1200℃高温勾配熱処理用 10ゾーン多方向実験室チューブ炉

管状炉

1200℃高温勾配熱処理用 10ゾーン多方向実験室チューブ炉

商品番号: TU-53

加熱ゾーン: 10独立ゾーン(全長1470mm) 温度精度: 最高1200℃で精度±1℃ 構成: 横型・縦型複数位置設定対応
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製品概要

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この高性能熱処理システムは、先端材料科学および産業研究開発の厳しい要求に応えるために設計されています。独立制御可能な10個の加熱ゾーンを統合することで、十分な処理長全体にわたって正確でカスタマイズされた温度勾配を作り出す、これまでにない能力を研究者に提供します。二重構成設計により、水平・垂直の両方向で運転が可能なため、化学気相成長から垂直結晶成長まで、様々な実験セットアップに適応性が求められる研究室にとって、汎用性の高い装置となっています。

主に半導体研究、冶金、電池材料合成に利用されるこのシステムは、制御された実験室環境の中で工業生産プロセスを模擬することに優れています。連続キルンや特定の熱クエンチ曲線を10の異なるステージ全体で模擬できるため、非常に詳細なデータ収集とプロセス最適化が可能です。本装置は、小規模なベンチトップ試験とパイロット規模生産のギャップを埋め、複雑な熱プロファイルに対応するスケーラブルなソリューションを提供します。

信頼性と性能はこの装置の特徴であり、最高1200°Cの温度条件下でも運転の安定性を維持するよう設計されています。高密度アルミナ断熱材から精密加工されたステンレス鋼フランジまで、すべての部品は厳しい産業サイクルに耐えられるよう選定されています。このシステムは、重要な研究開発プロジェクトが装置の故障で中断されることなく進行することを保証し、真空または制御された雰囲気条件下での長期熱実験のための堅牢なプラットフォームを提供します。

主な特長

  • 10個の独立加熱ゾーン:本システムには、それぞれ120mmの10個の独立した加熱ゾーンが搭載されており、各ゾーンに固有のK型熱電対とコントローラーが装備されています。これにより、全加熱長1470mm全体にわたって、複雑な温度勾配の作成や、超長尺の均一温度プラトーを実現できます。
  • 二方向設置構成:この柔軟な装置は、堅牢な取付フレームワークにより水平設置にも垂直設置にも対応でき、垂直ブリッジマン法結晶成長や水平材料焼鈍など、多様なプロセス要件に適応します。
  • 高度なPID温度制御:10台の個別デジタルコントローラーがそれぞれ50のプログラム可能セグメントを備え、±1℃の精度とPIDループ安定化により、敏感な材料相転移中の温度変動を防止します。
  • 汎用的な処理チューブ径:Ø25mm~Ø100mmの範囲の処理チューブに対応するよう設計されており、同一の炉筐体でバッチサイズのスケーリングや様々な試料形状に対応する柔軟性を提供します。
  • 真空対応フランジシステム:ISO100-KポートとKF25真空生成ポートを装備したステンレス鋼フランジが、機械式ポンプシステムを使用して5e-2 torrまでの真空度に対応する高完全性シーリングを可能にします。
  • 一体型ガス処理ポート:ガス入口と出口の両方に1/4インチコンプレッションチューブ継手を備えているため、正確な雰囲気制御が可能で、特殊な材料合成に不可欠な不活性、酸化、還元ガス環境に対応します。
  • 分割ヒンジ式炉設計:炉本体は分割開放設計を採用しており、急速冷却、処理チューブの簡単な挿入・取出し、加熱要素の保守を容易にします。
  • 高精度熱電対アレイ:10個の高感度K型熱電対を戦略的に配置し、各ゾーンからリアルタイムのフィードバックを提供することで、熱サイクル全体を通して温度プロファイルの完全性を確保します。
  • リモート通信接続性:内蔵RS-485シリアルポートにより、コンピューターからの集中データロギングと遠隔操作が可能で、最新の実験室データ管理と自動プロセス追跡に必須の機能を提供します。
  • 産業用グレード断熱材:高純度セラミックファイバー断熱材が外部筐体への放熱を最小限に抑え、エネルギー効率を向上させると同時に、高温運転中も外部は触れても安全な温度に保たれます。

用途

用途 説明 主な利点
CVD/PECVDプロセス 正確なガス供給と温度制御による薄膜およびナノ構造の成長 大型基板全体で優れた均一性を実現
温度勾配焼鈍 素材の長さ方向に沿って異なる温度を印加し、相変化を観察 素材探索とマッピングを加速
垂直結晶成長 垂直方向を利用したブリッジマン-ストックバーガー法結晶成長 制御された凝固界面移動を実現
電池電極焼結 制御された雰囲気下でのリチウムイオン電池材料の高温処理 一貫性のある電気化学性能結果を得られる
半導体ドーピング 1200℃でシリコンウェーハその他の基板素材へのドーパント拡散 濃度プロファイルの再現性が非常に高い
産業パイロット模擬実験 市販のロータリーキルンやトンネル炉の温度段階を再現 大規模生産移行のリスクを低減
高真空脱ガス 真空下で高純度金属またはセラミックから揮発性不純物を除去 素材の純度と構造的完全性が向上
触媒特性評価 異なる加熱ゾーン全体で触媒床の熱安定性と反応性を試験 熱活性化範囲に関する包括的なデータが得られる

技術仕様

仕様カテゴリ パラメータ詳細 TU-53の仕様値
モデル識別 製品品番 TU-53
電源 電圧 / 相 208-240VAC、3相、50/60 Hz
電流 40 A
定格電力 14 kVA
熱性能 最高温度 1200°C
連続使用温度 1100°C
加熱ゾーン分布 10ゾーン(各120mm)
全加熱長 1470 mm
推定均一部分長 <1000 mm @ 800°C ± 2°C
チューブ & フランジ 標準チューブサイズ Ø100 × Ø92 × 2000 mm
対応チューブ範囲 Ø25 mm ~ Ø100 mm
フランジ素材 ステンレス鋼(右:ISO100-K、左:ISO100-K/KF25)
ガス継手 1/4インチコンプレッションチューブ継手
雰囲気制御 最大正圧 < 3 psig
真空度 5e-2 torr(機械式ポンプ使用時)
制御 & 安全 温度コントローラー PIDデジタルコントローラー ×10台
プログラム容量 コントローラーあたり50セグメント
温度精度 ± 1ºC
センサー K型熱電対 ×10本
通信 RS-485シリアルポート
規格適合 CE認証取得(NRTL/UL/CSA認証はオプション)

当社を選ぶ理由

この10ゾーン炉を選択することは、実験室の精度と産業グレードの汎用性への戦略的投資となります。標準的なシングルゾーン装置と異なり、本装置は複雑な製造プロセスの再現または革新に必要な詳細制御を提供し、研究開発データの正確性とスケーラビリティを確保します。垂直と水平構成を切り替えられる機能により、複数の特殊炉を用意する必要がなくなり、実験室のスペースを最大限に活用し、設備投資を削減できます。

本システムの設計では、長期的な運転安定性が最優先されています。真空フランジに高品質ステンレス鋼を使用し、最新のPID制御ロジックを採用することで、数千時間の運転にわたって再現性のある結果を提供します。この信頼性は、わずかな温度偏差でも貴重な試料の損失と数ヶ月の研究時間が無駄になりかねない重要な実験にとって不可欠です。

さらに、当社の安全およびコンプライアンスへの取り組みにより、本システムはCE認証を含む厳格な国際基準を満たしており、地域の規制要件に対応するためのULおよびCSA認証オプションも用意しています。製造品質と認証された安全性へのこだわりは、調達チームと安全担当者の双方に安心を提供します。当社は、お客様固有の材料科学要件に合わせてカスタマイズされた迅速な技術サポートと対応力で製品を提供しています。

正式な見積もり、またはお客様固有の研究環境に合わせたカスタマイズ熱処理ソリューションについては、今すぐ当社の技術営業チームまでお問い合わせください。

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