製品概要


この高温マッフル炉は、空間的な柔軟性と精密さが最重要となる特殊な材料科学研究および産業R&D向けに設計されています。コンパクトな4.2リットルの炉室を備え、3メートルケーブルで接続された分離型プログラマブルデジタルコントローラーを独自に採用しています。この構成により、加熱ユニットをグローブボックスなどの危険または管理された環境内に設置し、オペレーターは外部から安全に熱プロファイルを管理できます。本装置は、小さな設置面積で再現性の高い高精度熱処理を必要とする研究室の中核を担います。
本装置の核となる価値は、その汎用性と熱効率にあります。高純度アルミナファイバー断熱材を使用することで、炉は高速な昇温・降温サイクルを実現しつつ、外装表面温度を低く保ちます。半導体処理、セラミック焼結、冶金分析など、クリーンな環境を必要とする工程に特に最適化されています。電子部品を加熱室から分離することで、コントローラー部品の寿命を延ばし、複雑な実験環境において追加の安全性を提供します。
この熱処理ソリューションのあらゆる部品には信頼性が組み込まれています。強制空冷付きの頑丈な二重構造鋼製ケースから、精密に調整されたPID制御システムまで、装置の各要素は厳しい条件下での連続運転を想定して設計されています。研究者は、ピーク温度で±0.5℃の安定性を維持する本システムの能力に全面的な信頼を置くことができ、実験結果の一貫性とデータ主導の再現性を確保します。日常的な灰化から複雑な多段焼結まで、この装置は実験室サイズで産業グレードの性能を提供します。
主な特長
- 分離型コントローラー設計: デジタル温度コントローラーは3メートルケーブルで接続された別筐体に収められており、電子部品にアクセスしやすく保護しながら、グローブボックスやその他の制限環境内で炉を操作できます。
- 高純度アルミナ断熱材: 加熱室には高級アルミナファイバー断熱材がライニングされており、蓄熱量が少なく高いエネルギー効率を実現し、昇温速度を速め、長時間の保持サイクルでのエネルギー消費を最小限に抑えます。
- 二重層安全ハウジング: 高性能冷却ファンを組み込んだ頑丈な二重構造鋼製ボディにより、炉が最大内部温度で動作していても外装表面は安全に触れられる温度に保たれます。
- 高度なPID制御: FA-YD518P-AG温度コントローラーにより、昇温、冷却、保持のための30のプログラム可能なセグメントを搭載し、自動調整ロジックによって±1℃の温度精度を維持します。
- 最適化された雰囲気換気: システムは上部に内蔵の排気ポートと背面に吸気口を備えており、発生ガスの管理や加熱プロセス中のわずかな雰囲気調整を容易にします。
- グローブボックス対応: 本装置は、グローブボックス内でアルゴンガス雰囲気と組み合わせて使用する場合の互換性を特に考慮して設計されており、吸湿性または酸素感受性のある材料処理に理想的です。
- 堅牢な熱電対設計: セラミックシースで保護されたK型熱電対を搭載し、高温下での酸化に対して正確な温度フィードバックと長期耐久性を確保します。
- 緊急警報システム: 内蔵の安全機能には過熱警報と熱電対故障検知が含まれ、炉と試料を熱暴走から自動的に保護します。
用途
| 用途 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| グローブボックス研究 | 不活性雰囲気(アルゴン/窒素)下での吸湿性材料の熱処理。 | リモートコントローラーにより、グローブボックスの完全性を損なわずに安全な操作が可能。 |
| セラミック焼結 | 小型セラミック部品の高温焼成による緻密化。 | 卓越した温度均一性により、一貫した収縮と構造健全性を確保。 |
| 半導体アニーリング | シリコンウェハーや薄膜の精密熱処理による電気特性の改質。 | ±1℃のPID精度が、ドーピングに必要な厳しい許容差を実現。 |
| 冶金分析 | 合金試料の少量溶解、焼入れ、焼戻しを行い、硬度試験に供する。 | 30℃/分の高速昇温により、R&Dの実験スループットを向上。 |
| 歯科技工焼成 | 高純度環境を必要とするセラミッククラウンや歯科補綴物の加工。 | アルミナファイバー炉室が耐火材由来の汚染を防止。 |
| 灰化 & 揮発 | 制御された燃焼により、試料中の有機バインダーや水分を除去。 | 内蔵の上部排気ポートが蒸気を試料から効果的に遠ざけます。 |
| 粉末仮焼 | 触媒開発用の無機塩や前駆体の熱分解。 | 分離型コントローラーにより、 حساسな電子部品を粉塵や蒸気の影響から遠ざけます。 |
技術仕様
| パラメータカテゴリ | TU-CT03の仕様詳細 |
|---|---|
| 炉室寸法 | 150 x 150 x 175 mm (6" x 6" x 7") |
| 炉室容量 | 4.2リットル |
| 最高動作温度 | 1250 °C(1時間未満) |
| 連続使用温度 | 100 °C - 1200 °C |
| 温度安定性 | 1000 °Cで±0.5 °C |
| 温度均一性 | 1000 °Cで±5 °C(100x80x100 mm領域内) |
| 最大昇温速度 | 30 °C / 分(長寿命化のため10 °C / 分を推奨) |
| コントローラーモデル | FA-YD518P-AG(分離型筐体) |
| プログラミング | 30のプログラム可能なセグメント(昇温、冷却、保持) |
| 制御精度 | ±1 ºC |
| インターフェース | 標準DB9 PC通信ポート |
| 熱電対 | セラミックシース付きK型 |
| 電源 | 2.5 KW |
| 電圧 | 単相208 - 240V、50/60 Hz |
| 最大電流 | 15 A |
| 外装構造 | 強制空冷付き二重層鋼製ケース |
| 断熱材 | 高純度アルミナファイバー |
| ケーブル長 | コントローラーと炉本体間 約3メートル |
| 適合規格 | CE認証済み(NRTL/UL61010またはCSAは要請に応じて対応) |
TU-CT03を選ぶ理由
- 精密な遠隔操作: TU-CT03の独自の分離型コントローラー設計により、一般的な一体型炉では電子部品の過熱や操作性の問題で対応しにくいグローブボックスのような特殊な研究室構成にもシームレスに統合できます。
- 優れた熱管理: 高純度アルミナファイバーと二重シェル強制空冷システムを採用することで、試料に対してより安定した熱環境を提供しながら、研究室の作業空間を涼しく安全に保ちます。
- 高度な制御ロジック: 当社のPIDコントローラーは単純なオン/オフスイッチを超え、研究者が産業規模の熱処理プロセスを実験室レベルの精度で再現できる30セグメントの複雑な熱プロファイルを提供します。
- 産業グレードの品質: すべてのTU-CT03は耐久性を重視して製造されており、頑丈な鋼構造と内部センサー用の高品質セラミックシースを備え、保守頻度を抑えて総所有コストを削減します。
- カスタマイズ可能なソフトウェア統合: Labviewベースの制御システムやワイヤレスリモートキットのオプションがあり、現代のR&D文書化基準に適合するデジタルレシピ管理とデータロギングを可能にします。
この炉システムのカスタム構成や正式なお見積りについては、具体的なプロセス要件を обсужするため、当社の技術営業チームまでお問い合わせください。
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