5インチ3ゾーン回転式管状炉（統合ガス供給システム搭載、1200℃対応、先端材料CVDプロセス向け）

製品概要

この高性能回転式熱処理システムは、優れた熱均一性と精密な雰囲気制御を必要とする先端材料科学用途向けに設計されています。研究室規模の研究と工業生産の重要な架け橋として設計されており、制御された条件下での高純度粉末の合成とコーティングを容易にします。独自の回転設計とマルチゾーン加熱アーキテクチャにより、前駆体材料のすべての粒子が同一の熱的および化学的環境にさらされるため、次世代電池材料、触媒、特殊セラミックスの開発に不可欠なツールとなっています。

本システムは、材料の均質性が極めて重要な化学気相成長（CVD）および各種熱処理プロセスに最適化されています。チルト機構と回転式溶融石英管を組み合わせることで、ワークロードの連続的な移動を促進し、凝集を防ぎ、一貫した表面改質を実現します。この装置は特にアノードおよびカソード粉末の処理に効果的で、研究者は実験結果の再現性を高く確信しながらスケールアップを行うことができます。洗練されたガス供給システムの統合により、複雑な気相反応への対応能力がさらに強化されています。

信頼性は、この熱処理ユニットの設計の中心です。高温動作中に外装ケースの温度を低く保つための冷却ファンを内蔵した堅牢な二重シェル構造を採用しています。高純度アルミナ繊維断熱材から精密DCギアモーターに至るまで、すべてのコンポーネントは、過酷な産業用R&Dサイクルに耐えうる耐久性を考慮して選定されています。国際的な安全基準への準拠により、世界中の厳格な研究環境ですぐに導入でき、繊細な材料処理のための安定した安全なプラットフォームを提供します。

主な特長

• 精密マルチゾーン熱アーキテクチャ： 全長600mmにわたる3つの独立制御加熱ゾーンを採用。この構成により、精密な温度勾配の作成や、450mmの広範囲な定温ゾーンの形成が可能となり、極めて繊細な材料合成に対して±1℃の熱精度を実現します。
• ダイナミックな回転・チルト機構： 可変速DCギアモーター（0-10 RPM）と電動チルト機能（最大30°）を装備し、最適な材料攪拌とスループット制御を確保します。この動的な動きは、CVDや焼成プロセス中に個々の粉末粒子に均一なコーティングを施すために不可欠です。
• 統合型4チャンネルガス供給： デジタルタッチスクリーンインターフェースを備えた洗練されたガス混合・供給システムにより、最大4種類の異なる前駆体または不活性ガスを精密に制御できます。これにより、単一の処理サイクル内で複雑な雰囲気制御や多段階の化学反応が可能になります。
• 優れた断熱性能： 炉内チャンバーには高純度アルミナ繊維断熱材がライニングされており、最大のエネルギー効率と急速加熱を実現しつつ、熱損失を最小限に抑えます。この技術グレードの断熱材により、最大1200℃までの温度で長期的な構造的完全性と一貫した性能が保証されます。
• 高度な真空および汚染管理： 高性能排気フィルターとコールドトラップを備えたヘビーデューティメカニカル真空ポンプがシステムに含まれています。この構成により、真空ハードウェアをCVD副生成物から保護し、プロセス汚染を防ぎ、チャンバー圧力を10-2 torrまで維持します。
• 工業グレードの制御システム： 3つのプログラム可能なPIDコントローラーが各ゾーンの熱プロファイルを独立して管理します。データ管理を強化するため、タッチスクリーン制御やLabVIEWベースのソフトウェアにアップグレードして熱データを記録・プロットすることができ、R&D文書の完全なトレーサビリティを確保します。
• 安全第一の設計： 炉は二重シェルケーシングと冷却ファンで構成されており、オペレーターの安全を確保します。すべての電気コンポーネントはULまたはMet認証を受けており、システム設計には急速冷却と処理管への容易なアクセスのための分割カバーが組み込まれています。
• 多用途な管構成： 表面積の露出を最大化するために4つの内部混合ブレードを備えた130mm外径の溶融石英管が含まれています。ニードルバルブと回転式ガス接続部を備えたステンレス鋼製シールフランジにより、高真空または制御雰囲気用途向けの気密シールを提供します。

用途

技術仕様

TU-X11を選ぶ理由

• 生産へのスケーラブルな道筋： 本装置は費用対効果の高い中間ステップとして特別に設計されており、研究者は小規模な実験室サンプルから最大2kgの生産規模のバッチまで、材料プロセスを円滑に移行できます。
• 比類のない熱均一性： 静的な管状炉とは異なり、3ゾーン加熱と連続回転を組み合わせることで、材料ベッド内の温度勾配を排除し、すべての粒子が同一の熱処理を受けることを保証します。
• ターンキーCVDソリューション： 4チャンネルガス供給システム、真空ポンプ、コールドトラップを単一のパッケージに統合することで、追加のサードパーティ製コンポーネントを必要とせず、洗練された化学気相成長のための包括的な環境を提供します。
• 優れた材料の完全性： 高純度石英と高効率アルミナ断熱材の使用により、処理環境が金属汚染から解放され、繊細な電子材料や電池材料の完全性が保護されます。
• 実証済みの信頼性とサポート： 産業用R&Dの過酷な環境に耐えるように構築されており、包括的な保証と、長期的な運用の一貫性を維持するための専門的な技術サポートチームによって支えられています。

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