材料研究および工業用熱処理向け高温長尺デュアルゾーン管状炉

管状炉

材料研究および工業用熱処理向け高温長尺デュアルゾーン管状炉

商品番号: TU-GS10

最高温度: 1200 ℃ 加熱エレメント: スウェーデン製カンタルA1 温度制御精度: ± 1 ℃
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製品概要

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この高性能な長尺熱処理システムは、材料科学研究および産業用ラボの厳しい要求を満たすように設計されています。精度と汎用性を追求し、熱処理、焼結、化学気相成長(CVD)に最適な環境を提供します。長尺の加熱チャンバーを採用することで、安定した温度勾配の生成や長尺サンプルの処理が可能となり、高度なR&D施設や特殊材料合成に注力するハイテク製造工場にとって不可欠なツールとなっています。

本装置は、半導体製造、航空宇宙工学、先端セラミックスなどの業界向けに特別に調整されています。真空や不活性ガス環境を含む幅広い雰囲気に対応する堅牢な設計により、高温下での精密な化学反応制御が可能です。本機は実験的発見とパイロットスケール生産の重要な架け橋となり、厳格に規制された分野で一貫したデータ取得に必要な産業グレードの信頼性を維持しながら、迅速なプロトタイピングに必要な柔軟性を提供します。

信頼性と長期的なパフォーマンスは、本システムのエンジニアリングの証です。最高品質のスウェーデン製加熱エレメントと高純度の日本技術による断熱材で構築されており、連続的な高温運転下でも構造的完全性を維持します。高度な安全プロトコルとインテリジェントな制御システムの統合により、過酷な条件下でも予測可能な性能を発揮します。数十年にわたる材料科学の専門知識と精密な製造基準に裏打ちされた本炉の熱均一性と運用上の安全性により、安心して投資いただけます。

主な特長

  • 最高品質のスウェーデン製Kanthal A1エレメント: 本システムは、表面温度1420℃に達する輸入Kanthal A1抵抗線を採用しています。これらのエレメントは、ステンレス鋼のような仕上げで錆やスラグの蓄積を防ぐ優れた表面品質を備えており、クリーンな処理環境と2年以上の長い耐用年数を保証します。
  • 高度な日本式真空吸引成形: 炉室は高純度アルミナ多結晶繊維を使用して構築されています。日本の真空吸引およびフィルター成形技術を活用した断熱材は、優れた熱効率、低蓄熱性、耐熱衝撃性を提供し、低品質な繊維チャンバーでよく見られる構造劣化を防ぎます。
  • シミュレーションによる熱場最適化: 加熱エレメントの間隔とピッチは、日本の高度な熱技術に基づいて綿密に配置されています。洗練された熱シミュレーションソフトウェアを使用することで、コールドスポットを最小限に抑え、処理ゾーン全体で均一な加熱を実現するバランスの取れた温度場を達成しています。
  • インテリジェントPIDプログラム制御: 標準の30セグメントインテリジェントPIDコントローラーを装備し、精密な温度管理を提供します。自動チューニング機能や、熱電対の故障や過熱状態に対する包括的な保護機能が含まれており、装置とサンプルの両方の安全を確保します。
  • 統合された安全性と監視: 本機には、電気的故障時に自動的に電源を切断するエアスイッチと漏電保護装置が内蔵されています。さらに、炉蓋が開けられた際に物理リレーを使用して主電源を即座に遮断するオープンカバー保護システムにより、高電圧や熱への偶発的な接触を防ぎます。
  • 高性能電力制御: 本装置には、SEMIKRON製のサイリスタトリガーおよび位相シフトトリガーメカニズムが組み込まれています。これにより、加熱エレメントへのスムーズな電力供給が可能となり、寿命を延ばすとともに、繊細な材料変化に必要な微細な電力調整を提供します。
  • 包括的なデータ接続: 標準のRS485通信インターフェースにより、直接コンピュータ制御が可能です。専用ソフトウェアを使用して、オペレーターはPV(プロセス値)とSV(設定値)をリアルタイムで監視し、加熱曲線を生成し、監査や研究分析のために過去の温度データを保存できます。
  • 4面加熱構成: 優れた熱バランスを達成するために、抵抗線はチャンバーの4面に配置されています。この多方向加熱アプローチにより、高品質な結晶成長や均一な膜堆積に不可欠な、半径方向および長手方向の温度勾配を最小限に抑えることができます。

用途

用途 説明 主な利点
半導体アニール 制御された雰囲気下でのシリコンウェハーおよび基板の精密熱処理。 熱応力を最小限に抑え、均一なドーパント活性化を保証。
CVD / PECVDプロセス 真空環境下での薄膜およびカーボンナノチューブの高温合成。 安定した熱ゾーンが一定の膜厚と品質を提供。
先端セラミックス焼結 高純度セラミック粉末を高密度構造部品へ固化。 均一な4面加熱により、ひび割れや粒成長を防止。
結晶成長 融液または蒸気からの単結晶成長のための長時間熱サイクル。 長尺チャンバーにより、チューブ全体で精密な勾配制御が可能。
電池材料試験 エネルギー貯蔵用正極および負極材料の焼成と熱サイクル。 PCインターフェースによる信頼性の高いデータロギングでR&Dライフサイクル分析に対応。
大気反応 特定のガス流構成を使用した酸化、還元、窒化実験。 多様な化学反応に対応するカスタマイズ性の高いガス供給および真空システム。
工業用品質管理 工業部品の熱耐久性および耐熱性のバッチ試験。 高速昇温レートとPID精度により、再現性のある試験プロトコルを確保。
冶金学研究 不活性環境下での特殊合金サンプルの硬化および焼き戻し。 高温表面エレメントにより、スラグによるサンプル汚染を防止。

技術仕様

コアシステムパラメータ (TU-GS10シリーズ)

パラメータ TU-GS10-150 TU-GS10-200 TU-GS10-250
加熱出力 10 KW 12 KW 14 KW
チューブサイズ (外径) 直径 150 mm 直径 200 mm 直径 250 mm
チューブ長 1500 mm 1500 mm 1500 mm
全体寸法 (L×W×H) 1500 × 500 × 700 mm 1500 × 550 × 750 mm 1500 × 600 × 800 mm
最高温度 1200 ℃ 1200 ℃ 1200 ℃
定格動作温度 1100 ℃ 1100 ℃ 1100 ℃
加熱ゾーン長 800 mm 800 mm 800 mm
均熱ゾーン 500 - 600 mm 500 - 600 mm 500 - 600 mm
加熱エレメント Kanthal A1 (スウェーデン) Kanthal A1 (スウェーデン) Kanthal A1 (スウェーデン)
供給電圧 220V 220V 220V
相構成 単相 単相 単相

制御および安全仕様

機能 詳細
温度制御 Yu Electric製インテリジェントPID (30セグメント)、自動チューニング機能付
制御精度 ± 1 ℃
トリガータイプ 位相シフトトリガー
サイリスタ / SCR 106/16E SEMIKRON (ドイツ)
電気部品 Zhejiang Chint
熱電対 Kタイプ
昇温レート ≤ 30 ℃/分 (15 ℃/分を推奨)
表面温度 ≤ 45 ℃ (外殻)
通信インターフェース RS485 (標準)、PC制御ソフトウェア付
安全システム オープンカバー電源遮断、漏電保護、過熱アラーム

オプションのシステム拡張

モジュール 利用可能なオプション
真空システム 1. 単段ポンプ (TW-1.5A); 2. 二段ポンプ (2XZ-2) 10Paまで; 3. VS-0.1システム 0.1Paまで; 4. 高真空分子ポンプ 10⁻³ Paまで
真空測定 INFICON (英国) 静電容量マノメーター (3.8x10⁻⁵ ~ 1125 Torr)
ガス供給 バブラー、マスフローコントローラー (MFC) 供給システム、液体蒸発器
制御ハードウェア Shimaden FP93 (日本)、Eurotherm、または統合タッチスクリーン
認証 UL認証済みの電気基板およびコンポーネント

TU-GS10を選ぶ理由

  • 優れた熱工学: スウェーデン製Kanthal A1エレメントと日本設計のファイバーチャンバー、および熱シミュレーションソフトウェアを組み合わせることで、クラス最高レベルの熱場の一貫性を提供します。
  • コンポーネントの長寿命化: 加熱エレメントに2年間の保証を提供しており、これは輸入冶金技術と位相シフト電力制御システムの効率に対する自信の表れです。
  • スケーラブルでカスタマイズ可能なアーキテクチャ: 高真空分子ポンプステーションからマスフローガス供給システムまで、最も繊細な研究プロトコルの正確な要件を満たすように装置を調整できます。
  • B2Bの信頼性と安全性: UL認証済みの電気オプションと冗長な物理的安全遮断機能を備えており、メンテナンス要件を最小限に抑えながら、24時間365日の産業およびラボ運用向けに設計されています。
  • 直接的なデジタル統合: RS485接続とデータロギングソフトウェアが標準装備されているため、ラボのデジタル変革と厳格なデータコンプライアンスへの対応が可能です。

詳細な見積もりのご依頼や、TU-GS10シリーズをお客様の特定の熱処理ニーズに合わせてカスタマイズする方法については、当社の技術エンジニアリングチームまでお問い合わせください。

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