製品概要

この高温熱処理システムは、水素雰囲気下での材料の安全かつ高精度な処理のために特別に設計されています。最高1700℃の極端な温度に到達できるよう設計されており、高純度アルミナプロセスチューブと高度なガス管理技術を一体化しています。堅牢な加熱性能と専用の水素安全インフラを組み合わせることで、現代材料科学に不可欠な還元雰囲気実験のための安全な環境を提供します。この装置のコアバリューは、可燃性ガスの使用に伴う固有のリスクを軽減しながら、安定した高温条件を維持できる点にあります。
主に先進的な研究開発ラボや産業用材料合成施設で使用され、焼結、焼きなまし、化学気相成長などの用途で優れた性能を発揮します。高純度で無酸素の環境を必要とする refractory 金属、セラミック、半導体部品を扱う研究者にとって、好ましいソリューションです。本システムは多用途性を備えており、不活性ガスや酸素でも同等に機能するため、複雑な熱サイクルに対応する多目的な装置として活用できます。コンパクトな横型構成は実験室のドラフトチャンバーに最適化されており、既存の安全プロトコルにシームレスに統合できます。
購入者は本装置の信頼性と耐久性に完全な信頼を寄せることができます。スーパー1800グレードのMoSi2発熱体から二層構造のスチールケーシングまで、すべてのコンポーネントは過酷な産業用負荷サイクルに耐えられるよう選定されています。空冷システムを搭載しているため、長時間の高温運転中でも炉の外面は安全に触れられる温度に維持されます。このような設計品質へのこだわりにより、安定した再現性のある結果が得られ、高感度な産業研究や品質が重要な生産プロセスに必要な運用安定性を提供します。
主な特長
- 一体型水素安全システム: UL認証のガス検知器と内蔵電磁弁を搭載しており、爆発下限界(LEL)の20%で漏洩を検知すると自動的に水素供給を遮断し、作業者の安全性を最大限に確保します。
- 極端な温度対応能力: スーパー1800グレードのMoSi2発熱体を使用し、最高使用温度1700℃を実現し、高い熱エネルギーを必要とする先進材料の処理を可能にします。
- 高精度PID温度制御: 高度なコントローラーが30のプログラム可能セグメントを提供し、昇温速度、降温速度、保持時間を高精度に管理し、全範囲で±1℃の温度精度を維持します。
- 高純度アルミナ処理チューブ: 外径60mmのチューブは純度95%以上のAl2O3セラミック製で、優れた耐薬品性と熱安定性を備え、コンタミネーションのない材料処理を実現します。
- 堅牢な真空・圧力管理: ステンレス製真空フランジとニードルバルブを標準装備し、最高10E-5 torrの高真空から最高5 PSIの陽圧まで対応し、多様な雰囲気制御を可能にします。
- 高い熱効率: 高純度繊維状アルミナ断熱材と空冷付き二層スチールケーシングにより、環境への放熱を最小限に抑え、外面温度を60℃以下に維持します。
- 包括的な監視ツール: 一体型の機械式圧力計と16-160 ml/minのフローティング流量計により、ガス入口圧力と出口流量をリアルタイムで監視でき、高精度なプロセス制御が可能です。
- 安全を最優先した設計: 熱放射遮蔽用のセラミックチューブブロックと水素点火用の専用ガスライターを標準装備し、安全な実験室運用への強いこだわりを示しています。
- デジタル通信対応: RS485通信ポートを標準搭載しており、オプションのソフトウェアからデータロギングとリモートモニタリングが可能で、ワークフローのトレーサビリティを向上させます。
用途
| 用途 | 説明 | 主なメリット |
|---|---|---|
| 水素焼結 | 酸化防止のため、還元雰囲気中で高融点金属および工業用セラミックを焼結します。 | 表面純度に優れた高密度部品を実現します。 |
| 材料合成 | 正確な熱プロファイルとガス制御が必要な先進材料粉末および薄膜の処理を行います。 | 安定した結晶成長と相純度を確保します。 |
| 触媒還元 | 制御された水素ガス流量により、触媒基材の高温還元を行います。 | 正確な流量管理により、触媒の活性と性能を最適化します。 |
| 半導体研究開発 | 不活性雰囲気または水素リッチな環境で半導体ウェーハや材料の熱処理を行います。 | 超低リーク率により、敏感な部品の汚染を防止します。 |
| 合金の焼きなまし | 真空または陽圧下で特殊合金の応力除去および熱処理を行います。 | 制御された冷却速度により熱衝撃を防止し、構造的完全性を維持します。 |
| CVD実験 | 高性能コーティングを作成するため、ガス状前駆体を使用した化学気相成長を行います。 | 一体型安全弁により、可燃性ガス使用時の施設を保護します。 |
| 腐食試験 | 産業ガス中で材料の耐久性試験のため、高温腐食環境をシミュレートします。 | 高純度アルミナチューブにより、試験中の相互汚染を防止します。 |
技術仕様
| パラメータ | TU-QF30の仕様詳細 |
|---|---|
| 型番 | TU-QF30 |
| 最高温度 | 1700℃(1時間未満の継続使用) |
| 連続使用温度 | 1600℃ |
| 発熱体 | スーパー1800グレード MoSi2 (30 x 270mm) |
| 加熱ゾーン長さ | 125 mm (5") |
| 恒温ゾーン | 50 mm (2") within ± 2°C |
| 昇温速度 | ≤ 10°C/min(チューブの長寿命化のため5°C/minを推奨) |
| プロセスチューブ素材 | 高純度Al2O3セラミック(純度>95%) |
| プロセスチューブ寸法 | 内径51 mm × 外径60 mm × 長さ800 mm |
| 温度精度 | ± 1°C |
| 温度コントローラー | SCRによるPID自動制御;30プログラム可能セグメント;RS485ポート |
| 水素安全システム | Honeywell UL認証ガス検知器;自動電磁遮断弁 |
| 警報設定値 | 水素爆発下限界の20%(20% LEL) |
| 真空性能 | 最高10E-5 torr(適切な真空ポンプシステム使用時) |
| 最大圧力 | 5 PSI(陽圧) |
| 電力要件 | 最大3 KW(20Aブレーカーが必要) |
| 電圧 | 単相 AC 208-240V, 50/60 Hz |
| ケーシング構造 | 空冷付き二層スチール(表面温度<60°C) |
| ガス流量制御 | フローティング流量計(16 - 160 ml/min) ニードルバルブ付き |
| 認証 | CE認証取得;ご要望に応じてNRTLまたはCSA認証対応可能 |
当社を選ぶ理由
- 妥協のない安全基準: 本システムは水素処理の高リスク性を踏まえて特別に設計されており、標準的な管状炉を超えるアクティブガス検知と自動フェールセーフ機能を搭載しています。
- 高品質な設計: スーパー1800 MoSi2発熱体からMET認証済みのコントローラー部品まで、産業環境での最大の耐久性と熱精度を実現するために、すべての部品を厳選しています。
- 多様な雰囲気制御: プロセスに高真空、陽圧、可燃性ガスと不活性ガスの特定の混合気のいずれが必要な場合でも、本システムは変化する研究ニーズに適応する柔軟性を提供します。
- 優れた断熱性: 高純度繊維状アルミナ断熱材の使用により、エネルギー効率と安定した加熱環境を確保し、実験結果の品質と実験室のエネルギーコストの両方を保護します。
- 専門家によるサポートとカスタマイズ: ユーロサーム製コントローラーのアップグレードや専用ソフトウェアキットを含む豊富なカスタマイズオプションを提供し、お客様の運用成功に尽力する技術チームがサポートします。
本システムは、最も要求の厳しい熱処理用途に対して、安全性と性能の両方におけるプレミアムな投資となります。お客様固有の研究要件に合わせた技術コンサルティングまたはカスタマイズされた見積もりについては、今すぐお問い合わせください。
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい!
関連製品
高温1700℃チューブ炉(高真空ターボ分子ポンプシステムおよびマルチチャンネルマスフローコントローラーガスミキサー搭載)
この先進的な高温1700℃チューブ炉は、精密ターボ分子高真空ポンプシステムとマルチチャンネルマスフローコントローラーガスミキサーを統合しており、要求の厳しい産業用R&D環境における高度なCVD、拡散、材料研究に卓越したパフォーマンスを提供します。
高温ハイブリッドマッフル・管状炉 1700℃ プログラマブルPID制御ボックスシステム(真空フランジおよびアルミナ加工チューブ付き)
ボックス炉と管状炉の機能を兼ね備えた、この汎用性の高い1700°Cハイブリッド炉で研究室のスペースを最適化しましょう。30セグメントのプログラム制御と高真空対応機能を備えており、要求の厳しい材料科学の研究開発環境における精密熱処理に最適なソリューションです。
82mm超合金管とデュアル水素検知器を搭載した3ゾーン水素ガスチューブ炉 1200℃高温材料加工システム
ニッケル基超合金管と統合安全検知器を備えたこの高度な3ゾーン水素ガスチューブ炉で、高温材料研究を最適化し、要求の厳しい産業・研究開発用途での安全な1200℃加工を実現し、最大限の信頼性と性能を確保します
材料研究用 1700℃ ハイブリッド高温チューブ・ボックス炉(2インチアルミナチューブ付)
この1700℃ハイブリッド炉は、ボックス炉とチューブ炉の機能を兼ね備え、真空または制御雰囲気下での材料研究を可能にします。高純度アルミナ断熱材とMoSi2発熱体を採用し、要求の厳しいラボの研究開発や産業用途に精密な熱処理を提供します。
1100℃ 水素ガス雰囲気チューブ炉(5インチ溶融石英管および統合型安全監視システム搭載)
統合型H2検知システム、5インチ石英管、自動安全インターロックを備えたこの1100℃水素ガスチューブ炉で、安全性と精度を確保します。酸化に敏感な材料の超高純度熱処理や、高度な触媒研究用途に最適です。専門的に設計された高性能な装置です。
5インチ加熱ゾーン、高純度アルミナチューブ、真空シーリングフランジ付き 1700℃ 高温卓上チューブ炉
この1700℃の高温チューブ炉は、先進材料研究向けに5インチの加熱ゾーンとアルミナチューブを備えています。焼結、焼なまし、化学気相成長のために、精密な雰囲気制御と50 mTorrまでの真空レベルを実現します。
1700℃ 高温3ゾーン管状炉(アルミナ管・水冷フランジ付)
この高度な高温3ゾーン管状炉は、精密な1700℃の熱処理と雰囲気制御を実現します。半導体研究、先端冶金、セラミックス焼結に最適で、独立したPID温度コントローラーにより優れた均熱性を提供します。
粉末球状化・材料焼結用 高温1700℃縦型チューブ炉
本1700℃縦型チューブ炉システムは、電池電極や3Dプリンティング向け粉末球状化処理を最適化します。自動フィーダーと双区域制御を搭載し、真空または制御雰囲気下での高純度加工を実現し、産業用材料研究の高度なニーズに応えます。
高温熱分解リアクターおよび材料科学研究用ガス予熱管状炉
熱分解リアクター向けの高度なガス予熱管状炉で、最大700°Cの安定した熱風出口を実現します。精密なPID制御と耐久性に優れた310S合金加熱コイルを搭載し、厳しい産業研究や高信頼性が求められる材料科学用途において一貫した性能を発揮します。
高温経済的水素ガスボックス炉 1600℃ 雰囲気制御熱処理システム 容量65L
この高温水素雰囲気ボックス炉は、先端材料研究のために最大1600℃の精密熱処理を提供します。モリブデン合金コイルによる3面加熱と水冷式真空密閉チャンバーを備え、安全性、信頼性、優れた性能を確保します。
1100°C デュアルゾーン水素ガス管状炉(石英管および水素漏れ検知システム一体型)
この高性能デュアルゾーン水素管状炉は、最大1100°Cまでの安全な熱処理を実現するHoneywell製ガス検知器を内蔵しています。材料科学の研究開発向けに設計されており、60mmまたは80mmの石英管を使用して精密な雰囲気制御が可能です。
1500℃対応 ハイブリッド高温マッフル・管状炉(真空フランジ付)
ボックス炉と管状炉の機能を統合した先進的な1500℃ハイブリッド炉です。6x6x6インチのチャンバーと真空フランジ付き2インチムライト管を備え、精密なPID制御と優れたアルミナ断熱材により、高温材料研究や産業用R&Dアプリケーションに最適な性能を提供します。
1700℃ 高温アルミナ管状炉(18インチ加熱ゾーンおよび真空シールフランジ付き)
このプロ仕様の1700℃管状炉は、18インチの加熱ゾーンと高純度アルミナチューブを備え、先端材料研究に最適です。真空および制御雰囲気下での使用を想定して設計されており、過酷な産業用研究プロセスにおいて卓越した熱安定性と信頼性を発揮します。
1100°C 8ゾーン高圧スーパーアロイ管状炉(高圧ガス制御システム一体型)
スーパーアロイ製容器と統合制御システムを備えた、1100°C対応の8ゾーン高圧管状炉です。安定した高圧雰囲気と、要求の厳しいプロセスに必要な精密なマルチゾーン熱均一性を必要とする、超伝導材料の合成や先端酸化物セラミックスの研究に最適です。
雰囲気制御マッフル炉 最高温度1700℃ 80L大容量 真空・不活性ガス対応ボックス炉
先端材料研究向けの高性能1700℃雰囲気制御マッフル炉(容量80L)。MoSi2発熱体と精密PID制御を搭載し、産業用R&Dやパイロット生産プロセスにおける不活性ガス、真空、酸素環境下での熱処理に対応します。
自律型材料研究および先端ラボR&D向け 高温自動5インチチューブ炉
精密真空制御、高純度石英処理、遠隔対応の統合機能を備えたこの1200°C自動チューブ炉で、材料合成を加速します。要求の厳しい産業材料科学分野や先端R&D開発ワークフロー全体にわたり、高スループットのAI研究および自律型ラボ用途を支えます。
80mmアルミナ管採用 垂直型1700℃真空・雰囲気制御チューブ炉
この高精度垂直型チューブ炉は、材料合成のために最高1700℃までの卓越した熱均一性を実現します。80mmのアルミナ管と高度な真空シールフランジを備え、要求の厳しい産業用R&Dや特殊な熱処理プロセスに安定した雰囲気を提供します。
材料研究・真空および雰囲気熱処理用 1500℃ 高温分割型チューブ炉
この1500℃高温分割型チューブ炉は、高度な材料研究や工業用焼結用途向けに精密な熱処理を提供します。二重シェル構造、統合型PID制御、真空対応ステンレス製フランジを備え、過酷なラボ環境でも信頼性の高い性能を発揮します。
材料科学および産業用熱処理向け真空フランジ・プログラム温度コントローラー付き1100℃管状炉
プログラム可能なPIDコントローラーと高真空フランジを備えた、汎用性の高い1100℃管状炉で、研究室の熱処理プロセスを最適化します。精密な材料合成や産業用R&D向けに設計されており、デュアルオリエンテーション(水平・垂直)の柔軟性と、要求の厳しい用途にも対応する一貫した温度均一性を提供します。
2インチアルミナチューブと水素検知器を備えた1500℃コンパクト水素ガス管状炉
2インチのアルミナチューブと一体型Honeywell安全検知器を備えた先進的な1500℃コンパクト水素ガス管状炉。要求の厳しい材料科学R&D環境において、精密な熱処理と還元サイクル向けに設計され、比類のない信頼性と安全性を実現します。