポートを提供し、高度な自動化と遠隔監視のためのオプションのソフトウェア統合も提供しています。
お客様の特定の熱処理要件についてのご相談や、本高度システムの見積もり依頼については、今すぐ弊社の技術営業チームまでお問い合わせください。
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