製品概要
この高性能熱処理システムは、大口径の反応チャンバーと長く均一な加熱ゾーンを必要とする先端材料研究および産業用熱処理用途向けに設計されています。分割型シングルゾーン炉として設計されており、処理管へのアクセスが容易で、サンプルの迅速な出し入れが可能であり、メンテナンス手順も簡素化されます。その主な価値は、1200°Cまで非常に安定した熱環境を維持できる点にあり、半導体処理、冶金、セラミック工学に注力する研究室や生産施設にとって不可欠なツールとなっています。
本装置は、真空アニール、気相拡散、固相焼結などの高純度プロセスに最適化されています。5インチ径の溶融石英管を使用することで、標準的な実験用炉と比較して、より大きな基板や大量の小型サンプルに対応可能です。特に4インチウェハーの処理に適しており、電子産業における繊細な酸化やドーピング手順に必要な熱均一性と雰囲気制御を提供します。
信頼性は本ユニットの設計の中核です。工業グレードのコンポーネントと頑丈な二重層スチールケーシングで構築されており、過酷な環境下でも連続運転が可能です。高度な空冷技術の統合により、高温サイクル中でも外殻は安全に触れられる温度に保たれ、オペレーターと周囲の実験室インフラを保護します。本ユニットは、技術的精度と長期的な運用の一貫性を優先する組織にとって、堅実な投資となります。
主な特徴
- 精密な温度管理： 30セグメントのプログラムが可能なMET認証デジタルコントローラーを採用。加熱速度、冷却速度、保持時間を細かく制御でき、複雑な熱サイクル全体で再現性の高い結果を保証します。
- 大容量石英処理チャンバー： 外径130mmの溶融石英管を採用し、大規模な実験のための広々とした環境を提供します。高品質な石英は、優れた耐熱衝撃性と化学的不活性を備えており、高純度な雰囲気制御が可能です。
- 高度な断熱材： エネルギー効率を最大化するために、高純度繊維状アルミナ断熱材を採用しています。この高級耐火材料は熱損失を最小限に抑え、より低い消費電力でピーク温度に到達・維持することを可能にします。
- 頑丈な真空シールシステム： 二重の高温シリコンOリングを備えたSUS304製真空フランジ一対が含まれています。このアセンブリにより、分子ポンプと組み合わせることで10^-5 torrまでの真空レベルを達成する気密シールを確保します。
- 高耐久性ヒーター： モリブデンをドープしたFe-Cr-Al合金製加熱エレメントを搭載。頻繁な高温サイクルにさらされても、長寿命で安定した熱放射を実現するように設計されています。
- 統合された安全性と監視： PIDオートチューニング機能、過熱保護、熱電対断線アラームを内蔵しており、安全な無人運転が可能です。統合された圧力計により、管内の環境をリアルタイムで監視できます。
- 分割炉設計： ケーシングの分割ヒンジ設計により、炉の上半分を開くことができ、加熱ゾーンと石英管に直接アクセス可能です。この機能は、急速冷却や内部コンポーネントの精密な配置に不可欠です。
- スケーラブルな通信ポート： RS485通信ポートを装備しており、遠隔監視やデータロギングのために実験室ネットワークに統合可能で、デジタル追跡に関する現代のインダストリー4.0基準をサポートします。
- 効率的な外部冷却： アクティブ空冷を備えた二重層スチールケーシングにより、外部表面温度を60°C以下に保ち、快適な作業環境を維持するとともに、内部電子機器を熱疲労から保護します。
- カスタマイズ可能な処理環境： フランジ上のニードルバルブを介して様々なガスの導入・排出をサポートしており、加熱プロセス中に窒素、アルゴン、フォーミングガスなどの保護ガスや反応ガスを導入できます。
用途
| 用途 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| 半導体酸化 | 高温の制御された酸素環境下で、4インチシリコンウェハー上に酸化層を成長させる。 | 高い熱均一性により、ウェハー表面全体で一貫した酸化膜厚を確保。 |
| 真空アニール | 酸化を防ぐため、高真空環境で加熱し、金属合金やガラス部品の内部応力を緩和する。 | 優れた気密シールにより、表面の変色を防ぎ、材料の純度を維持。 |
| CVD研究 | グラフェン、カーボンナノチューブ、薄膜コーティングの化学気相成長（CVD）用反応チャンバーとして使用。 | 5インチの大口径管により、前駆体ガスの高い流量安定性と大型基板の処理が可能。 |
| セラミック焼結 | 最大1100°Cの温度で、セラミック粉末成形体を高密度で高強度の部品に固める。 | 精密な30セグメントプログラミングにより、重要な冷却段階での熱衝撃や亀裂を防止。 |
| 拡散ドーピング | 気相または固体ソース拡散を介して、半導体材料にドーパント不純物を導入する。 | 分割炉設計により、急速冷却や拡散プロセスの精密なタイミング制御が可能。 |
| 材料焼成 | 原材料を熱分解し、揮発性成分を除去または相変化を開始させる。 | 繊維状アルミナ断熱材が、長時間の焼成サイクルに必要な熱安定性を提供。 |
| 電池材料R&D | 不活性ガス雰囲気下での正極または負極粉末の合成および熱処理。 | 統合されたガスハンドリングと圧力監視により、繊細な電池化学物質の安全な処理を保証。 |
| 雰囲気焼結 | 特定の冶金学的特性を得るために、窒素またはアルゴン環境で特殊合金を熱処理する。 | 信頼性の高いガス入出力バルブとSUS304フランジが、純粋で漏れのない雰囲気を確保。 |
技術仕様
| 仕様カテゴリ | パラメータ詳細 (モデル: TU-26) |
|---|---|
| 加熱ゾーン構成 | シングルゾーン分割炉設計 |
| 最高動作温度 | 1200°C（不活性雰囲気中で5時間未満） |
| 連続動作温度 | 1100°C |
| 加熱ゾーン長 | 880 mm（約34.6インチ） |
| 恒温ゾーン | 240 mm (±1°C) |
| 昇温速度 | ≤ 20°C/分 |
| 加熱エレメント | モリブデンをドープしたFe-Cr-Al合金 |
| 標準処理管 | 溶融石英: 外径130 mm x 内径120 mm x 長さ1400 mm |
| オプション管サイズ | 80 mmおよび100 mm径も利用可能 |
| 温度制御 | MET認証PIDコントローラー、30プログラムセグメント |
| 温度精度 | ± 1°C |
| 熱電対 | Kタイプ |
| 出力 | 7.0 KW |
| 入力電圧 | AC 208-240V 単相、50/60 Hz |
| 真空レベル | 10^-2 torr（メカニカルポンプ使用時）、最大10^-5 torr（分子ポンプ使用時） |
| 真空フランジ | 二重シリコンOリングとニードルバルブを備えたSUS304製一対 |
| ケーシング構造 | 空冷式二重層スチール（表面温度≤ 60°C） |
| 断熱材 | 耐火コーティングを施した高純度繊維状アルミナ |
| 通信 | RS485ポート（オプションのMTS02-YソフトウェアおよびノートPCパッケージ） |
| 安全機能 | 過熱保護、熱電対断線アラーム、PIDオートチューニング |
TU-26を選ぶ理由
- 実証済みの熱安定性： 本システムは、240mmの非常に一貫した恒温ゾーンを提供するよう設計されており、処理サイクル全体を通じてサンプルが均一な熱条件を経験することを保証します。
- プレミアムな品質： 高純度アルミナ断熱材からSUS304製真空フランジに至るまで、すべてのコンポーネントは、高温の産業用R&Dの過酷さに耐えうる能力に基づいて選択されています。
- 多用途な統合： スライド式フランジ、高度なEurothermコントローラー（±0.1°C精度）、特殊な真空ポンプキットなどのオプションにより、あらゆる材料科学研究室の特定の要件に合わせてカスタマイズ可能です。
- 安全第一の設計： 二重層スチールケーシングと高度なアラームシステムにより、常に監視することなく長時間の処理が可能となり、施設の運用スループットが向上します。
- 産業向けのスケーラビリティ： 5インチの大型石英管と強力な出力の組み合わせにより、学術研究の初期段階から小規模な産業生産まで幅広く対応可能です。
TU-26の詳細情報や、お客様の特定の熱処理ニーズに合わせた見積もりをご希望の場合は、今すぐ弊社の技術営業チームまでお問い合わせください。
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