材料研究用 1200℃ ハイブリッドマッフル・管状炉(デュアル雰囲気制御石英管付き)

マッフル炉

材料研究用 1200℃ ハイブリッドマッフル・管状炉(デュアル雰囲気制御石英管付き)

商品番号: TU-HC04

最高温度: 1200°C 連続 ハイブリッド処理能力: 7.2Lチャンバー + デュアル2インチ雰囲気チューブ 温度制御精度: ±1°C (30プログラムセグメント)
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製品概要

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この高温ハイブリッド熱処理システムは、大容量マッフル炉の能力とデュアル管状雰囲気システムの精度を組み合わせた、研究室の効率を飛躍的に高める装置です。材料科学の研究者や産業用R&D部門向けに設計されており、複数の個別ユニットを必要としない多目的ソリューションを提供します。革新的な構造により、メインチャンバーでの酸化材料の処理と、統合された石英管内での真空または不活性ガス条件下での繊細なサンプルの処理を同時に行うことが可能です。

本機の核心的な価値は、その汎用性と費用対効果にあります。7.2Lのボックスチャンバーと2本の2インチ処理管を統合することで、コンパクトな設置面積で高スループットの実験と複雑な熱処理サイクルを実現します。標準的な空気中での焼成から、制御された雰囲気下での繊細なアニールまで、再現性の高い科学的結果に必要な安定した熱環境を提供します。

システムのすべてのコンポーネントには信頼性が組み込まれています。高純度アルミナ繊維断熱材から頑丈な二重構造の鋼鉄製筐体まで、連続的な高温運転の過酷さに耐えられるよう構築されています。産業用調達チームは、ダウンタイムが許されず、精度が最優先される厳しい産業プロセスにおいて、この装置を信頼して導入いただけます。インターロックスイッチや保護ラッチなどの高度な安全機能が含まれており、過酷な熱サイクル中でも研究スタッフに安全な作業環境を保証します。

主な特長

  • 革新的なハイブリッド構造: 7.2Lのマッフル炉と2本の2インチ石英処理管を組み合わせ、標準雰囲気での焼結と制御雰囲気での処理を同時に実行可能です。
  • 精密なPID熱制御: 高度なコントローラーは、オートチューニング機能を備えた比例・積分・微分(PID)ロジックを採用し、±1℃の精度を維持します。複雑な昇温・保持ステップに対応する30のプログラムセグメントを備えています。
  • 高効率アルミナ断熱材: 加熱チャンバーは高純度アルミナ繊維断熱材で裏打ちされており、エネルギー効率を最大化しつつ、12インチ x 8インチ x 5インチの作業空間全体で急速な加熱速度と優れた温度均一性を確保します。
  • 強化された安全プロトコル: 冷却ファンを統合した頑丈な二重構造を採用し、外殻を安全に触れられる温度に保ちます。また、扉が開くと作動する電源遮断インターロックも備えています。
  • 高度な真空能力: 片側真空フランジ、真空計、K25ポートを装備しており、メカニカルポンプで10e-3 torr、ターボ分子ポンプシステムで10e-5 torrまでの真空レベルを達成可能です。
  • 多目的な雰囲気制御: デュアル管設計により、不活性ガスの導入や真空状態(< 3 PSI)の維持が可能で、酸化や湿気に敏感な材料の処理に最適です。
  • 光学モニタリング窓: 扉には直径0.5インチの石英ガラス製観察窓が組み込まれており、熱環境を損なうことなく、サンプルの変化をリアルタイムで視覚的に監視できます。
  • 費用対効果の高いメンテナンス: モジュール式の繊維状加熱コンポーネントは低コストで簡単に交換できるよう設計されており、長い運用寿命を確保し、産業施設における総所有コストを削減します。
  • 堅牢なガス管理: チャンバー上部に設置された専用のベントポートは、ガス流の信頼性の高い出口として機能し、有害な蒸気の蓄積を防ぎ、制御された雰囲気サイクルをサポートします。
  • カスタマイズ可能なスループット: 最大12本の小型石英管を使用できる特殊構成にも対応しており、同一温度下での複数組成のハイスループットアニールが可能です。

用途

用途 説明 主なメリット
セラミック焼結 7.2Lメインチャンバーでのセラミック粉末の高温焼成。 優れた温度均一性により、一貫した密度と構造的完全性を確保。
半導体アニール 不活性ガス下、石英管内でのシリコンまたは化合物半導体ウェハーの処理。 重要な熱改質段階での酸化や汚染を防止。
電池材料R&D 真空または制御されたアルゴン雰囲気下での正極/負極材料の合成と試験。 雰囲気条件の精密制御により、繊細なリチウム化合物の劣化を防止。
粉末冶金 制御された環境下で金属粉末を焼結し、高密度部品を作成。 デュアル管機能により、異なる合金組成の並行試験が可能。
触媒特性評価 特定のガス流下での触媒の熱安定性と活性の試験。 統合されたベントポートと雰囲気制御管が複雑な気固反応を促進。
カーボンナノチューブ成長 管状炉セクションを使用した化学気相成長(CVD)プロセス。 高純度石英環境と安定した1200℃能力が高品質なCNT成長をサポート。
薄膜処理 コーティングされた基板の熱処理による密着性と結晶構造の改善。 観察窓により、加熱サイクル中の膜の変化を視覚的に確認可能。
歯科材料試験 ジルコニアやその他の歯科修復材料の高温処理。 クリーンなアルミナ繊維環境がコンタミネーションを防ぎ、審美的な純度を維持。

技術仕様

パラメータ TU-HC04の詳細
モデル番号 TU-HC04
炉タイプ ハイブリッドマッフル / デュアル管状炉
チャンバー寸法 12" D x 8" W x 5" H (300 x 200 x 120 mm)
チャンバー容量 7.2 リットル
処理管 2インチ外径 x 12インチ長 石英管 2本(付属)
管材質 高純度石英(片端封止)
外形寸法 535mm (W) x 635mm (D) x 670mm (H)
最高温度 1200℃(連続)
昇温速度 最大30℃ / 分(推奨:10℃ / 分)
冷却速度 推奨 < 10℃ / 分
温度安定性 1000℃で ± 0.5℃
制御精度 ± 1℃
温度コントローラー FA-YD518P-AG PID(30セグメント)
通信ポート 標準DB9 PC通信ポート
加熱エレメント 交換可能な繊維状加熱モジュール
断熱材 高純度アルミナ繊維
真空レベル 10e-3 torr(メカニカルポンプ) / 10e-5 torr(ターボポンプ)
真空フランジ 真空計およびK25ポート付き片側真空フランジ
ガスポート 熱電対または電気試験用の1/4インチID予備ポート(フランジ上)
出力 3.5 KW
電圧 208 - 240V 単相; 50/60 Hz
安全機能 扉インターロック、保護ラッチ、二重構造冷却シェル
観察窓 直径0.5インチ 石英ガラス
認証 CE認証取得(ご要望に応じてNRTL/UL61010またはCSA対応可能)

TU-HC04を選ぶ理由

TU-HC04ハイブリッド炉は、貴重なベンチスペースを犠牲にすることなく最大限の機能性を求める研究室にとって、最高の投資となります。標準的なマッフル炉とは異なり、本機は「7.2Lの大型酸化チャンバー」と「2本の独立した雰囲気制御石英管」という3つの異なる処理ゾーンの柔軟性を提供します。この汎用性により、通常は複数の装置を必要とする並行実験が可能になり、プロジェクトのタイムラインを大幅に短縮できます。

卓越したエンジニアリングは、システムの熱管理に如実に表れています。高純度アルミナ繊維断熱材と二重シェル冷却構造の組み合わせにより、内部が1200℃に達しても外側は安全に保たれ、研究室の環境を快適に維持します。さらに、ハイスループットスクリーニングのために最大12本の小型管を使用できるようカスタマイズできる機能は、材料科学の進化するニーズに合わせたソリューションを提供するという当社のコミットメントを示しています。

すべてのTU-HC04は厳格な品質管理基準の下で製造され、CE認証を取得しています。最高レベルの国際安全要件を満たすためのULまたはCSA準拠オプションも用意されています。交換可能な加熱モジュールと堅牢な構造により、本システムは長期的な運用の一貫性と最小限のメンテナンスダウンタイムを実現するように設計されています。

正式なお見積りや、お客様の特定のR&D要件に合わせた熱ソリューションのご相談については、今すぐ当社の技術営業チームまでお問い合わせください。

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