Twelve Zone 1700°C マルチゾーン分割式チューブ炉 100mmアルミナ加工チューブ付き 独立温度勾配制御

管状炉

Twelve Zone 1700°C マルチゾーン分割式チューブ炉 100mmアルミナ加工チューブ付き 独立温度勾配制御

商品番号: TU-82

最高温度: 1700°C 加熱ゾーン: 12 独立PID制御ゾーン チューブ寸法: Ø100 mm x 1800 mm アルミナ
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製品概要

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本高性能マルチゾーン熱処理システムは、高温材料研究および産業研究開発における精密工学の頂点を体現しています。単一の高純度アルミナプロセスチューブに沿って12の独立制御可能な加熱ゾーンを統合することで、研究者や産業技術者は全長1400mmの加熱長全体にわたって、非常に特異的で再現性の高い温度勾配を設定することができます。この機能は、温度の均一性または非線形熱勾配が実験の成功に不可欠である複雑な反応動力学のシミュレーション、結晶成長、さまざまな相転移プロセスのシミュレーションにおいて極めて重要です。

要求の厳しい実験室およびパイロットスケール環境での汎用性を考慮して設計された本システムは、分割ヒンジ式炉体を採用しており、チューブの交換を迅速化し、サンプルの装填を容易にし、複雑な内部監視機器の統合を可能にしています。本装置は1700°Cに達する極限温度での連続運転に耐えるよう設計されており、半導体、先進セラミックス、航空宇宙製造を含む多くのハイテク分野における化学気相成長(CVD)、焼結、焼鈍のための安定したプラットフォームを提供します。この構成により、複雑な熱プロファイルを長時間にわたって高い精度で維持することができます。

頑丈な二重壁軟鋼構造と一体型強制空冷ファンにより、本炉は一貫した熱性能を確保しつつ、安全な外部表面温度を維持します。信頼性、熱安定性、作業者の安全性に重点を置くことで、結果の完全性を損なうことなく高度な実験を実施する自信をユーザーに提供します。本装置は、精密な熱操作と産業グレードの信頼性を通じて材料科学の限界を押し広げることに専念する施設にとって、基幹的なツールです。

主な特長

  • 12の独立加熱ゾーン:本システムは12の独立した加熱ゾーンで設計されており、それぞれが専用のPIDコントローラーで管理されるため、1400mmのスパン全体にわたって複雑な温度勾配と高度にカスタマイズされた熱プロファイルを作成することができます。
  • ハイブリッド発熱体構造:外側ゾーンに炭化ケイ素(SiC)、中央の高熱部に二ケイ化モリブデン(MoSi2)を戦略的に組み合わせて使用することで、1700°Cまでの急速な昇温速度と卓越した安定性を実現しています。
  • 分割チャンバーの人間工学:縦型分割ヒンジ設計により、炉を簡単に開くことができ、完全に分解する必要なく、プロセスチューブへのすぐのアクセスが可能で、清掃、設定調整、急速冷却を行えます。
  • 高精度PID制御:12台の個別50セグメントプログラマブルコントローラーが±1°Cの制御精度と0.3°Cの分解能を提供し、最も繊細な熱プロセスであっても厳しい公差内に維持することを保証します。
  • 高純度アルミナ加工チューブ:Ø100 mm × 1800 mmのアルミナチューブは、極端な熱衝撃抵抗と化学的不活性を持つよう設計されており、高温下の高真空または制御雰囲気環境に適しています。
  • 先進水冷式真空フランジ:ステンレス鋼304製フランジには一体型水冷チャネルが搭載されており、高真空シールを熱劣化から保護し、3e-2 torrまでの信頼性の高い運転を可能にします。
  • 包括的な監視インターフェース:LabVIEWベースのソフトウェアと統合されたRS485シリアル通信により、単一のワークステーションから全12ゾーンのリモートデータロギング、リアルタイム監視、集中制御が可能です。
  • 二層構造の安全筐体:炉の筐体は高効率冷却ファンを備えた二層鋼製ケースを採用しており、1700°Cのピーク運転中であっても外面温度を70°C以下に維持します。
  • インテリジェントアラームおよびインターロックシステム:内蔵された安全機能には過熱保護と熱電対断線インターロックが含まれており、自動的に電源を遮断して装置やサンプルの損傷を防ぎます。
  • 多用途な雰囲気制御:KF25真空ポート、1/4インチガス入口、高精度圧力計を装備しており、本システムは不活性ガスパージから高真空サイクルまで、幅広いプロセス環境に対応します。

用途

用途 説明 主なメリット
化学気相成長(CVD) 勾配全体の気相輸送を精密に制御し、高純度薄膜およびナノチューブを成長させます。 優れた膜の均一性と制御された堆積速度。
単結晶成長 材料内に熱勾配を移動させることで、ブリッジマン法その他の類似技術を活用します。 欠陥が最小限の高品質な結晶構造。
反応動力学シミュレーション 反応器の長軸に沿った様々な温度段階で発生する化学反応をモデル化します。 産業プロセスのスケーリングおよびメカニズム研究のための正確なデータ。
先進セラミックス焼結 熱応力を防止するために特定の加熱・冷却速度を必要とするハイテクセラミックスを焼結します。 構造的完全性の向上と安定した材料密度。
半導体アニーリング ウェーハおよび基板を高温処理し、電気特性の改質または格子損傷の修復を行います。 ドーパント拡散と格子緩和の精密制御。
冶金および相研究 試料を特定の局所熱環境に曝すことで、合金の相変化を調査します。 状態図および変換動力学の詳細なマッピング。
航空宇宙部品試験 タービンまたは燃焼環境下の部品に生じる極端な熱勾配をシミュレートします。 模擬飛行条件下で実証された耐久性と信頼性。

技術仕様

カテゴリ パラメータ 仕様 (TU-82)
電源 動作電圧 480VAC 三相 50/60 Hz
最大電力 60 KVA
配線要件 直結用電源ケーブル付属
熱性能 最高温度 1700°C (MoSi2ゾーン); 1500°C (SiCゾーン)
加熱ゾーン長 全長 1400 mm
ゾーン構成 12 独立ゾーン
温度精度 ±1°C
温度分解能 0.3°C
発熱体 ゾーン1-5 および 11-12 炭化ケイ素 (SiC) 各100 mm
ゾーン6-8 二ケイ化モリブデン (MoSi2) 各100 mm
ゾーン9-10 二ケイ化モリブデン (MoSi2) 各200 mm
制御システム コントローラー種別 12台 PID プログラマブルコントローラー
プログラムセグメント コントローラーあたり50セグメント
通信 RS485 シリアルポート LabVIEWソフトウェア付き
安全インターロック 過熱および熱電対断線アラーム
加工チューブ 材質 高純度アルミナ
寸法 外径Ø100 mm × 内径Ø90 mm × 長さ1800 mm
最高温度 (大気中) 1700°C
最高温度 (真空中) 1450°C
真空・ガス フランジ材質 ステンレス鋼304 水冷式
真空度 < 3e-2 torr (適切なポンプ使用時)
圧力範囲 < 3 psig; -0.1~0.5 MPa ゲージ圧
ポート種別 KF25, 1/4インチチューブ, DN100CF/ISO100K
インフラ 冷却水 5 - 35°C, 10 L/min, 10 psi 必須
筐体構造 二重層軟鋼 ファン付き
物理的仕様 正味重量 660 kg
認証 認証 CE認証済み (NRTL/CSAは要請に応じて提供可能)

私たちを選ぶ理由

本12ゾーン熱システムを選ぶことで、あなたの研究室または生産施設は最高レベルの学術的および産業的厳格さのために設計されたツールを備えることになります。12ゾーンアーキテクチャの優れた設計は、温度勾配の操作において比類のない能力を提供し、これは単一または3ゾーン炉では到底対応できない、現代の材料科学に要求される機能です。本システムは精度を妥協しないユーザーのために作られており、再現性のあるデータと高収率な結果に直接つながる高度な制御を提供します。

高品位なMoSi2発熱体から水冷式ステンレス鋼フランジまで、すべてのコンポーネントに耐久性への弊社のこだわりが表れています。本システムは単なる炉ではなく、長期的な運用安定性のために設計された包括的な熱ソリューションです。強制空冷と先進インターロックシステムを統合することで、あなたの投資が保護され、最も要求の厳しい高温サイクル中であっても作業空間の安全性が維持されることを保証します。

さらに、分割炉設計とマルチポートフランジシステムが提供する柔軟性により、既存の真空システムまたはガス供給設備へのシームレスな統合が可能です。反応動力学の基礎研究を行う場合でも、次世代半導体材料の開発を行う場合でも、本装置は仮説から発見へと進むために必要な堅牢な性能を提供します。また、弊社のエンジニアリングチームは、お客様の特定のプロセス要件に合わせてシステムを調整するカスタマイズ機能を提供しており、迅速な技術サポートもバックアップしています。

高温勾配制御と産業的信頼性の基準を定義するシステムに投資してください。本日お問い合わせいただき、詳細な見積もりを受け取るか、あなたの特定の研究目標に合わせて調整されたカスタム構成についてご相談ください。

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