製品概要
この縦型熱処理システムは、精密な雰囲気制御と高速温度サイクルを必要とする材料科学研究室や産業R&D施設にとって高度なソリューションです。分割シェル構造と縦型レイアウトを組み合わせることで、装置は試料の出し入れを効率化しつつ、研究作業が集中する環境でも作業スペースを最適化します。その主な価値は、3つの独立した加熱ゾーン全体で極めて高い熱安定性を維持できる点にあり、先進的な結晶成長や化学気相成長プロセスに必要な精密な温度勾配、または長い等温領域の形成を可能にします。
航空宇宙工学、半導体開発、固体化学などの分野を対象としたこのシステムは、複雑な熱処理レシピに必要な柔軟性を提供します。高純度石英管と堅牢な真空シールの組み合わせにより、 حساسな材料を汚染なく処理できます。急冷試験でも定常焼結でも、本装置は学術・産業の両現場で高品質な研究データの生成に不可欠な再現性と精度を発揮します。
産業用グレードの部品で構成され、長期運用の信頼性に重点を置いて設計されたこの炉は、連続高温運転の過酷な条件に耐えられるよう作られています。分割筐体によりメンテナンスが容易で迅速な冷却が可能であり、内蔵の高耐荷重モバイルベースによって装置全体を施設内で安全に移動できます。この高品質設計への投資は、安定した性能に結びつき、ダウンタイムを最小限に抑え、精度が最優先される重要研究プロジェクトの処理能力を最大化します。
主な特長
- 独立した三ゾーン加熱制御: 本システムは、それぞれ300mm長の3つの独立した加熱ゾーンを備え、独自の温度勾配を作成するために個別制御できます。この構成は、ブリッジマン法による結晶成長や、ゾーンを同期させた際に600mmの均一加熱領域全体で高度に均一な温度分布を確保する用途に不可欠です。
- 高精度分割シェル設計: 炉本体は長手方向に開く分割シェル構造で設計されています。これにより、プロセスチューブの挿入・取り外しが容易になり、真空接続の複雑な分解を必要とせずに、高温サイクル後の試料の迅速冷却が可能です。
- 高度な真空シールシステム: 2つのステンレス鋼真空フランジを備え、高品質バルブと真空計を含みます。上部フランジには一体型フックリングがあり、急冷実験のためのるつぼや試料を吊り下げる用途に特化して設計されており、熱処理中の垂直安定性を確保します。
- 高純度溶融石英反応管: 標準の4インチ径石英管は、優れた耐熱衝撃性と化学的不活性を提供します。この材料は、真空または流通ガス下で高純度環境を維持するのに理想的で、透明な管を通して研究者が反応の進行を視覚的に監視できます。
- 高度なPID温度制御: MET認証コントローラーは、加熱速度、冷却速度、保持時間を精密に管理するための30個のプログラム可能なセグメントを提供します。精度は±1°C以内に保たれ、内蔵PID自動チューニング機能と断線熱電対保護により、無人運転時の安全性が確保されています。
- 堅牢な断熱構造: 高品質な繊維状断熱材を採用し、最大限のエネルギー効率を実現するよう設計されています。この材料は熱損失を最小限に抑え、1200°Cの最大設定温度で長時間運転しても外装を安全な温度に保ちます。
- 統合安全機能: システムには標準で過温保護とアラームが搭載されており、夜間の安全運転が可能です。二重構造の鋼製筐体には空冷ファンシステムが組み込まれており、外表面温度を55°C未満に保ち、実験室スタッフと周辺機器を保護します。
- 高耐荷重モバイル統合: 炉ユニット全体は高耐荷重の産業用移動台車に搭載されています。これにより、施設内での装置移設が容易になりつつ、繊細な実験セットアップ向けに安定した振動減衰プラットフォームを提供します。
- デジタル通信機能: RS485通信ポートを備え、外部コンピュータシステムとの統合が可能です。これにより、リモート監視、加熱プロファイルのデータロギング、Labviewベースのソフトウェア環境を通じた複雑な熱処理レシピの自動化が実現します。
- 拡張可能な雰囲気制御: 標準の1/4"バーブ付きニードルバルブ継手により、保護ガスの導入が可能です。システムはSwagelok継手やKF25アダプターにアップグレードでき、高真空ポンプやCVD用途向けの高精度マスフローコントローラーに対応します。
用途
| 用途 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| 急冷研究 | 垂直吊り下げ機構とクイックリリース機構により、高温から金属またはセラミック試料を迅速冷却します。 | 相変態速度や微細組織進化を精密に制御できます。 |
| 化学気相成長 | 前駆体ガスを石英管内の制御された熱環境に供給し、薄膜やナノ材料を合成します。 | 大きな600mmの均一加熱ゾーン全体で優れた均一性を確保し、膜厚を安定させます。 |
| 結晶成長 | 三ゾーン制御を利用して、ブリッジマン法や気相輸送法に必要な精密な温度勾配を形成します。 | 単結晶品質に必要な高分解能の空間温度制御を実現します。 |
| 半導体ドーピング | 高純度石英環境下で、シリコンウェハーや他の半導体基板にドーパントを高温拡散します。 | 汚染を最小限に抑え、バッチ均一性のための再現性の高い熱サイクルを実現します。 |
| 触媒合成 | 制御された雰囲気下（窒素、アルゴン、または還元ガスの流通）で、触媒材料の焼成および還元を行います。 | 高純度ガス流量管理と正確な保持時間制御により、活性点を保全します。 |
| セラミックスの焼結 | 真空下で1200°Cまで、粉末成形体を高密度セラミック部品へと緻密化します。 | 効果的な雰囲気排除と精密な昇温レート制御により、気孔を除去します。 |
| 相図研究 | 定常等温保持を用いて、材料混合物の熱安定性と相転移点を測定します。 | 信頼性の高い材料評価データのための長期温度安定性（±1°C）を提供します。 |
| 高真空処理 | 酸化や窒化を防ぐため、0.1 torrまでの圧力を必要とする繊細な合金の熱処理を行います。 | CNC加工されたステンレス鋼フランジとOリングシールにより、信頼性の高い真空密閉性を提供します。 |
技術仕様
| 仕様カテゴリ | パラメータ詳細（TU-C13） |
|---|---|
| 型番 | TU-C13 |
| 炉構造 | 強制空冷付き二重鋼製筐体；表面温度 < 55°C |
| 断熱材 | 省エネルギーのための高純度繊維状セラミック断熱材 |
| 定格電力 | 7 KW |
| 電圧要件 | AC 208-240V 単相、50/60 Hz |
| 最高温度 | 1200°C |
| 連続運転温度 | 1100°C |
| 最大昇温速度 | ≤ 20°C /分 |
| 管材質 | 高純度溶融石英 |
| 管寸法 | 外径: 102mm；内径: 94mm；長さ: 1540mm（4インチ径） |
| 標準パッケージ | 4"石英管1本を含む；2"、3"、5"のアダプターはオプションで利用可能 |
| 加熱ゾーン構成 | 3ゾーン（3×300mm）、総加熱長900mm |
| 一定加熱ゾーン | 600mm（3つのゾーンをすべて同一温度に設定した場合） |
| 温度コントローラー | MET認証；30プログラム可能セグメント；PID自動チューニング；RS485ポート |
| 温度精度 | ± 1ºC |
| 真空シール | 2つのステンレス鋼フランジ；一体型ゲージ、バルブ、上部フランジフック |
| 継手ポート | ニードルバルブ付き標準1/4’’バーブ継手 |
| 真空レベル | 0.1 torr（オプションのデジタルゲージと高真空ポンプ使用時は最大10-4 torr） |
| 発熱体 | Mo添加による耐久性向上のFe-Cr-Al合金 |
| 適合規格 | CE認証済み；NRTL/CSAは要望に応じて対応可能 |
| 真空制限 | 1000°Cまで真空下で安全に使用可能；内部圧力 < 0.2 bars |
| ガス流量上限 | 石英管への熱衝撃を低減するため、推奨流量 < 200 SCCM |
TU-C13を選ぶ理由
- 精密設計: 独立した三ゾーン制御により、熱プロファイルの前例のない柔軟性を実現し、均一性と勾配の両方を必要とする複雑な材料合成に最適です。
- 妥協のない品質: モリブデン添加のFe-Cr-Al合金発熱体と高純度繊維断熱材を採用し、要求の厳しい産業・研究環境で長年にわたり信頼性の高い運用を提供します。
- 安全性と使いやすさの向上: 迅速なアクセスを可能にする分割縦型設計と、二重構造の空冷筐体の組み合わせにより、研究者にとって生産的でありながら、実験室環境でも安全な装置となっています。
- 多用途な雰囲気制御: ステンレス鋼真空フランジと高真空継手へのアップグレード能力により、この装置は真空、不活性ガス、反応性ガス環境を完全な信頼性で扱えます。
- 認証された信頼性: すべてのユニットはCE認証を取得しており、厳格なエンジニアリング基準に基づいて製造されているため、規制のある業界における調達担当者やコンプライアンス担当者に安心を提供します。
お見積りのご依頼、またはお客様の材料科学の要件に合わせたカスタム熱処理ソリューションのご相談は、ぜひ本日、当社の技術営業チームまでお問い合わせください。
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい！
関連製品
高温材料合成用、オプションの石英管および真空フランジシステム付き 24インチ 3ゾーン分割式チューブ炉
独立した温度制御、石英管対応、真空シールフランジを備えたこの高級24インチ3ゾーン分割式チューブ炉で、材料研究を加速します。1200°Cまでの精密な熱処理を実現し、要求の厳しい実験室および産業R&D用途に対応します。
1200°C 3ゾーン垂直管状炉（2インチ石英管および真空フランジ付き）
2インチ石英管と高度な真空フランジを備えた、精密な1200°C 3ゾーン垂直管状炉です。CVDおよびPVD用途向けに設計されたこの高性能システムは、高度な材料研究開発のために、優れた熱均一性と迅速な急冷機能を提供します。
24インチ加熱長・ヒンジ式フランジ石英管システム搭載 3ゾーンチューブ炉
このプロ仕様の3ゾーンチューブ炉は、24インチの加熱長と、効率的なサンプル投入を可能にするヒンジ式フランジを備えています。1200°Cまでの処理に最適化されており、高度な産業材料研究のために精密な温度均一性と真空互換性を提供します。
大型ウェーハ処理用 8.5～11インチ外径石英管および真空フランジ付き 1100°C 3ゾーン管状炉
8.5～11インチの大型石英管と密閉フランジを備えた、精密な1100°C 3ゾーン管状炉です。優れた熱均一性と高真空対応により、産業用R&Dプロジェクトや大規模なウェーハ処理、先端材料研究に最適です。
8インチまたは11インチ石英管と高真空フランジを装備した大型縦型3ゾーン管状炉 1200℃
当社の設計による大容量縦型3ゾーン炉は、独立した温度制御と11インチ石英管への対応により、要求の厳しい実験環境下での重要な産業用焼鈍・焼結研究および先端材料科学開発において、優れた均熱性と向上した真空完全性を実現します。
11インチまたは15インチ石英管とヒンジ式フランジを装備した真空雰囲気熱処理用3ゾーンチューブ炉
本3ゾーンチューブ炉は11インチまたは15インチの石英管を備え、精密な真空制御下での大規模ウェハアニーリングや材料合成に優れた熱均一性を実現します。産業研究所の安全性のため電動式リッド操作に対応しています。
急速熱処理用1200℃石英管・ステンレス鋼真空フランジ付き分割型垂直管状炉
この1200°C対応分割型垂直管状炉は、5インチ石英管と精密PID制御を備え、急速焼入れ、真空処理、高度な材料合成を実現し、要求の高い産業研究環境における研究効率を最大化します。
三ゾーン加熱 分割式縦型チューブ炉 1700 高温真空雰囲気熱処理システム
産業研究開発および材料科学用途向けの先進的な1700°C三ゾーン加熱分割式縦型チューブ炉。独立した熱制御、高真空機能、そしてエネルギー効率の高い断熱により、安定した高温処理と迅速な試料急冷結果を実現する高精度システムです。
真空フランジ付き 三温度ゾーン分割型チューブ炉 36インチ加熱長 高温1200℃ 材料研究用炉
1200℃の高温処理向けに精密設計された三温度ゾーン分割型チューブ炉です。材料科学の研究開発における雰囲気制御および真空用途のための高度なPID制御を備え、卓越した熱均一性と信頼性の高い性能を産業用ラボ環境および研究機関に提供します。
高温3ゾーン分割型チューブ炉 最高1200℃ 加熱長35.4インチ 内径8インチチューブ
この高性能な3ゾーン分割型チューブ炉は、35.4インチの加熱ゾーンと8インチ径のチューブを備え、高度な熱処理を実現します。独立したゾーン管理により、真空またはガス雰囲気下で最高1200℃の温度と優れた均熱性を達成します。
3ゾーン石英管炉（3チャンネルガスミキサー、真空ポンプ、耐食性真空計付き）
この高精度1200℃ 3ゾーン石英管炉システムは、専門的なCVDおよび材料合成向けに、統合された3チャンネルガス混合機能と耐食性真空モニタリングを提供し、要求の厳しい研究室や産業用R&D環境に対応します。
1200°C 3ゾーン分割式管状炉（加熱長18インチ、真空フランジ付き）
この1200°C 3ゾーン分割式管状炉で熱処理プロセスを最適化しましょう。18インチの加熱長と精密なPID制御を備え、高度な材料研究、アニーリング、焼結、および世界中の研究施設における専門的な産業R&Dアプリケーションに優れた温度均一性を提供します。
急速熱焼入れおよび制御雰囲気下での材料処理用 ステンレス製真空フランジ付きコンパクト縦型分割式石英管炉
高精度研究用に設計されたこのコンパクトな縦型分割式石英管炉は、最大1100°Cまでの急速加熱を実現します。ステンレス製真空フランジと30セグメントのプログラム制御を備えており、材料科学や工業的な焼入れ用途に不可欠なツールです。信頼性の高い性能を提供します。
高温1500℃ 3ゾーン分割型チューブ炉（80mmアルミナ管・真空フランジ付）
この設計された1500℃ 3ゾーン分割型チューブ炉は、80mmアルミナ管と精密なPID制御を備えています。高度な材料研究、CVDプロセス、および優れた温度均一性と高真空安定性を必要とする工業用熱処理に最適です。
材料焼結および制御雰囲気熱処理用 3ゾーン回転管状炉
この3ゾーン回転管状炉で熱処理プロセスを強化しましょう。スウェーデン製Kanthal A1エレメントと0～40度の傾斜機能を備え、粉末焼結や制御された真空・雰囲気下での高純度材料研究において優れた均一性を提供し、産業用R&D部門に最適です。
1600°C 3ゾーン分割型チューブ炉（アルミナチューブ・真空フランジ付）
この1600°C 3ゾーン分割型チューブ炉は、高度な材料合成や研究開発向けに、精密な温度プロファイリングと真空機能を提供します。複数の独立した加熱ゾーンにより優れた温度均一性を実現し、高い一貫性を備えた堅牢な設計が特徴です。
1200°C対応 3ゾーン管状炉 最大外径6インチ（チューブ・フランジ付き）
外径6インチの処理能力と高度なタッチスクリーン制御を備えた、この1200°C対応3ゾーン管状炉で熱処理プロセスを最適化します。この高精度システムは、先端材料研究、半導体アニール、工業用熱処理用途において均一な温度分布を保証します。
CVDおよび材料焼結用3ゾーン高温真空管状炉
この高性能3ゾーン管状炉は、各ゾーンを独立して制御することで精密な温度勾配を実現します。CVDや真空アニール用に設計されており、優れた温度均一性、高度なPIDプログラミング、産業用R&D向けの堅牢な真空シールを提供します。
オプションの大型径石英管付き 1200°C 最大 4ゾーン分割チューブ炉
オプションの直径14インチチャンバーと高純度断熱材を備えた、この1200°C 4ゾーン分割チューブ炉で材料研究を加速します。広い加熱ゾーン全体で高精度な温度均一性を実現し、大規模焼結、アニーリング、先進的な工業用気相成長プロセスに最適です。
12ゾーン超長尺分割型チューブ炉（20フィート石英管、最高温度1100℃）
この高精度な12ゾーン分割型チューブ炉は、6メートルの加熱長と最高温度1100℃を実現し、長尺サンプルの処理に最適です。独立したPID制御と真空対応フランジを備え、先端材料科学や研究開発用途において卓越した均熱性を提供します。