3ゾーン石英管炉(3チャンネルガスミキサー、真空ポンプ、耐食性真空計付き)

管状炉

3ゾーン石英管炉(3チャンネルガスミキサー、真空ポンプ、耐食性真空計付き)

商品番号: TU-43

最高温度: 1200°C 加熱ゾーン: 3つの独立したゾーン(全長880mm) ガス混合システム: 3チャンネル統合フローおよび圧力監視
品質保証 Fast Delivery Global Support
お問合せ

配送: お問い合わせ 配送詳細を確認してください オンタイムディスパッチ保証.

製品概要

Product image 3

Product image 4

この高性能熱処理システムは、精密な雰囲気制御を必要とする高度な材料合成や化学気相成長(CVD)用途向けに設計されています。3ゾーン加熱アーキテクチャと高度なガス供給マニホールド、真空モニタリングスイートを統合することで、複雑な研究開発タスクのためのターンキーソリューションを提供します。その最大の価値は、高品質なナノチューブ、ナノワイヤ、グラフェンのような2D材料の成長に不可欠な、カスタマイズされた温度勾配や広範囲な等温ゾーンを作成できる点にあります。

専門的なR&Dラボ、半導体メーカー、産業用材料科学センターをターゲットとしており、拡散ドーピング、アニール、雰囲気熱処理などのプロセスに優れています。本システムは柔軟性を重視して設計されており、研究者は最大3種類の前駆体ガスを高精度で混合しつつ、内部圧力を厳密に制御できます。小規模な半導体製造から学術的な材料探索まで、様々な温度プロファイルや化学環境において、一貫した再現性の高い結果を保証します。

過酷な条件下での信頼性を考慮し、高度な空冷技術を備えた堅牢な二重層スチールケーシングを採用しており、長時間高温サイクル中でも外装が安全に触れられる温度に保たれます。高純度アルミナファイバー断熱材から耐食性真空センサーに至るまで、すべてのコンポーネントは最大限の長寿命と動作安定性を実現するために選定されています。次世代の材料科学に注力する研究室にとって、過酷な化学環境下でも一貫した性能を発揮する本装置は、研究の基盤となります。

主な特徴

  • 独立制御可能な3ゾーン加熱: 3つの独立した加熱ゾーンを備えており、個別にプログラム可能です。これにより、精密な温度勾配や最大25インチ(約635mm)に及ぶ非常に長い等温ゾーンを作成でき、大型サンプルや複数のサンプルの均一な熱処理を保証します。
  • 統合型3チャンネルガス混合: モバイルガス供給カートには、3つのコンパクトな直読式流量計と4つの圧力計が含まれており、複雑なCVDや反応性雰囲気プロセス向けに、最大3種類の異なるガスの同時モニタリングと精密な混合が可能です。
  • 耐食性真空モニタリング: セラミックコーティングされたセンサーヘッドを備えたピラニ容量隔膜真空計を搭載しており、腐食性ガスが存在する場合でも正確な真空測定が可能で、モニタリングハードウェアの寿命を大幅に延ばします。
  • 高度なPID自動制御: 3つの精密温度コントローラーは、30セグメントのプログラムが可能なPID自動制御を利用しており、加熱速度、冷却速度、保持時間を±1℃の精度で細かく管理できます。
  • 高純度石英反応環境: 直径80mmの溶融石英管は、優れた耐熱衝撃性と化学的不活性を備えており、高純度材料合成の完全性を維持するために不可欠な、汚染のない反応チャンバーとして機能します。
  • 分割型チャンバー設計: 炉殻は分割可能なカバー構造を採用しており、処理後の急速冷却が容易なほか、加熱アセンブリ全体を分解することなく反応管の取り付けや交換が可能です。
  • 包括的な安全機能: 過熱アラーム、熱電対断線検知、過熱遮断などの保護メカニズムを内蔵しており、長時間保持の熱サイクル中でも無人での安全な運転が可能です。
  • 堅牢な真空性能: 付属の120 L/minロータリーベーン真空ポンプとステンレス製真空フランジおよびバルブにより、10^-2 torrまでの真空度を24時間安定して維持できます。

用途

用途 説明 主な利点
CVD研究 炭化水素前駆体を用いたカーボンナノチューブ(CNT)およびグラフェンの合成。 正確なガス比と熱均一性により、一貫した結晶形態を確保。
半導体ドーピング 高温下でのシリコンまたは化合物半導体ウェハへのドーパント拡散。 独立したゾーン制御により、蒸気圧と拡散深さを制御可能。
腐食性蒸気合成 リンや硫黄蒸気を用いたCoP/MoS2などの材料合成。 耐食性ゲージと不活性石英管が反応中の化学的浸食に耐える。
雰囲気アニール 不活性窒素またはアルゴン中での応力緩和および結晶構造の精製。 3ゾーン制御が熱衝撃を防ぎ、均一な粒成長を保証。
薄膜堆積 金属またはセラミック基板上への機能性コーティングの気相堆積。 ガス圧と流量のリアルタイムモニタリングにより膜厚制御を保証。
ナノワイヤ成長 特殊基板上での無機ナノワイヤのVLS(気相-液相-固相)成長。 広範囲な等温ゾーンが、高収率バッチのための同一成長条件を提供。
電池材料R&D 制御された酸素濃度下での正極および負極前駆体の熱処理。 オプションの酸素センサー統合により、処理中の不要な酸化を防止。

技術仕様

仕様項目 TU-43のパラメータ詳細
モデル番号 TU-43
炉の構造 空冷式二重層スチールケーシング、高純度アルミナファイバー断熱材
消費電力 5 KW
入力電圧 AC 208-240V 単相、50または60 Hz
最高温度 1200ºC
連続動作温度 1100ºC
最大昇温速度 ≤ 20 ºC /min
加熱ゾーン構成 3ゾーン(合計880mm / 35インチ); ゾーン1: 220mm; ゾーン2: 440mm; ゾーン3: 220mm
恒温ゾーン(3ゾーン連結) 625 mm(25インチ)、±1ºCの偏差
恒温ゾーン(中央のみ) 110 mm(4.3インチ)、±1ºCの偏差
温度精度 ±1ºC
発熱体 Mo添加Fe-Cr-Al合金
温度コントローラー PIDコントローラー×3; 30セグメントプログラム可能; RS485通信ポート
石英管寸法 外径80mm x 内径72mm x 長さ1400mm
真空計タイプ 耐食性容量隔膜真空計(セラミックコーティング)
真空測定範囲 10^-5 ~ 1000 torr
真空ポンプ能力 120 L/min ロータリーベーン真空ポンプ
真空度(メカニカルポンプ) 10^-2 torr(最低圧力5.5 m-torr)
真空リーク率 < 5 m-torr / min; 24時間後の安定真空度 < 2 torr
ガス流量計1 コンパクト直読式: 10 - 100 cc/min
ガス流量計2 コンパクト直読式: 16 - 160 cc/min
ガス流量計3 コンパクト直読式: 25 - 250 cc/min
ガス供給システム 圧力計4個およびステンレス製混合バルブ4個付きモバイルカート
規格準拠 CE認証(ご要望に応じてUL / MET / CSA対応可能)

本システムを選ぶ理由

  • 比類なき熱の多様性: 独立した3ゾーン制御により、研究者は複雑な産業用熱プロファイルをシミュレートしたり、標準的な単一ゾーン炉よりもはるかに優れた温度均一性を維持したりできます。
  • 即時運用可能な統合型: 広範な組み立てが必要なモジュール式セットアップとは異なり、本システムはガス混合ステーション、真空ポンプ、高安定フランジを含む完全なテスト済みパッケージとして納品されるため、立ち上げ時間を劇的に短縮します。
  • 優れた材料の完全性: 高純度石英反応チャンバーと特殊な耐食性真空センサーを使用することで、実験サンプルと装置ハードウェアの両方を、反応性化学蒸気による劣化から保護します。
  • 精度と再現性: 高度なPIDコントローラーとNIST校正された温度プロファイルの組み合わせにより、すべての熱サイクルが極めて高い精度で実行されます。これは査読付き研究や産業用品質管理において重要な要素です。
  • 将来を見据えた拡張性: LabViewによるPC制御、スライド式サンプルホルダー、酸素モニタリング統合などのオプションにより、プロジェクトの複雑化に合わせてユニットをアップグレードし、進化する研究要件に対応可能です。

当社のエンジニアリングチームが、お客様のプロセス要件の技術的検証をサポートいたします。詳細な見積もりや、材料科学のニーズに合わせたカスタマイズ構成については、今すぐお問い合わせください。

この製品に関するよくある質問をもっと見る

引用を要求

弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい!

関連製品

24インチ加熱長・ヒンジ式フランジ石英管システム搭載 3ゾーンチューブ炉

24インチ加熱長・ヒンジ式フランジ石英管システム搭載 3ゾーンチューブ炉

このプロ仕様の3ゾーンチューブ炉は、24インチの加熱長と、効率的なサンプル投入を可能にするヒンジ式フランジを備えています。1200°Cまでの処理に最適化されており、高度な産業材料研究のために精密な温度均一性と真空互換性を提供します。

材料研究および工業用熱処理用 1700℃高温3ゾーン管状炉(アルミナ管 外径50mm 60mm 80mm)

材料研究および工業用熱処理用 1700℃高温3ゾーン管状炉(アルミナ管 外径50mm 60mm 80mm)

この高性能1700℃ 3ゾーン管状炉は、精密アルミナ管と独立した加熱制御を特徴としています。高度な材料研究向けに設計されており、化学気相成長(CVD)や複雑な雰囲気制御下の工業用熱処理プロセスにおいて、優れた温度均一性と安定性を提供します。

大型ウェーハ処理用 8.5~11インチ外径石英管および真空フランジ付き 1100°C 3ゾーン管状炉

大型ウェーハ処理用 8.5~11インチ外径石英管および真空フランジ付き 1100°C 3ゾーン管状炉

8.5~11インチの大型石英管と密閉フランジを備えた、精密な1100°C 3ゾーン管状炉です。優れた熱均一性と高真空対応により、産業用R&Dプロジェクトや大規模なウェーハ処理、先端材料研究に最適です。

先端材料科学の焼結および化学気相成長(CVD)アプリケーション向け高温三温度帯チューブ炉

先端材料科学の焼結および化学気相成長(CVD)アプリケーション向け高温三温度帯チューブ炉

最高温度1700℃、独立PID制御を備えたこの精密三ゾーンチューブ炉で熱処理を最適化。CVD、真空焼鈍、材料焼結に最適な優れた均一性を実現し、先端研究・産業用R&Dラボラトリーや大規模製造施設に理想的な装置です。

1700℃ 高温3ゾーン管状炉(アルミナ管・水冷フランジ付)

1700℃ 高温3ゾーン管状炉(アルミナ管・水冷フランジ付)

この高度な高温3ゾーン管状炉は、精密な1700℃の熱処理と雰囲気制御を実現します。半導体研究、先端冶金、セラミックス焼結に最適で、独立したPID温度コントローラーにより優れた均熱性を提供します。

真空フランジ付き 三温度ゾーン分割型チューブ炉 36インチ加熱長 高温1200℃ 材料研究用炉

真空フランジ付き 三温度ゾーン分割型チューブ炉 36インチ加熱長 高温1200℃ 材料研究用炉

1200℃の高温処理向けに精密設計された三温度ゾーン分割型チューブ炉です。材料科学の研究開発における雰囲気制御および真空用途のための高度なPID制御を備え、卓越した熱均一性と信頼性の高い性能を産業用ラボ環境および研究機関に提供します。

高温3ゾーン分割型チューブ炉 最高1200℃ 加熱長35.4インチ 内径8インチチューブ

高温3ゾーン分割型チューブ炉 最高1200℃ 加熱長35.4インチ 内径8インチチューブ

この高性能な3ゾーン分割型チューブ炉は、35.4インチの加熱ゾーンと8インチ径のチューブを備え、高度な熱処理を実現します。独立したゾーン管理により、真空またはガス雰囲気下で最高1200℃の温度と優れた均熱性を達成します。

高温材料合成用、オプションの石英管および真空フランジシステム付き 24インチ 3ゾーン分割式チューブ炉

高温材料合成用、オプションの石英管および真空フランジシステム付き 24インチ 3ゾーン分割式チューブ炉

独立した温度制御、石英管対応、真空シールフランジを備えたこの高級24インチ3ゾーン分割式チューブ炉で、材料研究を加速します。1200°Cまでの精密な熱処理を実現し、要求の厳しい実験室および産業R&D用途に対応します。

1200°C対応 3ゾーン管状炉 最大外径6インチ(チューブ・フランジ付き)

1200°C対応 3ゾーン管状炉 最大外径6インチ(チューブ・フランジ付き)

外径6インチの処理能力と高度なタッチスクリーン制御を備えた、この1200°C対応3ゾーン管状炉で熱処理プロセスを最適化します。この高精度システムは、先端材料研究、半導体アニール、工業用熱処理用途において均一な温度分布を保証します。

高温1500℃ 3ゾーン分割型チューブ炉(80mmアルミナ管・真空フランジ付)

高温1500℃ 3ゾーン分割型チューブ炉(80mmアルミナ管・真空フランジ付)

この設計された1500℃ 3ゾーン分割型チューブ炉は、80mmアルミナ管と精密なPID制御を備えています。高度な材料研究、CVDプロセス、および優れた温度均一性と高真空安定性を必要とする工業用熱処理に最適です。

三ゾーン加熱 分割式縦型チューブ炉 1700 高温真空雰囲気熱処理システム

三ゾーン加熱 分割式縦型チューブ炉 1700 高温真空雰囲気熱処理システム

産業研究開発および材料科学用途向けの先進的な1700°C三ゾーン加熱分割式縦型チューブ炉。独立した熱制御、高真空機能、そしてエネルギー効率の高い断熱により、安定した高温処理と迅速な試料急冷結果を実現する高精度システムです。

1200°C 3ゾーン分割式管状炉(加熱長18インチ、真空フランジ付き)

1200°C 3ゾーン分割式管状炉(加熱長18インチ、真空フランジ付き)

この1200°C 3ゾーン分割式管状炉で熱処理プロセスを最適化しましょう。18インチの加熱長と精密なPID制御を備え、高度な材料研究、アニーリング、焼結、および世界中の研究施設における専門的な産業R&Dアプリケーションに優れた温度均一性を提供します。

82mm超合金管とデュアル水素検知器を搭載した3ゾーン水素ガスチューブ炉 1200℃高温材料加工システム

82mm超合金管とデュアル水素検知器を搭載した3ゾーン水素ガスチューブ炉 1200℃高温材料加工システム

ニッケル基超合金管と統合安全検知器を備えたこの高度な3ゾーン水素ガスチューブ炉で、高温材料研究を最適化し、要求の厳しい産業・研究開発用途での安全な1200℃加工を実現し、最大限の信頼性と性能を確保します

研究用 1200℃ 高温分割型チューブ炉(ヒンジ式真空フランジ・4インチ石英管付)

研究用 1200℃ 高温分割型チューブ炉(ヒンジ式真空フランジ・4インチ石英管付)

この1200℃分割型チューブ炉は、ヒンジ式真空フランジと4インチ石英管を備え、サンプルのセットアップを簡素化します。精密な熱処理のために設計されており、先端材料科学や産業用R&D用途において、優れた温度均一性と真空性能を提供します。

真空フランジ付き3ゾーンアルミナチューブ炉 高温1700℃ 熱勾配CVDシステム

真空フランジ付き3ゾーンアルミナチューブ炉 高温1700℃ 熱勾配CVDシステム

この先進的な3ゾーンアルミナチューブ炉は、1700°Cのピーク温度と高精度な真空制御を提供します。材料科学研究開発向けに設計され、要求の厳しい実験用途に対して、優れた信頼性、安定性、高純度雰囲気管理を備えた複雑な熱勾配およびCVDプロセスを実現します。

研究室材料研究および高度な産業用熱処理向け 1100℃ マルチポジション管状炉

研究室材料研究および高度な産業用熱処理向け 1100℃ マルチポジション管状炉

このマルチポジション管状炉は、垂直および水平方向の柔軟な設置が可能で、1100℃の精密加熱を実現します。先端材料研究向けに設計されており、30セグメントPIDコントローラーと高純度繊維断熱材を採用することで、優れた熱安定性と信頼性の高い産業用研究室性能を提供します。

11インチまたは15インチ石英管とヒンジ式フランジを装備した真空雰囲気熱処理用3ゾーンチューブ炉

11インチまたは15インチ石英管とヒンジ式フランジを装備した真空雰囲気熱処理用3ゾーンチューブ炉

本3ゾーンチューブ炉は11インチまたは15インチの石英管を備え、精密な真空制御下での大規模ウェハアニーリングや材料合成に優れた熱均一性を実現します。産業研究所の安全性のため電動式リッド操作に対応しています。

3ゾーン高速加熱炉 1500℃ ラボ用高精度熱処理システム

3ゾーン高速加熱炉 1500℃ ラボ用高精度熱処理システム

材料科学の研究開発向けに1500℃の性能を実現する、精密設計の3ゾーン高速加熱炉です。高度な炭化ケイ素ロッドとコンピュータ接続機能を備え、産業用ラボにおいて均一な熱処理と長期的な運用安定性を保証します。

1100°C 高温石英チャンバー炉 8インチ外径 7.6リットル容量 真空雰囲気対応

1100°C 高温石英チャンバー炉 8インチ外径 7.6リットル容量 真空雰囲気対応

外径8インチ、容量7.6リットルの1100°C石英チャンバー炉で、研究室の能力を向上させましょう。真空および制御雰囲気環境向けに設計されたこのシステムは、先端材料研究や半導体製造のための精密な熱処理を提供します。

1200C 三ゾーン分割式縦型チューブ炉 4インチ石英管 ステンレス鋼真空フランジ

1200C 三ゾーン分割式縦型チューブ炉 4インチ石英管 ステンレス鋼真空フランジ

この1200C三ゾーン分割式縦型チューブ炉は、高精度な熱処理のための4インチ石英管とステンレス鋼真空フランジを備えています。材料の急冷や合成に最適で、この堅牢なシステムは均一加熱と迅速な試料投入アクセスを実現します。

関連記事