80mmアルミナ管採用 垂直型1700℃真空・雰囲気制御チューブ炉

管状炉

80mmアルミナ管採用 垂直型1700℃真空・雰囲気制御チューブ炉

商品番号: TU-C19

最高使用温度: 1700°C チューブ寸法: 外径80mm x 長さ1000mm 温度制御精度: ±1°C
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製品概要

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この高性能垂直型チューブ炉は、先端材料研究のために設計されており、最高1700℃までの温度を必要とするプロセスに安定した制御環境を提供します。垂直方向の構成を採用することで、水平型では実現が困難な特定の熱力学的条件やサンプル操作技術を容易にします。本装置は、高純度発熱体と高度な断熱材を統合しており、迅速な加熱サイクルと卓越した熱安定性を確保するため、次世代の材料科学に注力する研究室にとって不可欠なツールです。

汎用性を重視して設計されており、真空および制御雰囲気の両方の用途で優れた性能を発揮します。高性能セラミックスの焼結、粉末材料の固相合成、特殊合金の開発などに頻繁に使用されています。垂直設計は、溶融塩や吊り下げたサンプルなど、実験セットアップにおいて重力が重要な役割を果たす用途に特に有益です。ターゲットとなる産業には、航空宇宙、半導体製造、冶金、および精度と再現性が不可欠な要件となる学術研究機関が含まれます。

長期的な信頼性と運用上の安全性を重視して構築された本機は、ピーク運転時でも外部表面温度を低く保つための空冷式二重鋼製ケーシングを備えています。高純度アルミナ処理管や二ケイ化モリブデン発熱体を含む内部コンポーネントは、過酷な熱サイクル下での耐久性を考慮して選定されています。このシステムは、包括的な認証準備に裏打ちされており、調達担当者や研究者に、過酷な産業・研究環境下でも一貫した結果をもたらすという確信を提供します。

主な特徴

  • 優れた垂直構成: 本システムの垂直方向の構成により、独自のサンプル配置と最適化されたガス流動ダイナミクスが可能となり、重力を利用した処理や特定の対流パターンを必要とする実験を促進します。
  • 精密な温度制御: SCR電力制御を備えた高度なPIDコントローラーを使用し、30のプログラム可能なセグメント全体で±1℃の温度精度を維持し、複雑な熱プロファイルへの正確な追従を保証します。
  • 超高温MoSi2発熱体: 4本のU字型1800グレード二ケイ化モリブデン(MoSi2)発熱体を装備しており、迅速な昇温速度を実現し、1700℃までの運転を優れた寿命で維持します。
  • 高純度アルミナ処理管: 外径80mmのチューブは純度99.5%のAl2O3から作られており、極端な温度下でも優れた耐薬品性と構造的完全性を提供し、高純度材料の処理を可能にします。
  • 優れた断熱性能: チャンバーは1800℃グレードの繊維状アルミナ断熱材で裏打ちされており、熱損失を最小限に抑えてエネルギー効率を向上させると同時に、外装ケースの安全な接触温度を維持します。
  • 高度な真空・ガスシール: 本システムには、二重シリコンOリングとニードルバルブを備えた高耐久ステンレス鋼フランジが含まれており、適切なポンプシステムと組み合わせることで10^-5 Torrまでの真空レベルをサポートします。
  • 安全第一の設計: 過熱防止および熱電対故障アラームが統合されており、装置とサンプルの両方を保護します。また、二重シェル設計により、高温サイクル中の構造的安定性が確保されています。
  • 柔軟な雰囲気管理: 標準の1/4インチバーブ継手とニードルバルブにより、不活性ガスや反応性ガスの正確な導入が可能で、幅広い化学気相成長(CVD)やアニールプロセスをサポートします。
  • デジタル通信対応: 標準のDB9 PC通信ポートを装備しており、遠隔監視やデータロギングに対応しているため、R&D記録の包括的な文書化を容易にします。

用途

用途 説明 主な利点
セラミックス焼結 技術用セラミックス粉末を高温で固め、緻密な構造部品にする。 卓越した密度と粒径制御。
結晶成長 垂直に制御された熱勾配の中で、融液や蒸気から単結晶を処理する。 均一な成長と熱応力の低減。
触媒合成 特定の雰囲気条件下での触媒材料の熱活性化および焼成。 高い表面積と活性点の保持。
半導体アニール シリコンまたは化合物半導体ウェハーの注入後または堆積後の熱処理。 拡散を最小限に抑えた精密なドーパント活性化。
酸化物合成 金属酸化物の固相反応による複合セラミックスや電子材料の形成。 精密なPID制御による均質な相形成。
材料疲労試験 高ストレスの産業環境をシミュレートするための冶金サンプルの垂直熱処理。 極端な熱負荷の信頼性の高い再現。
CVD研究 薄膜用途向けの常圧または低圧化学気相成長。 汚染のない環境とガス制御。
冶金R&D 高性能局所合金開発のための溶融および急冷研究。 高速な熱応答と垂直方向のアクセス性。

技術仕様

カテゴリ パラメータ TU-C19の仕様
チャンバー構造 外装材 空冷式二重鋼製ケーシング
断熱材 高純度1800℃グレード繊維状アルミナ
性能 最高温度 1700℃(1時間未満)
連続使用温度 800℃~1600℃
昇温/降温速度 5℃/分(1200℃以上) / 10℃/分(1200℃以下)
温度精度 ± 1℃
加熱ゾーン 総加熱長 120 mm
均熱ゾーン 70 mm(±1℃以内)
発熱体 U字型1800グレードMoSi2 4本
処理管 寸法 内径: 74 mm; 外径: 80 mm; 長さ: 1000 mm
材質 99.5% 高純度Al2O3セラミックス
付属品 繊維状セラミックチューブブロック2個付属
制御システム コントローラーモデル FA-YD518P-AG(オートチューニング付きPID)
プログラミング 30セグメント(昇温、降温、保持)
認証 MET認証(コントローラー)
アラーム 過熱および熱電対故障
真空・ガス シールタイプ 二重シリコンOリング付きステンレス鋼フランジ
真空レベル 50 m-torr(メカニカル) / 10^-5 torr(分子ポンプ)
バルブ/継手 ステンレス製ニードルバルブ2個; ダイヤル式真空計; 1/4インチバーブ継手
電気仕様 電圧 単相、220V AC、50/60 Hz
最大電力 4 KW
電源ケーブル 10フィート高耐久UL承認済み(10-3 AWG)
コンプライアンス 規格 CE認証; UL/CSA対応準備済み

運用ガイドラインおよび安全情報

  • 発熱体のメンテナンス: MoSi2発熱体は高温で保護的なSiO2膜を形成します。発熱体の損傷を防ぐため、400℃から700℃の間での長時間運転は避けてください。この特定の範囲では発熱体が急速に酸化(劣化)する可能性があります。
  • 圧力管理: 本システムは真空および低圧運転(0.02 Mpa未満)用に設計されています。ガスボンベには必ず2段式圧力調整器を使用し、入力を3 PSIに制限してください。
  • ガス流量の制限: 最適な性能と安全性を確保するため、ガス流量は200 SCCM以下に維持してください。
  • チューブの寿命: アルミナ管を使用する場合、構造的完全性を維持するため、真空圧力の印加は1500℃までとしてください。

TU-C19を選ぶ理由

  • 実証された熱的一貫性: MoSi2発熱体と高品質アルミナ断熱材の組み合わせにより、業界をリードする熱均一性と1700℃の最高性能が研究をサポートします。
  • 強固な真空完全性: 精密加工されたステンレス鋼フランジにより、敏感な半導体や航空宇宙材料の処理に不可欠な厳格な雰囲気純度を維持します。
  • 認証とコンプライアンス: 品質への取り組みはMET認証済み制御システムとCE適合に反映されており、貴施設の安全承認取得を迅速化します。
  • モジュール式のカスタマイズ: アップグレードされたEurothermコントローラーから自動化されたLabVIEWベースのソフトウェア監視まで、貴研究室の特定のデジタルインフラやデータロギング要件に合わせてシステムを調整可能です。
  • 工業グレードのビルド品質: 二重シェル鋼製ケーシングからUL承認済み電源ケーブルに至るまで、すべてのコンポーネントは、高スループットの産業およびR&D環境での長寿命化を考慮して選定されています。

見積もりのご依頼や、貴社の材料処理パラメータに合わせたカスタム構成のご相談は、今すぐ当社の技術営業チームまでお問い合わせください。

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