1200°C 高温 5インチ スプリット真空チューブ炉、12インチ加熱ゾーンおよび分離型PIDコントローラー付き

管状炉

1200°C 高温 5インチ スプリット真空チューブ炉、12インチ加熱ゾーンおよび分離型PIDコントローラー付き

商品番号: TU-22

最高温度: 1200°C 加熱ゾーンの長さ: 12インチ (300 mm) チューブ直径: 5インチ (130 mm)
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製品概要

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この高性能スプリットチューブ炉は、コンパクトで省エネルギーな熱処理技術の頂点を体現する製品です。精密性と汎用性を念頭に設計されており、最大使用温度は1200°Cで、材料科学研究室や産業R&Dセンターにとって不可欠な装置です。スプリットヒンジ設計により、急速冷却と試料の容易な出し入れが可能で、大口径石英チューブは直径4インチまでの基板に対応します。先進的な断熱材料と分離型制御モジュールを統合することで、厳しい環境下でも優れた熱安定性と長期的な運用信頼性を実現します。

現代の研究の厳しい要求に応えるよう設計されたこの装置は、アニーリング、焼結、化学気相成長(CVD)プロセスに広く使用されています。高真空または制御雰囲気下で動作できるため、研究者は2D材料の合成、半導体ウェハー処理、複雑な熱処理を柔軟に行えます。分離型コントローラー構成により、繊細な電子部品が炉本体の高熱から保護され、電子機器の寿命が大幅に延び、数千回にわたるサイクルでも一貫した性能を確保します。

信頼性はこのシステム設計の中核です。すべての電気部品はNRTL認証を取得しており、実験室用途の厳格な安全基準に適合しています。炉は二重鋼構造に、高純度Al2O3繊維断熱材と耐火セラミックコーティングを組み合わせ、熱損失を最小限に抑え、エネルギー節約を最大化します。この堅牢な構造により、外装は触れても熱くなりにくく、内部では精密な温度均一性を維持し、技術者や研究者に安全で生産的な作業環境を提供します。

主な特長

  • 高精度スプリットヒンジ設計: 炉本体はスプリット開閉機構を備え、試料への迅速なアクセスと冷却工程の短縮を可能にし、研究室のスループットと実験の柔軟性を大幅に向上させます。
  • 大口径石英処理チューブ: 5インチ(130mm)外径の高純度石英チューブを搭載し、熱均一性を損なうことなく、直径4インチまでの半導体ウェハーを含む大型基板の処理が可能です。
  • 分離型デジタル制御モジュール: 30ステップのプログラム可能なPIDコントローラーを別筐体に収め、重要な電子部品を炉の熱放射から隔離することで、最大限の精度と装置寿命を確保します。
  • 高効率繊維断熱材: 高純度Al2O3繊維断熱材に特殊なアルミナコーティングを施し、従来の耐火材と比べて優れた省エネ性能と長寿命を実現します。
  • 高度な真空密封システム: ステンレス鋼304製真空フランジを2個備え、二重の高温シリコーンOリングにより信頼性の高いシールを実現。標準機械式ポンプで10-2 Torrまでの真空レベルに対応します。
  • 統合された安全性と認証: 過熱保護および熱電対故障保護を内蔵し、すべての電気部品はNRTL認証を取得しているため、産業用および学術用ラボの最高水準の安全基準を満たします。
  • 柔軟なガス・真空管理: 標準KF25ポートと1/4インチバーブ継手により、真空ポンプやガス供給システムへシームレスに接続でき、静的雰囲気および流通雰囲気プロセスの両方をサポートします。
  • 優れた加熱素子: モリブデン添加のFe-Cr-Al合金ヒーター素子が1200°Cまで安定した加熱を提供し、高温サイクルを繰り返す用途に必要な耐久性を確保します。

用途

用途 説明 主な利点
半導体ウェハーアニーリング シリコンまたは化合物半導体ウェハーを高温処理して電気特性を調整します。 卓越した熱均一性で直径4インチまでのウェハーに対応。
2D材料合成 CVDまたは熱処理により、グラフェン、MoS2、その他の薄膜材料を合成します。 精密な流量制御と真空保持により高品質な膜成長を実現。
セラミックス焼結 真空または不活性ガス下でセラミック粉末成形体を緻密で高強度な部品へと焼結します。 スプリット設計により、壊れやすいグリーン体の装填が容易。
大気中での焼成 制御されたガス環境下で鉱物や化学物質を加熱し、揮発成分を除去します。 多用途なガス入出力により、精密な化学反応が可能。
真空脱ガス 特殊合金や複合材料に閉じ込められたガスを除去し、構造的健全性を向上させます。 高性能フランジがサイクル全体を通じて安定した真空レベルを維持。
電池材料研究 不活性雰囲気下で正極・負極材料を熱処理し、電気化学性能を最適化します。 均一な12インチ加熱ゾーンにより、一貫した材料特性を提供。
コーティング応力緩和 金属またはセラミック基材に施された特殊コーティングの内部応力を緩和します。 プログラム可能な冷却速度により、熱衝撃やコーティング剥離を防止。
触媒調製 特定のガス流条件下で触媒材料を熱活性化します。 分離型コントローラーにより、ラボのドラフトチャンバー内への安全な組み込みが可能。

技術仕様

項目 TU-22の仕様
最高使用温度 1200°C(1時間未満)
連続使用温度 1100°C
加熱ゾーン長さ 12インチ(300 mm)
一定温度ゾーン 100 mm(±1ºC)/ 140 mm(±2ºC)
チューブ材質・サイズ 高純度石英;外径5インチ × 内径4.7インチ × 長さ29.5インチ(130 x 120 x 750 mm)
加熱素子 Mo添加Fe-Cr-Al合金
最大昇温速度 ≤ 20°C/分
温度精度 ± 1°C
温度制御 SSR経由のPID 30ステッププログラム可能
炉構造 高純度Al2O3繊維断熱材を備えた二重層鋼構造
電力 / 電圧 3 KW / 220VAC 50/60Hz
真空レベル 10-2 Torr(機械式ポンプ使用時)
真空フランジ 二重シリコーンOリング付きステンレス鋼304;KF25ポート付属
圧力監視 標準機械式ゲージ(-0.1~0.15 Mpa)
継手 ガス入口用1/4インチバーブ継手;真空出口用KF25
認証 NRTL認証済み電気部品
オプションアップグレード PC制御モジュール、Eurothermコントローラー、デジタル真空計、水冷フランジ

TU-22を選ぶ理由

  • 比類ない熱精度: 30ステップのプログラム可能なPIDコントローラーと高品質なFe-Cr-Al合金加熱素子の組み合わせにより、実験の再現性が高く、±1°C以内の精度を実現します。
  • 高スループットに最適化: スプリット炉設計は多忙な研究室に大きな利点をもたらし、自然冷却を迅速化し、連続運転間の試料交換を容易にします。
  • 堅牢な安全設計: NRTL認証と、過熱や熱電対故障アラートなどの高度な保護機能により、専門環境での無人運転にも安全に対応できるよう設計されています。
  • 将来にわたる柔軟性: TU-22のモジュール設計により、PCベース制御、高精度Eurothermコントローラー、水冷フランジなど、大幅なカスタマイズが可能です。
  • 産業グレードの構造品質: 高純度アルミナコーティング耐火セラミックからステンレス鋼304製真空部品まで、この炉のあらゆる要素は長期耐久性と最小限のメンテナンスを目指して作られています。

お見積りのご依頼、またはお客様の特定の材料研究要件に合わせたカスタム熱ソリューションについてのご相談は、今すぐ THERMUNITS までお問い合わせください。

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