製品概要
この高性能な2ゾーン管状炉は、材料科学研究および工業生産の厳しい要求を満たすように設計されています。1つの合理化されたユニット内に2つの独立した加熱ゾーンを組み合わせることで、複雑な温度勾配の作成や、長い加熱長にわたる極めて安定した温度プロファイルの維持を可能にします。ダブルカバー設計により、アクセシビリティが向上すると同時に熱管理が最適化されており、精度と一貫性が不可欠な高度な熱処理に欠かせないツールとなっています。
汎用性を重視した設計により、高温焼結、還元雰囲気プロセス、化学気相成長（CVD）において優れた性能を発揮します。航空宇宙、半導体、先端セラミックス産業において、真空アニールや制御雰囲気下での試験に広く利用されています。堅牢な構造と統合された安全機能により、連続稼働条件下でも確実に動作し、研究員が監視なしで長時間実験を行うことを可能にします。
耐久性と性能に重点を置いて構築されており、最高品質の発熱体と高度な断熱材を採用しています。高品質の抵抗線と真空成形されたアルミナ繊維の統合により、急速な昇温と優れたエネルギー効率を実現しています。大学での基礎研究から産業ラボでの重要な材料開発まで、この装置は最も繊細な技術プロセスに必要な熱安定性と雰囲気制御を提供します。
主な特長
- スウェーデン製Kanthal A1発熱体： 最大1420°Cの表面温度に到達可能な、輸入Kanthal A1抵抗線を採用しています。バランスの取れた抵抗値とスラグフリーな動作により、クリーンな熱環境を維持し、標準的な合金線よりも大幅に長い耐用年数を実現します。
- 高度な2ゾーン制御： 2つの独立した温度ゾーンにより、精密な温度勾配を作成可能です。これは、物理気相輸送や、前駆体の気化と基板への堆積に異なる温度を同時に必要とする複雑なCVDアプリケーションにおいて極めて重要です。
- 高純度アルミナファイバーチャンバー： 炉室は、日本の高度な技術に基づき、真空吸引およびフィルター成形によって製造された高品質の多結晶アルミナ繊維で作られています。これにより、低熱容量、高い断熱効率、優れた耐熱衝撃性を実現しています。
- 洗練されたPID温度調節： 30セグメントのインテリジェントPIDコントローラーを搭載し、±1°Cの制御精度を維持します。過熱保護、熱電対故障アラート、および中断点からプログラムを再開する停電復帰機能を備えています。
- 二重シェル強制空冷： 作業者の安全と構造の長寿命化を図るため、二重シェル構造を採用しています。内蔵の冷却ファンが内層と外層の間で空気を循環させ、最高温度での運転時でも外表面温度を45°C以下に保ちます。
- 包括的な安全インターロック： 自動開閉カバー保護システムを搭載しています。運転中に炉蓋が開かれると、リレーが即座に主電源を遮断し、電気的危険や高温への露出からユーザーを保護します。
- デジタル通信と監視： 標準のRS485インターフェースにより、装置をコンピュータに直接接続できます。ユーザーはパラメータの制御、リアルタイムのPV（現在値）およびSV（設定値）曲線の表示、および履歴分析や品質保証レポートのための温度データの記録が可能です。
- 真空および雰囲気の汎用性： 様々なガス供給システムや真空システムと接続できるように設計されています。単純な不活性ガスパージから10⁻³ Paに達する高真空環境まで、繊細な材料処理に必要な多様な雰囲気要件に対応します。
用途
| 用途 | 説明 | 主なメリット |
|---|---|---|
| CVD / PECVD | 制御された温度下での化学気相成長による薄膜およびナノ構造の成長。 | 一貫した膜厚と品質を実現する精密な勾配制御。 |
| 真空アニール | 高真空下での金属合金および半導体ウェハーの内部応力緩和。 | 酸化を防ぎ、高純度な材料特性を確保。 |
| 雰囲気焼結 | 還元または不活性雰囲気下での先端セラミックスおよび粉末冶金部品の焼結。 | 優れた熱均一性により、一貫した製品密度を実現。 |
| 電池材料の研究開発 | 次世代エネルギー貯蔵用のアノードおよびカソード材料の熱処理。 | 再現性のある実験結果を得るための信頼性の高いサイクルとデータ記録。 |
| 焼成 | 鉱石や化学化合物を加熱し、熱分解を促進。 | 急速な昇温・冷却サイクルによるエネルギー効率の高い運転。 |
| 還元雰囲気試験 | 水素または一酸化炭素環境下での材料処理による酸化状態の研究。 | 気密性の高いチューブシールと統合された流量制御により安全な運転を確保。 |
技術仕様
| パラメータ | TU-GS08-I | TU-GS08-II | TU-GS08-III | TU-GS08-IV |
|---|---|---|---|---|
| チューブ外径 (mm) | 60 | 80 | 100 | 120 |
| チューブ長さ (mm) | 1460 | 1460 | 1460 | 1460 |
| 消費電力 | 2.5 KW | 2.5 KW | 4.0 KW | 4.0 KW |
| 外形寸法 (mm) | 1500x490x600 | 1500x490x600 | 1500x490x600 | 1500x490x600 |
| 供給電圧 | 220V | 220V | 220V | 220V |
| 発熱体 | スウェーデン製 Kanthal A1 | スウェーデン製 Kanthal A1 | スウェーデン製 Kanthal A1 | スウェーデン製 Kanthal A1 |
| 最高温度 | 1200°C | 1200°C | 1200°C | 1200°C |
| 定格温度 | 1100°C | 1100°C | 1100°C | 1100°C |
| 加熱ゾーン長 | 205mm + 205mm | 205mm + 205mm | 205mm + 205mm | 205mm + 205mm |
| 均熱長 | 80mm + 80mm | 80mm + 80mm | 80mm + 80mm | 80mm + 80mm |
| 昇温速度 | ≤100°C / 分 | ≤100°C / 分 | ≤100°C / 分 | ≤100°C / 分 |
| 制御精度 | ±1°C | ±1°C | ±1°C | ±1°C |
| 熱電対タイプ | Kタイプ | Kタイプ | Kタイプ | Kタイプ |
| 真空性能 | オプション (10Pa ～ 10⁻³ Pa) | オプション (10Pa ～ 10⁻³ Pa) | オプション (10Pa ～ 10⁻³ Pa) | オプション (10Pa ～ 10⁻³ Pa) |
| 電気部品 | Chint / Semikron | Chint / Semikron | Chint / Semikron | Chint / Semikron |
本炉が選ばれる理由
- 比類のない熱工学： スウェーデン製Kanthal A1ワイヤーと日本式のチャンバー形状を採用することで、標準的な実験用炉を大幅に上回る熱安定性を実現しています。バランスの取れた抵抗値により均一な温度場が確保され、高精度な研究に不可欠です。
- 実証された長期信頼性： Semikron製サイリスタや真空吸引アルミナファイバーなど、高品質なコンポーネントの採用により、長年にわたる高温運転の負荷にも耐えうる設計となっています。
- 多彩な拡張オプション： 本装置は、特定のプロセス要件を満たすために、様々な真空システム（単段ポンプから高真空分子ポンプユニットまで）やガス供給システム（マスフローメーター、バブラー、エバポレーターなど）でカスタマイズ可能です。
- 作業者の安全性の向上： 漏電保護装置、開閉カバー電源遮断機能、二重シェル冷却を備えており、現代の産業および学術ラボに求められる最高水準の安全基準を満たしています。
- データ駆動型の制御： コンピュータを介した炉の監視・制御機能に加え、詳細な曲線描画とデータ保存により、厳格に管理された研究開発や品質監査環境に必要な文書化が可能です。
本システムは、熱処理技術へのプレミアムな投資であり、精度、安全性、耐久性を兼ね備え、最も重要な研究および生産目標をサポートします。技術的なご相談や、お客様のラボの要件に合わせたカスタマイズ見積もりについては、今すぐお問い合わせください。
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