製品概要
この高性能熱処理システムは、大口径の反応チャンバーと長く均一な加熱ゾーンを必要とする先端材料研究および産業用熱処理用途向けに設計されています。分割型シングルゾーン炉として設計されており、処理管へのアクセスが容易で、サンプルの迅速な出し入れが可能であり、メンテナンス手順も簡素化されます。その主な価値は、1200°Cまで非常に安定した熱環境を維持できる点にあり、半導体処理、冶金、セラミック工学に注力する研究室や生産施設にとって不可欠なツールとなっています。
本装置は、真空アニール、気相拡散、固相焼結などの高純度プロセスに最適化されています。5インチ径の溶融石英管を使用することで、標準的な実験用炉と比較して、より大きな基板や大量の小型サンプルに対応可能です。特に4インチウェハーの処理に適しており、電子産業における繊細な酸化やドーピング手順に必要な熱均一性と雰囲気制御を提供します。
信頼性は本ユニットの設計の中核です。工業グレードのコンポーネントと頑丈な二重層スチールケーシングで構築されており、過酷な環境下でも連続運転が可能です。高度な空冷技術の統合により、高温サイクル中でも外殻は安全に触れられる温度に保たれ、オペレーターと周囲の実験室インフラを保護します。本ユニットは、技術的精度と長期的な運用の一貫性を優先する組織にとって、堅実な投資となります。
主な特徴
- 精密な温度管理： 30セグメントのプログラムが可能なMET認証デジタルコントローラーを採用。加熱速度、冷却速度、保持時間を細かく制御でき、複雑な熱サイクル全体で再現性の高い結果を保証します。
- 大容量石英処理チャンバー： 外径130mmの溶融石英管を採用し、大規模な実験のための広々とした環境を提供します。高品質な石英は、優れた耐熱衝撃性と化学的不活性を備えており、高純度な雰囲気制御が可能です。
- 高度な断熱材： エネルギー効率を最大化するために、高純度繊維状アルミナ断熱材を採用しています。この高級耐火材料は熱損失を最小限に抑え、より低い消費電力でピーク温度に到達・維持することを可能にします。
- 頑丈な真空シールシステム： 二重の高温シリコンOリングを備えたSUS304製真空フランジ一対が含まれています。このアセンブリにより、分子ポンプと組み合わせることで10^-5 torrまでの真空レベルを達成する気密シールを確保します。
- 高耐久性ヒーター： モリブデンをドープしたFe-Cr-Al合金製加熱エレメントを搭載。頻繁な高温サイクルにさらされても、長寿命で安定した熱放射を実現するように設計されています。
- 統合された安全性と監視： PIDオートチューニング機能、過熱保護、熱電対断線アラームを内蔵しており、安全な無人運転が可能です。統合された圧力計により、管内の環境をリアルタイムで監視できます。
- 分割炉設計： ケーシングの分割ヒンジ設計により、炉の上半分を開くことができ、加熱ゾーンと石英管に直接アクセス可能です。この機能は、急速冷却や内部コンポーネントの精密な配置に不可欠です。
- スケーラブルな通信ポート： RS485通信ポートを装備しており、遠隔監視やデータロギングのために実験室ネットワークに統合可能で、デジタル追跡に関する現代のインダストリー4.0基準をサポートします。
- 効率的な外部冷却： アクティブ空冷を備えた二重層スチールケーシングにより、外部表面温度を60°C以下に保ち、快適な作業環境を維持するとともに、内部電子機器を熱疲労から保護します。
- カスタマイズ可能な処理環境： フランジ上のニードルバルブを介して様々なガスの導入・排出をサポートしており、加熱プロセス中に窒素、アルゴン、フォーミングガスなどの保護ガスや反応ガスを導入できます。
用途
| 用途 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| 半導体酸化 | 高温の制御された酸素環境下で、4インチシリコンウェハー上に酸化層を成長させる。 | 高い熱均一性により、ウェハー表面全体で一貫した酸化膜厚を確保。 |
| 真空アニール | 酸化を防ぐため、高真空環境で加熱し、金属合金やガラス部品の内部応力を緩和する。 | 優れた気密シールにより、表面の変色を防ぎ、材料の純度を維持。 |
| CVD研究 | グラフェン、カーボンナノチューブ、薄膜コーティングの化学気相成長（CVD）用反応チャンバーとして使用。 | 5インチの大口径管により、前駆体ガスの高い流量安定性と大型基板の処理が可能。 |
| セラミック焼結 | 最大1100°Cの温度で、セラミック粉末成形体を高密度で高強度の部品に固める。 | 精密な30セグメントプログラミングにより、重要な冷却段階での熱衝撃や亀裂を防止。 |
| 拡散ドーピング | 気相または固体ソース拡散を介して、半導体材料にドーパント不純物を導入する。 | 分割炉設計により、急速冷却や拡散プロセスの精密なタイミング制御が可能。 |
| 材料焼成 | 原材料を熱分解し、揮発性成分を除去または相変化を開始させる。 | 繊維状アルミナ断熱材が、長時間の焼成サイクルに必要な熱安定性を提供。 |
| 電池材料R&D | 不活性ガス雰囲気下での正極または負極粉末の合成および熱処理。 | 統合されたガスハンドリングと圧力監視により、繊細な電池化学物質の安全な処理を保証。 |
| 雰囲気焼結 | 特定の冶金学的特性を得るために、窒素またはアルゴン環境で特殊合金を熱処理する。 | 信頼性の高いガス入出力バルブとSUS304フランジが、純粋で漏れのない雰囲気を確保。 |
技術仕様
| 仕様カテゴリ | パラメータ詳細 (モデル: TU-26) |
|---|---|
| 加熱ゾーン構成 | シングルゾーン分割炉設計 |
| 最高動作温度 | 1200°C（不活性雰囲気中で5時間未満） |
| 連続動作温度 | 1100°C |
| 加熱ゾーン長 | 880 mm（約34.6インチ） |
| 恒温ゾーン | 240 mm (±1°C) |
| 昇温速度 | ≤ 20°C/分 |
| 加熱エレメント | モリブデンをドープしたFe-Cr-Al合金 |
| 標準処理管 | 溶融石英: 外径130 mm x 内径120 mm x 長さ1400 mm |
| オプション管サイズ | 80 mmおよび100 mm径も利用可能 |
| 温度制御 | MET認証PIDコントローラー、30プログラムセグメント |
| 温度精度 | ± 1°C |
| 熱電対 | Kタイプ |
| 出力 | 7.0 KW |
| 入力電圧 | AC 208-240V 単相、50/60 Hz |
| 真空レベル | 10^-2 torr（メカニカルポンプ使用時）、最大10^-5 torr（分子ポンプ使用時） |
| 真空フランジ | 二重シリコンOリングとニードルバルブを備えたSUS304製一対 |
| ケーシング構造 | 空冷式二重層スチール（表面温度≤ 60°C） |
| 断熱材 | 耐火コーティングを施した高純度繊維状アルミナ |
| 通信 | RS485ポート（オプションのMTS02-YソフトウェアおよびノートPCパッケージ） |
| 安全機能 | 過熱保護、熱電対断線アラーム、PIDオートチューニング |
TU-26を選ぶ理由
- 実証済みの熱安定性： 本システムは、240mmの非常に一貫した恒温ゾーンを提供するよう設計されており、処理サイクル全体を通じてサンプルが均一な熱条件を経験することを保証します。
- プレミアムな品質： 高純度アルミナ断熱材からSUS304製真空フランジに至るまで、すべてのコンポーネントは、高温の産業用R&Dの過酷さに耐えうる能力に基づいて選択されています。
- 多用途な統合： スライド式フランジ、高度なEurothermコントローラー（±0.1°C精度）、特殊な真空ポンプキットなどのオプションにより、あらゆる材料科学研究室の特定の要件に合わせてカスタマイズ可能です。
- 安全第一の設計： 二重層スチールケーシングと高度なアラームシステムにより、常に監視することなく長時間の処理が可能となり、施設の運用スループットが向上します。
- 産業向けのスケーラビリティ： 5インチの大型石英管と強力な出力の組み合わせにより、学術研究の初期段階から小規模な産業生産まで幅広く対応可能です。
TU-26の詳細情報や、お客様の特定の熱処理ニーズに合わせた見積もりをご希望の場合は、今すぐ弊社の技術営業チームまでお問い合わせください。
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい！
関連製品
真空フランジ付き 三温度ゾーン分割型チューブ炉 36インチ加熱長 高温1200℃ 材料研究用炉
1200℃の高温処理向けに精密設計された三温度ゾーン分割型チューブ炉です。材料科学の研究開発における雰囲気制御および真空用途のための高度なPID制御を備え、卓越した熱均一性と信頼性の高い性能を産業用ラボ環境および研究機関に提供します。
1200°C 5インチ垂直型石英管状炉（ステンレス製真空フランジ付き）
5インチ径のチャンバーとステンレス製真空フランジを備えた高性能1200°C垂直型石英管状炉。30セグメントの精密PID制御により、材料科学の研究開発、CVD、および制御雰囲気下での特殊な焼入れ用途において正確な熱処理を実現します。
1100°C 大口径石英チューブ炉（24インチ加熱ゾーンおよび水冷フランジ付き）
この1100°C大口径石英チューブ炉は、24インチの加熱ゾーンと精密なCVD処理のための水冷フランジを備えています。材料研究や産業用R&Dに最適で、優れた熱安定性と堅牢な熱性能を提供します。
11インチまたは15インチ石英管とヒンジ式フランジを装備した真空雰囲気熱処理用3ゾーンチューブ炉
本3ゾーンチューブ炉は11インチまたは15インチの石英管を備え、精密な真空制御下での大規模ウェハアニーリングや材料合成に優れた熱均一性を実現します。産業研究所の安全性のため電動式リッド操作に対応しています。
24インチ加熱長・ヒンジ式フランジ石英管システム搭載 3ゾーンチューブ炉
このプロ仕様の3ゾーンチューブ炉は、24インチの加熱長と、効率的なサンプル投入を可能にするヒンジ式フランジを備えています。1200°Cまでの処理に最適化されており、高度な産業材料研究のために精密な温度均一性と真空互換性を提供します。
4インチ石英管およびステンレス鋼製真空フランジ付き、最大1200℃対応の5ゾーン分割式縦型チューブ炉
この高性能な1200℃対応の5ゾーン分割式縦型チューブ炉は、5つの独立加熱ゾーンと4インチ石英管を備え、先端材料研究および産業用熱処理において卓越した温度均一性と急冷性能を提供します。
4インチ内径石英管およびスライド式サンプルホルダー付き2ゾーン赤外線加熱ラピッドサーマルプロセッシング（RTP）管状炉
4インチ内径石英管とデュアルスライド式サンプルホルダーを備えた高性能2ゾーン赤外線加熱RTP管状炉。50°C/秒の昇温速度を実現し、次世代2D材料合成、超伝導研究、精密高速気相成長プロセスに最適です。
高温材料合成用、オプションの石英管および真空フランジシステム付き 24インチ 3ゾーン分割式チューブ炉
独立した温度制御、石英管対応、真空シールフランジを備えたこの高級24インチ3ゾーン分割式チューブ炉で、材料研究を加速します。1200°Cまでの精密な熱処理を実現し、要求の厳しい実験室および産業R&D用途に対応します。
6ゾーン分割型チューブ炉 1.8メートル石英管 1200℃高温加熱システム
この6ゾーン高温分割型チューブ炉は、柔軟な温度勾配と1.8メートルの加熱ゾーンを提供します。最高温度1200℃の真空対応システムであり、6つのPIDコントローラーを搭載。高度な材料研究や産業用熱処理アプリケーションに最適です。
タッチスクリーンコントローラーと複数の石英管オプションを備えた5ゾーン1200℃高温分割式チューブ炉
精密な熱勾配と雰囲気制御のために設計された高性能5ゾーン1200℃チューブ炉です。本システムは、直感的なタッチスクリーンプログラミングと真空シール機能を備え、精密焼結、アニーリング、材料合成の各ワークフローにおいて安定した結果を実現します。
大型ウェーハ処理用 8.5～11インチ外径石英管および真空フランジ付き 1100°C 3ゾーン管状炉
8.5～11インチの大型石英管と密閉フランジを備えた、精密な1100°C 3ゾーン管状炉です。優れた熱均一性と高真空対応により、産業用R&Dプロジェクトや大規模なウェーハ処理、先端材料研究に最適です。
産業用熱処理および材料科学研究向け長尺2ゾーン管状炉
この長尺2ゾーン管状炉は、スウェーデン製カンタルA1エレメントと高度なPID制御を採用し、精密な材料研究を実現します。真空および雰囲気制御オプションにより、要求の厳しい産業用ラボの熱処理用途において、優れた温度均一性と信頼性を提供します。
粉末CVDおよび材料合成用 5インチ2ゾーン回転管状炉 1100℃
高精度1100℃ 2ゾーン回転管状炉で材料研究を加速させます。均一な粉末CVDおよびコアシェル合成のために特別に設計されたこの5インチ石英システムは、高度な雰囲気制御と独立したデュアルゾーン熱処理最適化を提供します。
材料研究および工業用熱処理向け高温長尺デュアルゾーン管状炉
この高性能な長尺デュアルゾーン管状炉で、材料研究を強化しましょう。スウェーデン製Kanthal A1エレメントと高度なPID制御を搭載し、現代のエンジニアリングにおける要求の厳しい研究室や産業用R&Dプロセス向けに、1200°Cまでの優れた熱均一性を保証します。
1200°C 3ゾーン分割式管状炉（加熱長18インチ、真空フランジ付き）
この1200°C 3ゾーン分割式管状炉で熱処理プロセスを最適化しましょう。18インチの加熱長と精密なPID制御を備え、高度な材料研究、アニーリング、焼結、および世界中の研究施設における専門的な産業R&Dアプリケーションに優れた温度均一性を提供します。
8インチまたは11インチ石英管と高真空フランジを装備した大型縦型3ゾーン管状炉 1200℃
当社の設計による大容量縦型3ゾーン炉は、独立した温度制御と11インチ石英管への対応により、要求の厳しい実験環境下での重要な産業用焼鈍・焼結研究および先端材料科学開発において、優れた均熱性と向上した真空完全性を実現します。
1200°C 10ゾーン分割型チューブ炉（水平・垂直設置対応、マルチゾーン熱勾配および大口径材料処理用）
10個の独立した加熱ゾーンによる比類のない熱勾配制御と、水平・垂直設置が可能な柔軟性を備えた、先進の1200°C 10ゾーン分割型チューブ炉システム。精密な産業シミュレーション、材料合成、高性能な研究開発（R&D）熱処理用途向けに設計されており、卓越した信頼性を誇ります。
材料研究および工業用熱処理用 1700℃高温3ゾーン管状炉（アルミナ管 外径50mm 60mm 80mm）
この高性能1700℃ 3ゾーン管状炉は、精密アルミナ管と独立した加熱制御を特徴としています。高度な材料研究向けに設計されており、化学気相成長（CVD）や複雑な雰囲気制御下の工業用熱処理プロセスにおいて、優れた温度均一性と安定性を提供します。
高温3ゾーン分割型チューブ炉 最高1200℃ 加熱長35.4インチ 内径8インチチューブ
この高性能な3ゾーン分割型チューブ炉は、35.4インチの加熱ゾーンと8インチ径のチューブを備え、高度な熱処理を実現します。独立したゾーン管理により、真空またはガス雰囲気下で最高1200℃の温度と優れた均熱性を達成します。
12ゾーン超長尺分割型チューブ炉（20フィート石英管、最高温度1100℃）
この高精度な12ゾーン分割型チューブ炉は、6メートルの加熱長と最高温度1100℃を実現し、長尺サンプルの処理に最適です。独立したPID制御と真空対応フランジを備え、先端材料科学や研究開発用途において卓越した均熱性を提供します。
