製品概要
この高性能熱処理システムは、従来のマッフル炉の汎用性と、3連チューブ式リアクターの専門的な機能を組み合わせた、実験室の効率を飛躍的に高める画期的な装置です。先端材料科学や産業用研究開発向けに設計されており、大気中での焼結とハイスループットな真空処理をシームレスに切り替えることができます。デュアルモード設計により、1台の設置面積で複数の実験ニーズに対応でき、性能を犠牲にすることなくラボスペースを最大限に活用可能です。
現代の全固体電子機器や超伝導体研究の厳しい要求に応えるため、極めて安定した熱環境を提供します。高純度アルミナ加熱チャンバー内に3つの独立した処理チューブを統合することで、厳密に制御された雰囲気下または高真空条件下での複数サンプルの同時処理が可能です。本装置は、エリート研究機関や産業試験施設で求められる精度、信頼性、および一貫した再現性を実現するために特別に設計されています。
高度な断熱材と精密なPID制御ロジックを備えた優れたエンジニアリングにより、システムの性能に対する信頼性を保証します。バルクサンプル加熱用の標準的なマッフル炉として、あるいは化学気相輸送やアニール処理のための特殊なチューブ炉として、どのような用途でも優れた温度均一性を維持します。頑丈な構造とコンパクトな設計により、グローブボックス環境への統合にも適しており、空気に対して敏感な材料を扱う研究者にとって不可欠なツールとなります。
主な特徴
- ハイブリッドマルチモード構成： 1リットルのマッフル炉と3連チューブ式処理ユニットの機能を併せ持ち、大気中での標準的な焼結から、コンパクトな設置面積内での特殊な真空封止実験まで対応可能です。
- ハイスループットな3連チューブ設計： 外径20mmの石英チューブを3本装備しており、異なるサンプルやバッチの同時熱処理が可能で、研究の生産性と比較研究の効率を大幅に向上させます。
- 高度な真空統合： 各石英チューブには高品質なKF16フランジアセンブリ、ニードルバルブ、1/4インチチューブ継手が装備されており、ターボポンプと組み合わせることで、超高純度な処理環境を実現する10E-5 torrまでの真空レベルをサポートします。
- 優れた断熱性能： 高純度繊維状アルミナ断熱材を使用しており、熱損失を最小限に抑え、最大30℃/分の急速昇温を実現。長期間の連続運転に必要なエネルギー効率を提供します。
- 精密PID温度制御： 30セグメントのプログラムが可能な高度なデジタルコントローラーにより、±1℃の温度精度を実現。0〜1000℃の全動作範囲で安定性を維持するオートチューニング機能を備えています。
- グローブボックス対応設計： 標準的な研究用グローブボックス内に設置できるようコンパクトな外形寸法に設計されており、湿気や酸素に敏感な材料の処理を容易にします。
- 強化された安全システム： 内蔵の保護用熱シールドと統合された冷却ファンにより、コンポーネントへの熱衝撃を防ぎ、高温運転中でも外装ケースを安全に触れる温度に保ちます。
- 包括的な保護回路： 過熱や熱電対の故障に対する自動シャットダウンおよびアラーム機能を備えており、装置と内部の貴重なサンプルの両方を保護します。
- 多彩な電源オプション： 国際的なラボ基準を満たす110Vおよび220V構成が選択可能で、既存の電気インフラへのシームレスな統合を保証します。
- 堅牢なシーリング機構： 石英ブロックと特殊アダプターの使用により、熱放射を加熱ゾーン内に封じ込め、真空フランジを保護すると同時に、すべてのサンプルに対して均一な温度プロファイルを確保します。
用途
| 用途 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| 固体電解質 | 精密な雰囲気制御を必要とする次世代電池材料の研究。 | 汚染を防ぎ、均一な結晶成長を保証。 |
| 超伝導体合成 | 超伝導セラミックスおよび薄膜の高温処理。 | 複雑な相形成に必要な熱安定性を提供。 |
| 真空アニール | 小型金属やセラミックス部品の応力除去および結晶構造の精錬。 | 高真空KF16シーリングにより酸化を排除。 |
| 大気中焼結 | 4インチ×4インチ×4インチの内部チャンバーを使用した標準的なマッフル炉運転。 | ルーチン材料試験のための大容量加熱。 |
| 化学気相輸送 | チューブ構成を利用した高純度単結晶の成長。 | 複数のチューブにより、実験条件の同時比較が可能。 |
| グローブボックス内熱処理 | 不活性環境下でのリチウムイオンまたはナトリウムイオンコンポーネントの処理。 | 湿度制御されたエンクロージャー内に収まるコンパクト設計。 |
| 触媒試験 | 実験用触媒の耐熱性および反応性の評価。 | 複雑な昇温/保持サイクルに対応する精密な30セグメントプログラミング。 |
技術仕様
| パラメータカテゴリ | TU-HC02の仕様詳細 |
|---|---|
| モデル識別子 | TU-HC02 |
| チャンバー寸法 | 100 x 100 x 100 mm (4" x 4" x 4") |
| チャンバー容量 | 1.0 リットル (65 立方インチ) |
| 加熱チューブ仕様 | 石英チューブ3本: 外径20mm x 内径15.9mm x 長さ200mm |
| 最高温度 | 1100℃ (30分未満) |
| 連続使用温度 | 1000℃ |
| 温度精度 | ±1℃ |
| 昇温速度 | 推奨: ≤10℃/分; 最大: 30℃/分 |
| 真空レベル - メカニカル | 10E-2 Torr (メカニカルポンプ使用時) |
| 真空レベル - ターボ | 10E-5 Torr (ターボポンプ使用時) |
| 電源 (110V版) | 950 W, 単相, 50/60Hz (電源コード付属) |
| 電源 (220V版) | 1.2 KW, 単相, 50/60Hz (電源コード別売) |
| コントローラータイプ | PID自動制御 (30セグメントプログラム可能) |
| 熱電対 | Kタイプ |
| フランジアセンブリ | KF16 3セット (ニードルバルブおよび1/4インチチューブ継手付き) |
| 断熱材 | 高純度繊維状アルミナ |
| コンプライアンス | CE認証取得済み (NRTL/UL61010またはCSAはオプション対応) |
| 安全機能 | 過熱保護、熱電対断線保護、冷却ファン |
TU-HC02を選ぶ理由
- デュアルパーパス設計： TU-HC02は、大気中マッフル焼結と高真空チューブ処理という2つの異なる炉の機能を1台に集約しており、多目的なラボに比類のない価値を提供します。
- 精度と安定性： ±1℃の精度と洗練された30セグメントPIDコントローラーにより、繊細な材料合成や再現性の高い研究開発に必要な正確な熱プロファイルを実現します。
- 堅牢な産業用構造： 高純度アルミナファイバーと高品質石英を使用しており、産業研究環境で求められる長期耐久性を備え、メンテナンスとダウンタイムを最小限に抑えます。
- 高度なカスタマイズ： ラップトップベースの制御システムから特定のガス入出力の変更まで、お客様の専門的な研究プロジェクトのワークフロー要件に合わせて調整可能です。
- 安全性と認証： すべてのユニットはCE認証を取得しており、NRTLまたはCSA基準へのアップグレードも可能で、大学や企業のラボにおける最も厳しい安全要件を満たしています。
正式なお見積り、またはTU-HC02がお客様の特定の材料処理課題をどのように解決できるかについての詳細については、当社のテクニカルセールスチームまでお問い合わせください。
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