材料研究用 1700℃ ハイブリッド高温チューブ・ボックス炉(2インチアルミナチューブ付)

マッフル炉

材料研究用 1700℃ ハイブリッド高温チューブ・ボックス炉(2インチアルミナチューブ付)

商品番号: TU-HC10

最高動作温度: 1700 °C 温度制御精度: ± 1 °C 処理管径: 2インチ (50mm) アルミナ
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製品概要

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このハイブリッド熱処理システムは、ボックス炉とチューブ炉の両方の機能を単一の高性能ユニットにシームレスに統合した、高温ラボエンジニアリングにおける多用途な進歩を象徴する製品です。材料科学や産業研究開発の厳しい要求を満たすように設計されており、大気環境または厳密に制御された雰囲気のいずれかを必要とする熱処理プロセスに柔軟なプラットフォームを提供します。研究者は広々としたチャンバーでのバッチ処理と、局所的な真空密閉チューブ処理を切り替えることができるため、複数の専門機器を導入する必要がなく、ラボのスペースと予算効率を最適化できます。

本装置の主な用途には、先端セラミックスの開発、半導体研究、固体酸化物形燃料電池(SOFC)の試験などが含まれます。主要な加熱チャンバーと垂直方向に統合されたアルミナ処理チューブを利用するデュアルパス加熱構成により、冶金、触媒研究、高温酸化試験に注力する機関にとって不可欠なツールとなっています。最大1700℃までの安定した温度を維持できる能力により、現代の航空宇宙およびエネルギー分野で使用される最も耐火性の高い材料にも対応可能です。

本ユニットのあらゆるコンポーネントには信頼性が組み込まれています。ピーク動作時でも外殻温度を低く保つ二重構造の鋼製ケーシングから、精密なシリコン制御整流器(SCR)電力制御システムに至るまで、本装置は長期的な一貫性を保つよう構築されています。産業グレードの熱安定性を提供するため、調達担当者や主任研究者は、厳しいサイクル条件下でもシステムが再現性の高い結果をもたらすと確信して投資することができます。堅牢なビルド品質により、熱範囲の上限においても構造的および運用上の完全性が維持されます。

主な特徴

  • 革新的なハイブリッド構成: 直径2インチのアルミナ処理チューブが6x6x6インチの加熱チャンバーの上部を貫通する独自の設計を採用しています。これにより、真空/雰囲気制御処理用のチューブと、小型るつぼを使用した大気ベースの熱処理用の周囲チャンバーを、同時または独立して使用することが可能です。
  • プレミアム1800グレードMoSi2発熱体: 4本の高性能U字型二ケイ化モリブデン発熱体を装備し、極限温度での急速加熱と優れた耐久性を実現します。これらの発熱体は、1700℃環境の酸化ストレスに劣化することなく耐えられる能力に基づき厳選されています。
  • 高度な高純度繊維断熱材: チャンバー内壁には1800グレードの繊維状アルミナ断熱材が施されており、熱損失を最小限に抑え、エネルギー効率を向上させています。この低熱容量の断熱材により、従来の重い耐火レンガと比較して、より速い昇温速度と優れた温度均一性が得られます。
  • 精密なSCR電力制御: 標準的なソリッドステートリレーとは異なり、本ユニットは位相角制御と電流制限機能を備えたSCR(シリコン制御整流器)を採用しています。これにより、電力出力のより細かな制御が可能となり、±1℃の温度精度を実現し、電流サージによる発熱体の損傷を防ぎます。
  • 30セグメントプログラム可能なPIDコントローラー: 内蔵のデジタルコントローラーにより、複数の加熱段階、保持時間、制御された冷却速度を含む複雑な熱プロファイルをプログラムできます。このレベルの自動化により、繊細な材料変化を極めて高い再現性で管理できます。
  • 統合された真空および雰囲気制御: 本ユニットには、ステンレス製真空シールフランジ、二重シリコンOリング、ニードルバルブ、ダイヤル式真空計が標準装備されています。この構成により、標準的なメカニカルポンプで最大50 mTorrまでの真空レベルに到達でき、ターボ分子ポンプと組み合わせることでさらに高真空にすることも可能です。
  • 二層安全ケーシング: 炉のハウジングは二重壁鋼構造と統合された冷却ファンで構成されています。この設計により空気流のバッファーが形成され、長時間高温で保持した場合でも外殻に触れても安全であり、ラボの安全性が向上します。
  • SOFC試験用専用ポート: 垂直チューブ配置はSOFCコインセルの試験に最適化されており、安定した熱環境と、電気化学的性能分析のための容易なガス接続を提供します。
  • 自動保護システム: 内蔵の過熱アラームと自動電源遮断プロトコルにより、無人環境でも安全に動作させることができ、サンプルと機器の両方を熱暴走から保護します。

用途

用途 説明 主な利点
SOFCコインセル試験 垂直方向により、コインセルを正確な電気化学的動作温度に保ちながらチューブ内にガスを流すことが可能。 劣化研究および効率測定における高い精度。
先端セラミックス焼結 6インチのボックスチャンバー内でのジルコニア、アルミナ、その他のテクニカルセラミックスの高温処理。 安定したPID制御による優れた密度および粒径制御。
雰囲気制御アニール 密閉されたアルミナチューブを介した、不活性アルゴンまたは窒素環境下での金属合金や半導体ウェハーの処理。 重要なサイクル中の酸化および表面汚染の防止。
触媒特性評価 チューブ環境内での反応性ガスへの触媒基板の高温曝露。 触媒の熱安定性評価のための再現可能な環境。
真空熱処理 50 mTorr真空下での揮発性不純物の除去や特殊材料の脱ガス。 高純度材料合成のためのクリーンな処理環境。
酸化試験 ボックスチャンバー内での最大1700℃の空気中における航空宇宙合金の長期曝露。 材料検証のための極限動作環境の信頼性の高いシミュレーション。
粉末冶金 制御された圧力または雰囲気下での金属粉末の焼結。 冶金学的相形成を決定するための冷却速度の精密制御。

技術仕様

パラメータ TU-HC10の仕様詳細
モデル番号 TU-HC10
最高温度 1700 °C(1時間未満)
連続使用温度 800 °C – 1600 °C
加熱チャンバー寸法 150 mm x 150 mm x 150 mm (6" x 6" x 6")
発熱体 U字型1800グレードMoSi2 4本
処理チューブ材質 99.5% 高純度Al2O3セラミック
処理チューブ寸法 外径: 50 mm; 内径: 40 mm; 長さ: 1000 mm
温度コントローラー SCR(シリコン制御整流器)電力制御によるPID制御
プログラム容量 加熱/冷却/保持プロファイル用30セグメント
温度精度 ± 1 ºC
昇温/降温速度 ≤ 5 ºC/min (>1200ºC); ≤ 10 ºC/min (<1200ºC)
消費電力 最大 4 KW
入力電圧 単相, 220V AC, 50/60 Hz
真空レベル 50 mTorr (メカニカルポンプ); 10^-5 Torr (分子ポンプ)
シールフランジ 二重シリコン高温Oリング付きステンレス製
接続ポート ニードルバルブ付き標準1/4インチバーブ継手
データインターフェース RS485通信ポート(オプションのPC制御モジュール)
標準付属品 アルミナルツボ4個 (15x15mm)、セラミックチューブブロック2個、真空計

このハイブリッド炉を選ぶ理由

  • 卓越した運用汎用性: デュアル機能設計により、2台分の炉の利便性を1台で提供し、追加の設備投資なしでバッチボックス処理と真空チューブ実験を切り替えることができます。
  • 精密設計された熱制御: 標準的なリレーではなくSCR電力制御を採用することで、よりスムーズな電力遷移と優れた精度を実現しており、繊細な材料合成や研究開発の再現性に不可欠です。
  • 優れたコンポーネント寿命: 1800グレードのMoSi2発熱体から高純度アルミナチューブに至るまで、すべての材料は熱スケールの上限において最大の寿命と性能を発揮するように選択されており、総所有コストを削減します。
  • スケーラブルなデジタル統合: 内蔵のRS485ポートとオプションのPCベース制御モジュールにより、自動監視および文書化のための現代的なラボデータ収集システムに統合する準備が整っています。
  • 実証済みのサポートと信頼性: 産業グレードの熱ソリューションに特化したメーカーの製品として、本システムは厳格な品質管理と技術的専門知識に裏打ちされており、重要な研究環境において一貫した性能を保証します。

カスタム構成、真空ポンプの組み合わせ、またはお客様の研究要件に合わせた詳細な見積もりについては、今すぐ当社の技術営業チームまでお問い合わせください。

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