製品概要
この高温熱処理システムは、実験室工学の頂点を示すものであり、6つの独立制御加熱ゾーン全体で卓越した精度により最高1700°Cまで到達できるよう特別に設計されています。分割ヒンジ式炉体と高純度アルミナ処理チューブを統合することで、試料のスムーズな装填と反応チャンバーへの迅速なアクセスを可能にします。この二重目的設計により、極限温度とモジュール式チューブ構成の柔軟性の両方を必要とする研究環境にとって不可欠なツールとなり、複雑な実験構成を容易かつ効率的に管理できます。
主に材料科学部門、産業R&Dセンター、半導体製造ラボで使用される本装置は、化学気相成長（CVD）、結晶育成、高度なセラミック焼結などの高度な熱処理に優れています。1400 mmの加熱長を維持できるため、高スループット処理や正確な熱勾配の生成が可能です。その堅牢な構造は、航空宇宙、エネルギー貯蔵、エレクトロニクスなど、材料純度と熱的一貫性が最終製品の成功に不可欠な要求の厳しい産業向けに最適化されています。
厳しい使用条件下での長期信頼性を考慮して設計されたこのシステムは、プレミアムグレードのMoSi2加熱素子と二重層の軟鋼ケースを採用しています。内蔵冷却ファンの搭載により外装表面を安全な動作温度に保ち、オペレーターと周囲の実験室設備の両方を保護します。6台の個別PIDコントローラーが熱プロファイルをきめ細かく管理することで、最も繊細なプロセスでも毎回再現性の高い高精度な結果を安心して得ることができます。
主な特長
- 6つの独立加熱ゾーン: 炉は6つの明確な加熱ゾーン（200、200、300、300、200、200 mm）を備え、それぞれが個別のPIDユニットで制御され、最大10°C/cmの精密な熱勾配を生成できます。
- 高度な分割本体設計: 分割チャンバー構造により処理チューブの挿入・取り外しが容易で、事前組立済みの実験装置やプロセス間の迅速冷却に不可欠です。
- 高純度アルミナ処理チューブ: Ø60 mm × 1800 mmのアルミナチューブが、極限温度下でも優れた耐薬品性と構造安定性を提供し、繊細な材料合成のためのクリーンな環境を確保します。
- MoSi2加熱素子: 1800°Cグレードのモリブデンシリサイド素子を採用し、低グレードの加熱部品に見られる劣化を伴わずに、迅速な昇温と高温保持性能を実現します。
- 水冷式真空フランジ: 本システムには、水冷式フランジ一式が含まれており、最高動作温度でもシールの完全性を維持し、薄膜成膜に必要なレベルまでの高真空プロセスを容易にします。
- 高精度PID温度制御: 6つのコントローラーはそれぞれ50セグメントのプログラムが可能で、0.3°Cの分解能と±1°Cの精度を備え、最も厳しい実験室基準に対応します。
- 強化された安全インターロック: 内蔵の過熱・熱電対断線アラームにより自動停止機能を提供し、装置とプロセスチューブを暴走加熱やハードウェア故障から保護します。
- 統合データ取得: RS485シリアル通信とLabVIEWベースのソフトウェアにより、ユーザーは温度プロファイルの遠隔監視、データ記録、複雑なレシピの中央端末からの管理が可能です。
- 高い熱効率設計: 強制空冷付きの二重層鋼製ケースにより外装温度を70°C未満に保ち、実験室環境への熱負荷を最小化し、エネルギー効率を向上させます。
- 高い均一性: すべてのゾーンを同期させた場合、±5°Cで1000 mmの均一温度領域を提供し、大量処理や長尺試料の焼結に最適です。
用途
| 用途 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| CVD / PECVD | 制御された雰囲気下で高品質なカーボンナノチューブ、グラフェン、薄膜コーティングを合成します。 | 精密なガス流量と温度制御により、優れた膜均一性が得られます。 |
| 結晶育成 | 6ゾーンの勾配制御を利用して、融液相または気相から単結晶成長を促進します。 | 正確な10°C/cmの勾配により、高純度な結果のための制御された結晶化速度を実現します。 |
| セラミック焼結 | 制御された空気または真空環境下で、高度なセラミックスおよび耐火材料を高温緻密化します。 | 1700°C対応により、最も要求の厳しい工業用セラミックスの処理が可能です。 |
| 熱勾配試験 | 単一軸に沿った可変温度条件下で材料を試験し、構造変化を観察します。 | 独立ゾーンにより、実世界の熱応力を模擬する複雑な温度プロファイルを設定できます。 |
| 焼鈍および焼き戻し | 特殊合金や半導体ウェーハの熱処理により、内部応力を緩和し機械特性を調整します。 | 優れた温度均一性により反りを防ぎ、安定した構造健全性を確保します。 |
| 固相合成 | 多段加熱サイクルによる電池正極/負極材料の焼成および合成を行います。 | 大きな処理容量とモジュール式チューブオプションにより、多様なバッチサイズに対応します。 |
| 雰囲気研究 | 窒素、アルゴン、酸素など特定のガス環境下での材料反応を研究します。 | 水冷フランジと気密シールにより、高純度を維持し、汚染を防ぎます。 |
技術仕様
| 仕様カテゴリ | TU-81 のパラメータ詳細 |
|---|---|
| モデル識別子 | TU-81 |
| 電源入力 | 208-240 VAC、3相、50/60Hz、100 A、30 kVA（380V - 480Vのオプションあり） |
| 最高温度 | 1700°C（< 60分） |
| 連続使用温度 | 800°C - 1600°C |
| 真空時使用温度 | 真空条件下で < 1450°C |
| 昇温速度 | < 10°C / 分 |
| 加熱ゾーン | 6ゾーン：200 + 200 + 300 + 300 + 200 + 200 mm |
| 総加熱長 | 1400 mm |
| 均一温度領域長 | 1000 mm @ ± 5°C（1400°C時、ゾーン同期） |
| 一定温度帯 | 800 mm @ ± 5°C |
| 熱勾配 | 独立ゾーンのプログラミングにより最大10°C / cmを実現可能 |
| 加熱素子 | 1800°Cグレード MoSi2 加熱素子 |
| 処理チューブ | アルミナチューブ Ø60 mm（外径）× Ø51 mm（内径）× 1800 mm（長さ） |
| 真空フランジ | 水冷式真空フランジ一式を付属 |
| 制御システム | 6台のPIDプログラマブルコントローラー、各50セグメント |
| 精度 & 分解能 | ±1°Cの精度、0.3°Cの温度分解能 |
| 熱電対 | B型 |
| 通信インターフェース | RS485シリアルポート、LabVIEWベースのソフトウェア（MTS03）付属 |
| 内部圧力 | < 3 psig |
| 外装構造 | 二重層軟鋼ケース、統合冷却ファン付き |
| 安全規格 | CE認証取得済み；NRTL（UL61010）またはCSAは要望に応じて対応可能 |
高温1700C 六ゾーン分割型チューブ炉を選ぶ理由
- 優れた熱的汎用性: 1700°Cのピーク性能と6ゾーン独立制御の組み合わせにより、研究者は単一装置で均一加熱から複雑な勾配プロファイルまでシームレスに移行できます。
- 実証された信頼性と高品質な構造: 高グレードのMoSi2素子と二重シェル冷却設計で構成されており、産業R&Dや製造に必要な集中的なサイクル時間に耐えるよう設計されています。
- 精度重視の結果: 業界最高水準の制御精度と統合LabVIEWソフトウェアにより、複雑な熱レシピの自動化と、重要な研究記録のデータ整合性確保が可能です。
- モジュール式でカスタマイズ対応: 当社のエンジニアリングチームは、特殊フランジ構成から各種電源規格まで幅広いカスタマイズオプションを提供し、既存の実験室インフラに最適に統合できるようにします。
- 包括的な適合性とサポート: 各ユニットはCE認証済みで、ULおよびCSA規格オプションにも対応し、迅速な技術サポートチームが最大稼働率と運用安全性を支えます。
お見積りのご依頼や、お客様の特定の材料科学要件に合わせたカスタム熱処理ソリューションについてのご相談は、今すぐ当社の技術営業チームまでお問い合わせください。
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