製品概要

この高性能な2ゾーン熱処理システムは、急速な温度変化と精密な温度勾配を必要とする高度な研究室および産業用途向けに設計されています。独立して制御される2つの加熱ゾーンを活用することで、研究者やエンジニアは、安定した温度プロファイルを作成したり、長い管状炉全体で均一な加熱を行ったりすることが可能です。本装置は、材料合成の基盤として機能し、複雑な化学気相成長(CVD)や高温アニール処理のための制御された環境を提供します。
本装置の主な用途は、半導体製造、冶金、先端セラミックス研究など多岐にわたります。真空、不活性ガス、還元環境など、多様な雰囲気要件に対応できるよう設計されています。その汎用性の高さから、次世代の高性能材料や薄膜コーティングの開発に注力する大学、研究機関、産業用R&D施設にとって不可欠なツールとなっています。
熱技術の世界的リーダーから調達した高品質なコンポーネントで構築されたこの炉は、過酷な運用条件下でも比類のない信頼性を発揮します。高品質なスウェーデン製発熱体と日本製の断熱材を統合することで、長期にわたる高温サイクルにおいても構造的完全性と性能の一貫性を維持します。ユーザーは、重要な研究ワークフローにおいてダウンタイムを最小限に抑え、スループットを最大化する、再現性の高い堅牢なプラットフォームを期待できます。
主な特徴
- スウェーデン製Kanthal A1発熱体: 本システムは、高温下での優れた耐酸化性と機械的安定性で知られる、輸入されたKanthal A1抵抗線を使用しています。標準的な合金とは異なり、これらの発熱体はスラグや錆を発生させることなく1420℃の表面温度に達することができ、クリーンな処理環境と長期的な加熱効率を保証します。
- 急速熱処理(RTP)機能: スピードを重視して設計されており、毎分最大100℃の調整可能な昇温速度をサポートしています。これにより、急冷研究、高速焼結、炉の構造寿命を損なうことのない高スループット材料試験に不可欠な、急速な熱サイクルが可能になります。
- 精密な2ゾーン温度制御: 各ゾーンは30セグメントのインテリジェントPIDコントローラーによって管理され、±1℃の精度を維持します。この2ゾーン構成により、輸送プロセスに必要な特定の温度勾配や、より大きなサンプル用の拡張された恒温ゾーンを作成できます。
- 高度な多結晶ファイバー断熱材: チャンバーは、真空吸引と日本の成形技術によって形成された高純度アルミナ多結晶ファイバーを使用して構築されています。この素材は優れた耐熱衝撃性と低い蓄熱性を備えており、大幅な省エネとより速い冷却速度を実現します。
- 洗練された安全インターロックシステム: 作業者と装置を保護するため、炉のカバーを開けると自動的に電源が遮断されるメカニズムを備えています。さらに、漏電保護装置とエアスイッチが統合されており、電流サージや電気的故障が発生した際にシステムを確実に遮断します。
- 統合データ通信インターフェース: 標準のRS485インターフェースと専門ソフトウェアを装備しており、PCを介したリモート監視と制御が可能です。ユーザーはリアルタイムのPV/SV曲線の可視化、履歴データの記録、温度プロファイルの保存を行い、包括的なプロセス文書を作成できます。
- 二重シェル空冷構造: 外部ハウジングは内部ファン冷却を備えた二重構造となっており、ピーク動作時でも外表面温度を45℃以下に保ち、研究室の安全性と快適性を向上させます。
- 最適化された熱場シミュレーション: 抵抗線の間隔とピッチは、日本の熱技術基準に基づいて細心の注意を払って配置されています。この設計はソフトウェアシミュレーションによって検証されており、すべての加熱ゾーンで非常に均一な温度場を保証します。
- 強化された真空柔軟性: 本システムは、10Paに達する基本的なメカニカルポンプから10^-3 Paを達成可能な高真空分子システムまで、複数の真空ステージと接続できるように設計されており、高純度雰囲気処理に適しています。
- 耐腐食性表面処理: 表面にはステンレス鋼と高耐久性仕上げが施されており、錆や環境劣化を防ぎ、産業用研究室環境において専門的な美観と構造的耐久性を維持します。
用途
| 用途 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| CVD / PECVD | 制御されたガス流下での高品質な薄膜、カーボンナノチューブ、グラフェンの成長。 | 均一な堆積のための正確なガスおよび温度制御。 |
| 真空アニール | 無酸素環境下での金属合金や半導体ウェハーの内部応力の除去。 | 酸化を防ぎつつ、構造的な均一性を確保。 |
| 雰囲気焼結 | 窒素、アルゴン、水素雰囲気下での先端セラミックスや粉末冶金部品の処理。 | 繊細な化学反応のための高純度環境。 |
| 温度勾配試験 | 2つのゾーン全体で同時に異なる温度を材料に加える試験。 | 結晶成長や相変態の研究に最適。 |
| 電池材料R&D | リチウムイオン電池用正極/負極材料の焼成および焼結。 | 一貫した熱プロファイルによりバッチ間の再現性を確保。 |
| 触媒合成 | 多孔質材料の高温処理による触媒特性の活性化。 | 急速加熱により粒子形態を精密に制御可能。 |
技術仕様
| パラメータ | TU-GS14-I | TU-GS14-II | TU-GS14-III | TU-GS14-IV |
|---|---|---|---|---|
| 管外径 (mm) | 60 mm | 80 mm | 100 mm | 120 mm |
| 管長 | 1460 mm | 1460 mm | 1460 mm | 1460 mm |
| 定格出力 | 2.5 KW | 2.5 KW | 4.0 KW | 4.0 KW |
| 寸法 (mm) | 1500x490x600 | 1500x490x600 | 1500x490x600 | 1500x490x600 |
| 最高温度 | 1200℃ | 1200℃ | 1200℃ | 1200℃ |
| 定格温度 | 1100℃ | 1100℃ | 1100℃ | 1100℃ |
| 加熱長 | 205mm + 205mm | 205mm + 205mm | 205mm + 205mm | 205mm + 205mm |
| 恒温ゾーン | 80mm - 100mm | 80mm - 100mm | 80mm - 100mm | 80mm - 100mm |
| 昇温速度 | ≤ 100℃/分 | ≤ 100℃/分 | ≤ 100℃/分 | ≤ 100℃/分 |
| 供給電圧 | 220V | 220V | 220V | 220V |
| 制御精度 | ± 1℃ | ± 1℃ | ± 1℃ | ± 1℃ |
| 発熱体 | Kanthal A1 | Kanthal A1 | Kanthal A1 | Kanthal A1 |
| 熱電対 | Kタイプ | Kタイプ | Kタイプ | Kタイプ |
| 真空度 | 10Pa ~ 10^-3 Pa | 10Pa ~ 10^-3 Pa | 10Pa ~ 10^-3 Pa | 10Pa ~ 10^-3 Pa |
| 安全機能 | カバー開放時遮断、漏電保護、過熱アラーム | カバー開放時遮断、漏電保護、過熱アラーム | カバー開放時遮断、漏電保護、過熱アラーム | カバー開放時遮断、漏電保護、過熱アラーム |
この炉を選ぶ理由
- 比類のない材料品質: スウェーデンから発熱体を調達し、日本のチャンバー成形技術を活用することで、標準的な工業用炉をはるかに超える耐用年数を提供します。
- 高速効率: 100℃/分の昇温速度により、実験サイクル時間を大幅に短縮します。ラピッドプロトタイピングや高スループット材料スクリーニングに注力する研究室にとって最適な選択肢です。
- データの整合性と制御: 統合されたソフトウェアスイートにより、すべての熱サイクルが記録され再現可能であり、公開研究や産業用品質管理に必要な厳格なデータ文書化を提供します。
- オペレーターの安全第一: 二重シェル冷却と自動電源遮断安全インターロックを備えており、現代の研究室環境における最高の安全基準を満たすように設計されています。
- カスタマイズ可能な構成: UL認証済み電気基板から、特殊な真空システムやマスフローコントローラーまで、お客様の特定の研究パラメータを満たすためのオーダーメイドのソリューションを提供します。
この高度な2ゾーンシステムがどのように研究能力を向上させることができるかについての詳細情報や、詳細な見積もりのご依頼は、今すぐ当社の技術営業チームまでお問い合わせください。
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