製品概要


この高性能縦型熱処理システムは、精密な雰囲気制御と急速な温度変化を必要とする先端材料科学研究および産業R&D用途向けに設計されています。5ゾーン加熱構成と分割ヒンジ式炉体を組み合わせることで、垂直急冷試験、ナノ粉末合成、化学気相成長に比類ない柔軟性を提供します。縦置き構造により、重力を利用した試料操作と効率的な対流管理が可能となり、高純度材料開発に取り組む研究室にとって不可欠な装置となります。
要求の厳しい実験環境向けに設計された本装置は、直径4インチの大型高純度石英管とステンレス鋼製真空フランジを備え、清浄で制御された反応環境を確保します。5つの独立した加熱ゾーンにより、長い均一熱場の形成や、複雑な温度勾配の生成が可能で、多段階化学反応や結晶成長プロセスの要件に合わせて最適化できます。この適応性により、ハードウェアの再構成を必要とせず、異なる実験プロトコル間をシームレスに切り替えることができます。
信頼性と安全性は、この炉の設計の中心です。二重構造の鋼製ボディとアクティブ空冷システムの組み合わせにより、長時間の高温運転中でも外装を安全に触れられる温度に保ちます。精密に設計された部品と国際安全規格への適合により、高度な研究環境で再現性の高い結果に必要な一貫性を提供します。産業グレードの発熱体と先進的な断熱材により、厳しい運転サイクル下でも熱効率と長期耐久性を確保します。
主な特長
- 5つの独立加熱ゾーン: 本炉は、各200mmの加熱ゾーンを5つ備え(総長1000mm)、それぞれが個別の熱電対とPIDループで制御されます。これにより、最大650mmの非常に長い一定温度領域、または複雑な多ゾーン化学反応のための精密な温度勾配を形成できます。
- 縦型分割ヒンジ設計: 分割式ボディ構成により、炉を固定したまま開放でき、迅速な冷却(急冷)を容易にし、装置全体を分解せずに試料の装填、清掃、石英管交換へ簡単にアクセスできます。
- 高純度石英反応管: 直径100mm(4インチ)の石英管を装備し、優れた耐薬品性と耐熱衝撃性を提供します。試料の目視観察や、最大1000℃での高真空運転が可能です。
- 高度なPID温度制御: MET認証コントローラーは、加熱速度、保持時間、冷却速度を精密に管理するための30プログラムセグメントを備えています。自動チューニング機能と過熱保護を統合し、無人運転時のプロセス安定性と装置安全性を確保します。
- 堅牢な真空シールシステム: ニードルバルブと真空計を一体化したステンレス鋼製真空フランジを2個付属しています。上部フランジには専用のフックリングが溶接されており、るつぼや試料を吊り下げる特殊な縦型熱処理に対応します。
- 強化された安全性と冷却: 二重層鋼製外装と空冷ファンにより外部温度を65℃未満に維持し、内部チャンバーが最大1200℃に達しても操作員を保護します。
- 拡張可能な通信インターフェース: RS485ポートを備え、遠隔データロギングやソフトウェア統合に対応可能です。研究者は熱データを記録・グラフ化し、包括的な記録管理と解析を行えます。
- 耐久性の高いFe-Cr-Al合金発熱体: 発熱体にはモリブデンを添加しており、高温下での耐酸化性と寿命を向上させ、数千時間の運転でも安定した性能を確保します。
用途
| 用途 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| 垂直急冷 | 縦型管構成を利用して、高温ゾーンから冷却媒体へ試料を迅速に落下させます。 | 優れた微細組織制御と相安定化。 |
| ナノ粉末合成 | 5ゾーンの均一性を活用し、前駆体材料を超微細粉末へ加工します。 | 均一な熱場による正確な粒子径分布。 |
| CVD / PECVD | 高温下で制御されたガス流を用いて薄膜やナノチューブを成長させます。 | 多ゾーン制御により、前駆体の気化と反応を最適化できます。 |
| セラミック焼結 | 制御された真空または不活性ガス中で、高度酸化物または窒化物セラミックスを熱処理します。 | 高純度環境により、敏感な材料の汚染を防ぎます。 |
| 大気圧アニーリング | 窒素またはアルゴンの流通下で金属合金や半導体を処理します。 | 正確な保持時間を維持しながら酸化を防止します。 |
| 結晶成長 | 5ゾーンにわたって温度勾配を形成し、方向性凝固を促進します。 | 高度に制御可能な成長速度と結晶品質の向上。 |
| 電池材料R&D | 真空封止環境下で、正極または負極活物質を熱処理します。 | ゾーンの一貫性が高く、スケーラブルな研究成果を実現。 |
技術仕様
| パラメータ | TU-C11の詳細 |
|---|---|
| 品番 | TU-C11 |
| 炉構造 | 空冷付き二重構造鋼製外装; ケース温度 < 65℃ |
| 定格出力 | 6 KW |
| 動作電圧 | AC 208-240V 単相、50/60 Hz |
| 最高温度 | 1200℃(継続時間 < 1時間) |
| 連続温度 | 1100℃ |
| 最大昇温速度 | ≤ 20℃/分 |
| 標準チューブ寸法 | 外径: 100mm; 内径: 94mm; 長さ: 1400mm |
| 標準チューブ材質 | 高純度溶融石英 |
| オプションチューブサイズ | 1インチ、2インチ、3インチ、80mm、および5インチ(同価格で提供) |
| 加熱ゾーン構成 | 5ゾーン、各200mm(総長1000mm) |
| 均温ゾーン | 全ゾーンを同一温度に設定した場合、長さ650mm(±1℃) |
| 温度コントローラー | MET認証; 30プログラムセグメント; PIDオートチューン; ±1℃精度 |
| 熱電対 | K型熱電対5本(各ゾーンに1本) |
| 真空シール | 真空計、ニードルバルブ、試料フック付きステンレス鋼フランジ2個 |
| ガス継手ポート | 標準1/4’’バーブ継手(Swagelok®およびKF25はオプション) |
| 真空到達性能 | 0.1 torr(メカニカルポンプ); 分子ポンプとKF25使用で最大10-4 torr |
| 発熱体材質 | Mo添加Fe-Cr-Al合金 |
| データインターフェース | RS485通信ポート(ノートPC/ソフトウェアはオプション) |
| 通信ソフトウェア | Labviewベース温度制御システム(MTS01)- オプション |
| 適合規格 | CE認証; 電気部品(>24V)はUL/MET/CSA認証 |
| 寸法(標準) | 実験室ワークステーション向けの縦型設置に最適化 |
TU-C11を選ぶ理由
- 卓越した熱精度: 5つの独立PID制御ゾーンにより、総加熱長1000mmと大きな650mm均一ゾーンを提供し、最も繊細な材料合成に必要なプロセス安定性を実現します。
- 多用途な運転モード: 高真空環境、不活性ガス流通、迅速な垂直急冷のいずれが必要でも、この装置の柔軟な設計は追加のハードウェア投資なしに特定の実験ニーズへ適応します。
- 産業グレードの安全適合性: 重要な電気部品はすべてUL、MET、またはCSA認証を取得しており、システム全体もCEマークを取得しています。これにより、調達担当者や安全管理者は組織導入に必要な安心感を得られます。
- 高品質な設計とサポート: 高級鋼材と先進的なモリブデン添加発熱体で構成され、長寿命を実現します。技術チームは、KF25高真空アダプターや特殊デジタルゲージなどのオプションを含むカスタマイズに対して、包括的なサポートを提供します。
- 将来を見据えた拡張性: RS485ポートの搭載とLabviewベースのソフトウェア互換性により、スタンドアロン炉をデータ駆動型研究ステーションへと変革できます。
お客様の真空および熱処理要件に合わせた技術相談や正式なお見積りについては、今すぐTHERMUNITSまでお問い合わせください。
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい!
関連製品
急速熱処理用1200℃石英管・ステンレス鋼真空フランジ付き分割型垂直管状炉
この1200°C対応分割型垂直管状炉は、5インチ石英管と精密PID制御を備え、急速焼入れ、真空処理、高度な材料合成を実現し、要求の高い産業研究環境における研究効率を最大化します。
タッチスクリーンコントローラーと複数の石英管オプションを備えた5ゾーン1200℃高温分割式チューブ炉
精密な熱勾配と雰囲気制御のために設計された高性能5ゾーン1200℃チューブ炉です。本システムは、直感的なタッチスクリーンプログラミングと真空シール機能を備え、精密焼結、アニーリング、材料合成の各ワークフローにおいて安定した結果を実現します。
急速熱焼入れおよび制御雰囲気下での材料処理用 ステンレス製真空フランジ付きコンパクト縦型分割式石英管炉
高精度研究用に設計されたこのコンパクトな縦型分割式石英管炉は、最大1100°Cまでの急速加熱を実現します。ステンレス製真空フランジと30セグメントのプログラム制御を備えており、材料科学や工業的な焼入れ用途に不可欠なツールです。信頼性の高い性能を提供します。
1100°C 分割型縦型チューブ炉(80mm石英管およびステンレス製真空フランジ付き)
この高性能な1100°C分割型縦型チューブ炉は、80mm石英管、ステンレス製真空フランジ、および精密な30セグメントPID制御を備えています。材料研究開発、急速冷却、および専門的な産業研究所での雰囲気制御熱処理のために設計されています。
1200°C 5インチ垂直型石英管状炉(ステンレス製真空フランジ付き)
5インチ径のチャンバーとステンレス製真空フランジを備えた高性能1200°C垂直型石英管状炉。30セグメントの精密PID制御により、材料科学の研究開発、CVD、および制御雰囲気下での特殊な焼入れ用途において正確な熱処理を実現します。
1500C 5ゾーン分割型チューブ炉(84mmムライト管および真空フランジ付き)
この1500C高性能5ゾーン分割型チューブ炉は、外径84mmのムライト管と、精密な温度勾配処理のための独立したPID制御を備えています。先端材料科学、相転移、および特殊な再結晶化の研究に最適です。
マルチゾーンアニールおよび材料研究用 3インチ石英管付き 高スループット1200℃ 4チャンネル管状炉
各3インチ石英管を個別に制御可能な、当社の先進的な1200℃ 4チャンネル管状炉で材料研究を加速させます。この高スループットシステムは、産業および学術研究開発ラボにおけるアニールや状態図研究に比類のない効率性を提供します。
12ゾーン超長尺分割型チューブ炉(20フィート石英管、最高温度1100℃)
この高精度な12ゾーン分割型チューブ炉は、6メートルの加熱長と最高温度1100℃を実現し、長尺サンプルの処理に最適です。独立したPID制御と真空対応フランジを備え、先端材料科学や研究開発用途において卓越した均熱性を提供します。
6ゾーン分割型チューブ炉 1.8メートル石英管 1200℃高温加熱システム
この6ゾーン高温分割型チューブ炉は、柔軟な温度勾配と1.8メートルの加熱ゾーンを提供します。最高温度1200℃の真空対応システムであり、6つのPIDコントローラーを搭載。高度な材料研究や産業用熱処理アプリケーションに最適です。
最高使用温度1200℃・大口径石英管採用 7ゾーン分割型チューブ炉
この高性能な7ゾーン分割型チューブ炉は、82.6インチの広大な加熱長と8インチの石英管を備えています。精密な材料研究のために設計されており、優れた温度均一性と高度な雰囲気制御を実現し、産業用R&Dや要求の厳しい製造用途に最適です。
1100°C デュアルゾーン分割型縦型チューブ炉(4インチ石英管および真空シールフランジ付き)
この1100°Cデュアルゾーン分割型縦型チューブ炉は、4インチの石英管と真空シールフランジを備えています。CVDおよびPVD用途向けに設計されたこの高精度システムは、研究開発において卓越した熱均一性を実現します。
1200°C 10ゾーン分割型チューブ炉(水平・垂直設置対応、マルチゾーン熱勾配および大口径材料処理用)
10個の独立した加熱ゾーンによる比類のない熱勾配制御と、水平・垂直設置が可能な柔軟性を備えた、先進の1200°C 10ゾーン分割型チューブ炉システム。精密な産業シミュレーション、材料合成、高性能な研究開発(R&D)熱処理用途向けに設計されており、卓越した信頼性を誇ります。
80mmアルミナ管採用 垂直型1700℃真空・雰囲気制御チューブ炉
この高精度垂直型チューブ炉は、材料合成のために最高1700℃までの卓越した熱均一性を実現します。80mmのアルミナ管と高度な真空シールフランジを備え、要求の厳しい産業用R&Dや特殊な熱処理プロセスに安定した雰囲気を提供します。
オプションの大型径石英管付き 1200°C 最大 4ゾーン分割チューブ炉
オプションの直径14インチチャンバーと高純度断熱材を備えた、この1200°C 4ゾーン分割チューブ炉で材料研究を加速します。広い加熱ゾーン全体で高精度な温度均一性を実現し、大規模焼結、アニーリング、先進的な工業用気相成長プロセスに最適です。
1200℃ デュアルゾーン分割型チューブ炉(溶融石英管および真空フランジ付き、60mm/80mm/100mm径から選択可能)
独立した温度制御により精密な温度勾配を実現する、1200℃デュアルゾーン分割型チューブ炉で材料研究を加速させます。溶融石英管と真空シールフランジを備え、高度なCVDやナノ材料合成に最適なソリューションです。
11インチまたは15インチ石英管とヒンジ式フランジを装備した真空雰囲気熱処理用3ゾーンチューブ炉
本3ゾーンチューブ炉は11インチまたは15インチの石英管を備え、精密な真空制御下での大規模ウェハアニーリングや材料合成に優れた熱均一性を実現します。産業研究所の安全性のため電動式リッド操作に対応しています。
高温1700℃ 6ゾーン分割型チューブ炉(アルミナチューブ、⽔冷フランジ付き)
材料研究および産業用蒸着用途向けに設計された高精度1700℃六ゾーン分割型チューブ炉です。この多用途システムは、独立した温度ゾーン制御と真空対応フランジを備え、一貫した熱処理と高度な材料開発要件に対応し、最大限の性能を実現します。
精密温度コントローラーおよびクイックフランジ真空システム付き 7ゾーン 1200℃ 分割型チューブ炉
材料研究用に設計されたプロ仕様の7ゾーン1200℃分割型チューブ炉。5インチ石英チューブ、精密PID制御、真空または制御雰囲気下での迅速な熱処理を可能にするクイックフランジを備えています。高性能な研究開発用熱処理ソリューションです。
タッチスクリーン制御・高純度石英管・真空シールフランジ付き 1200℃ 4ゾーン分割型チューブ炉
高度なタッチスクリーンコントローラー、高純度石英管、柔軟な真空シールフランジを備えたこの1200℃ 4ゾーン分割型チューブ炉で、材料科学研究を強化しましょう。産業用途全体で精密な温度勾配制御と一貫した高温処理を実現します。
高温材料合成用、オプションの石英管および真空フランジシステム付き 24インチ 3ゾーン分割式チューブ炉
独立した温度制御、石英管対応、真空シールフランジを備えたこの高級24インチ3ゾーン分割式チューブ炉で、材料研究を加速します。1200°Cまでの精密な熱処理を実現し、要求の厳しい実験室および産業R&D用途に対応します。