8ゾーン 1100℃ 高温分割式チューブ炉 4インチ外径石英チューブ タッチスクリーン制御パネル付き

管状炉

8ゾーン 1100℃ 高温分割式チューブ炉 4インチ外径石英チューブ タッチスクリーン制御パネル付き

商品番号: TU-51

最高温度: 1100 °C 加熱ゾーン: 8つの独立ゾーン 加熱長さ: 60インチ (1500 mm)
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製品概要

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本高性能分割式チューブ炉は、マルチゾーン熱処理技術の最高峰であり、8つの独立制御可能な加熱ゾーンを備え、現代材料科学の厳しい要求に応えます。非常に長い恒温帯または精密制御された温度勾配のいずれかを必要とする研究者や産業技術者向けに設計され、比類のない柔軟性を提供します。本システムは雰囲気制御環境と真空環境をシームレスに移行でき、複雑な熱処理プロトコルや化学気相成長(CVD)用途の基幹装置として機能します。

産業研究開発の厳しい要求に応えるために設計された本装置は、窒素ドープカーボンの構造規則化・黒鉛化や高純度触媒の合成といった先進プロセスに対応します。高耐久圧縮空気ばねで支持された分割式炉構造を採用することで、急速冷却と処理チューブへの容易なアクセスを実現し、忙しい研究環境でのダウンタイムを最小化しスループットを最大化します。高純度繊維状アルミナ断熱材を統合することで、内部チャンバーが最高動作温度に達しても、外部ケーシングは低温を保ち、作業者の安全を確保します。

本炉の設計の中心には信頼性があります。モリブデンドープの高品質Fe-Cr-Al合金発熱体を使用することで、連続高温運転下でも安定した熱出力と長期耐久性を実現します。半導体製造、航空宇宙材料試験、電池技術開発、先進セラミックスなど、精密性、再現性、堅牢性が必須とされる業界の実験装置基準に応えます。

主な特長

  • 8つの独立加熱ゾーン: 本炉は洗練された8ゾーンアーキテクチャを採用し、最大60インチ(1500mm)の合計恒温長さ、または+/-0.5℃以内の精度でカスタマイズされた段階的温度勾配の作成が可能です。
  • 直感的なタッチスクリーン制御: 集中型タッチスクリーンデジタルコントローラーが高度なPIDアルゴリズムにより全8チャンネルを独立して管理し、複雑な熱サイクル用に各30セグメントのプログラムを10種類保存可能です。
  • 精密発熱体: Moドープの高品質Fe-Cr-Al合金を搭載し、毎分10℃までの急速昇温レートと、過酷な熱環境での長寿命を実現するよう設計されています。
  • 人間工学に基づいた分割カバー設計: 分割可能な加熱チャンバーには2基の高耐久圧縮空気ばねが搭載されており、スムーズな開閉により、チューブ交換やサンプル検査を容易に行えます。
  • 先進的な断熱: 強制空冷と省エネルギー高純度繊維状アルミナ断熱を活用した二層鋼製ケースにより、最高運転時の外面温度を60℃以下に維持します。
  • 汎用的なチューブ対応性: 100mm外径(4インチ)石英チューブを標準装備したチャンバー設計は、直径1インチから4インチまでの多様な処理チューブに対応可能な柔軟性を持ち、多様なプロジェクト要求に適合します。
  • 真空・雰囲気運転対応: クイック組み立てクランプと気密封止を備えたステンレス製真空フランジ1組が付属し、真空(<1torr)または流動ガス環境下での運転に最適化されています。
  • 統合データ通信: 内蔵RS485通信ポートと専用ソフトウェアが標準搭載されており、PCによる遠隔モニタリング・運転が可能で、データの完全性とプロセスの自動化を実現します。
  • 堅牢な安全保護: 本システムは過熱保護と熱電対断線保護を内蔵しており、装置と処理される高価値材料の両方の安全を確保します。

用途

用途 説明 主な利点
窒素ドープカーボン合成 炭素材料の構造規則化および黒鉛化を促進するための高温処理(1100℃) 触媒の導電性とメタノール耐性を向上させます
勾配焼鈍 8つのゾーンを活用し、金属または合金試料の長手方向に特定の温度変化を生成 1回の実験で複数の温度範囲にわたる相変態の研究が可能になります
化学気相成長(CVD) 気相前駆体を反応させ基板上に薄膜を堆積させるための、安定した長い加熱ゾーンを提供 大ロット全体で均一な膜厚と高品質な結晶成長を保証します
全固体電池研究開発 精密な雰囲気条件下でのセラミック電解質および正極材料の制御焼結 優れたイオン伝導性に必要な高密度微細構造を実現します
結晶成長 実験室スケールでのブリッジマン法またはチョクラルスキー法による結晶成長のために、精密な温度勾配を維持 格子欠陥が少ない高純度単結晶の成長を促進します
航空宇宙用セラミックス 先進的なセラミック基複合材料の耐熱衝撃性および焼結特性の試験 極限で持続的な高熱応力下での材料性能を検証します

技術仕様

項目 TU-51の詳細仕様
モデル識別番号 TU-51
最高使用温度 1100 °C(流動ガス下)
連続使用温度 1000 °C(真空 < 1 torr 下)
昇温速度 ≤ 10 °C / 分
合計加熱ゾーン長 60インチ (1500 mm)
ゾーン構成 8独立ゾーン(左右:各200mm、中央6ゾーン:各150mm)
温度勾配精度 ゾーン調整により+/- 0.5℃以内
恒温ゾーン 8ゾーン同期時に60インチ (1500 mm)、+/- 5℃以内
処理チューブ材質 高純度石英
標準チューブ寸法 外径100 mm × 内径92 mm × 長さ2700 mm
対応可能チューブ範囲 外径1インチ ~ 4インチ
断熱 省エネルギー高純度繊維状アルミナ
発熱体 Moドープ Fe-Cr-Al合金
電源 AC 208-240V 単相、50/60 Hz
最大消費電力 9 KW(50Aブレーカー推奨)
温度コントローラー タッチスクリーンデジタルPID 10プログラム / 30セグメント
制御精度 +/- 1 ºC
熱電対種別 K型 ×8本(1ゾーンあたり1本)
真空接続 クイック組み立てステンレスフランジ 1/4インチNPT継手付き
筐体構造 二層鋼製 空冷付き(表面温度< 60 °C)
通信インターフェース RS485ポート(ソフトウェア付属)
認証 CE認証取得(NRTL/CSA 対応可能)
物理機構 分割式チューブ 圧縮空気ばね昇降支持付き

当社を選ぶ理由

  • 比類のない温度制御: 8つの独立加熱ゾーンを備えた本システムは、クラス最高の多用途温度プロファイリング機能を提供し、ハードウェアを変更することなく、長い等温ゾーンと複雑な勾配を切り替えて使用できます。
  • 高品質な設計と材料: Moドープ発熱体から空気ばね支持の分割チャンバーまで、すべてのコンポーネントは産業研究開発の過酷な使用に耐える性能を基準に選定されており、総所有コストの低減を実現します。
  • 優れたユーザーインターフェース: 統合型タッチスクリーンコントローラーは複雑なマルチゾーンプログラミングを簡素化し、重要な熱プロセス中のオペレーターエラーのリスクを低減し、研究室の生産性を向上させます。
  • 真空・雰囲気運転標準対応: 標準的な炉と異なり、本装置は高度なガス雰囲気制御のための装備が完備されており、触媒や窒素ドープカーボン構造などの現代材料の合成に最適です。
  • 認証された安全性と信頼性: CE認証を取得した設計と二重シェル冷却により、最高レベルのプロセス安定性を維持しながら、研究室の安全な環境を保証します。

本8ゾーン分割式チューブ炉は、次世代の材料開発に必要な精密性、スケール、柔軟性を提供します。正式な見積もり、またはお客様固有の熱処理ニーズに合わせたカスタマイズソリューションのご相談は、本日中に弊社テクニカルセールスチームまでお問い合わせください。

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