雰囲気制御マッフル炉 最高温度1700℃ 80L大容量 真空・不活性ガス対応ボックス炉

マッフル炉

雰囲気制御マッフル炉 最高温度1700℃ 80L大容量 真空・不活性ガス対応ボックス炉

商品番号: TU-QF11

最高動作温度: 1700°C チャンバー容量: 80リットル (410 x 410 x 500 mm) 雰囲気適合性: 不活性ガス、酸素、真空 (<0.5 torr)、5% H2
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製品概要

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この高温熱処理システムは、材料科学研究および産業用R&Dにおけるエンジニアリングの頂点に位置する製品です。厳密に制御された環境下での精密な熱処理を可能にするよう設計されており、研究者やエンジニアは最高1700℃までの焼結、アニール(焼鈍)、焼成を行うことができます。気密性の高いスチールチャンバーと高度な加熱技術を統合することで、不活性ガス、酸素、または真空条件下での作業に必要な柔軟性を提供し、熱サイクル全体を通じて繊細な材料を不要な酸化や汚染から保護します。

本装置の最大の価値は、80リットルという広大なチャンバー容量にあり、実験室レベルの試行とパイロット規模の生産との橋渡しをします。先端セラミックス、半導体開発、冶金、電池材料合成など、幅広い分野で活用されています。堅牢な構造により最大100kgの積載が可能であり、高いスループットと大型試料の処理が求められる過酷な産業用途において、多用途な主力装置として機能します。

過酷な産業環境向けに構築された本システムは、信頼性と性能の一貫性を最優先しています。高品質な1800グレードの繊維状アルミナ断熱材と高性能発熱体を使用することで、急速な昇温と優れた温度均一性を実現しました。高度な空冷・水冷機構を統合することでシールと構造部品の完全性を保護し、長時間の高温サイクル中でも最高のパフォーマンスを維持できるという安心感をユーザーに提供します。本システムは単なる炉ではなく、最も厳しい材料処理の課題に対する包括的な熱ソリューションです。

主な特徴

  • 高度なマルチ雰囲気対応: 気密性の高い雰囲気制御スチールチャンバーを備えており、酸素、不活性ガス(アルゴンや窒素など)、真空条件下でのシームレスな運用が可能で、加熱中の化学環境を完全に制御できます。
  • 優れた加熱技術: 高品質な二ケイ化モリブデン(MoSi2)発熱体を搭載し、急速な昇温と1700℃までの安定した温度維持を実現。高耐火性材料に対しても一貫した結果を保証します。
  • 精密な温度管理: 高度なPID温度コントローラーにより、50セグメントのプログラム設定が可能。0.1℃の分解能と±1℃の精度で、特定の材料要件に合わせた複雑な昇温・冷却プロファイルを作成できます。
  • 高性能断熱材: チャンバー内壁には1800グレードの繊維状アルミナ断熱材を使用しており、優れた耐熱性を提供し、熱損失を最小限に抑え、内部構造のエネルギー効率と長寿命化に貢献します。
  • 堅牢な真空性能: KF25真空ポートと洗練されたシーリングシステムを備え、0.5 torr以下の真空度に到達可能。大気中の水分や酸素に敏感な材料の処理に不可欠です。
  • デュアルゾーン温度監視: 2本のB型熱電対を使用することで、全動作範囲にわたって非常に正確な温度フィードバックを確保し、重要な高温フェーズでの冗長性と安全性を高めています。
  • 統合された安全性と冷却機能: 高温動作中にフロントドアのシールを保護するため、水冷システムと内部空冷を組み込んでおり、重要な部品の熱劣化を防ぎます。
  • 高負荷対応: 補強されたチャンバー床は最大100kgの材料を支えるよう設計されており、断熱材の構造的完全性を損なうことなく、大規模な産業用バッチや重いセラミック部品の処理に適しています。
  • 洗練されたガス流量制御: 統合されたフロート式流量計(1-12 L/min)と1/4インチのコンプレッション継手により、チャンバー内へのガス供給を精密に調整でき、再現性の高い環境制御処理を促進します。

用途

用途 説明 主なメリット
先端セラミックス焼結 アルミナ、ジルコニア、炭化ケイ素などのテクニカルセラミックスの高温焼成。 精密な温度制御により、最大密度と優れた機械的特性を確保。
半導体アニール 不活性ガスまたは真空条件下での半導体ウェハーおよび薄膜の熱処理。 酸化を防ぎ、完成部品の電気的特性の高純度を維持。
粉末冶金 制御雰囲気下での金属粉末および合金の焼結による複雑な構造部品の成形。 金属の酸化を防ぎつつ、優れた結合と構造的完全性を促進。
触媒合成 化学R&Dのための特定のガス流下での触媒材料の調製および焼成。 触媒活性と表面積を最適化するための再現可能な化学環境を提供。
電池材料研究 リチウムイオン電池および全固体電池用のアノード・カソード材料の熱処理。 特殊な雰囲気下での相転移と結晶構造の制御に不可欠。
ガラスの溶融・清澄 高純度かつ精密な温度を要する特殊ガラス配合の小ロット溶融。 安定した高温環境により、均質な溶融と気泡の除去を実現。
航空宇宙材料試験 ジェットエンジン部品用高温合金および複合材料のストレス試験と熱処理。 極端な熱条件をシミュレートし、材料の耐久性と耐熱性を検証。
原子力エネルギー研究 模擬原子炉温度および雰囲気下での耐火材料および燃料の試験。 安定性の限界における材料挙動を分析するための安全で制御された環境を提供。

技術仕様

パラメータ 詳細仕様 (TU-QF11)
モデル識別子 TU-QF11
電源 480VAC、3相、50/60 Hz
定格電力 26 kVA
チャンバー寸法 410 mm x 410 mm x 500 mm (16" x 16" x 20")
チャンバー容積 80 リットル
最大積載量 100 kg
断熱材 1800グレード繊維状アルミナ断熱材
発熱体 MoSi2発熱体 (8本)
最高温度 (大気) 1700 °C (連続)
最高温度 (不活性) 1500 °C (連続)
最高温度 (5% H2) 1500 °C (連続)
最高温度 (真空) 1400 °C (連続)
温度コントローラー 50セグメントプログラム可能PIDコントローラー
温度精度 ±1 °C
温度分解能 0.1 °C
熱電対タイプ デュアルB型
真空ポート KF25
真空度 < 0.5 torr
チャンバー圧力 < 3 psig
ガス継手 1/4" コンプレッションチューブ入口/出口
ガス流量制御 フロート式流量計 (1-12 L/min)
冷却要件 フロントシール用水冷 (プッシュ接続 Ø12 mm)
通信インターフェース DB9 RS-485 シリアルポート
準拠規格 CE認証取得

雰囲気制御マッフル炉を選ぶ理由

  • 妥協のない精度: 本システムは厳密な熱プロファイルを提供するよう設計されており、研究や生産プロセスが常に再現可能で信頼性の高いものとなることを保証します。
  • 堅牢な産業用構造: 高耐久性のスチール製雰囲気チャンバーから高品質なMoSi2発熱体まで、すべてのコンポーネントは極端な温度下での連続運用に耐えられるよう選定されています。
  • 多用途な雰囲気制御: 高真空、不活性アルゴンシールド、制御された酸素環境など、プロセスのニーズに合わせて柔軟に適応可能です。
  • 実証された長期信頼性: 当社の熱処理システムは世界中の主要な研究機関や産業メーカーで利用されており、過酷な条件下での耐久性と一貫した性能で高い評価を得ています。
  • スケールアップ対応設計: 80Lのチャンバーと100kgの積載容量により、材料の画期的な成果を小規模なラボ実験から本格的な産業応用へと移行させるのに理想的な装置です。

正式なお見積りや、お客様の特定の材料処理要件に合わせてこの雰囲気制御熱処理システムをカスタマイズする方法については、当社の技術エンジニアリングチームまで今すぐお問い合わせください。

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