材料科学および産業用熱処理向け真空フランジ・プログラム温度コントローラー付き1100℃管状炉

管状炉

材料科学および産業用熱処理向け真空フランジ・プログラム温度コントローラー付き1100℃管状炉

商品番号: TU-16

最高温度: 1100°C 加熱ゾーンの長さ: 12インチ (300mm) 真空能力: 10^-5 Torrまで
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製品概要

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この高性能熱処理システムは、精密な材料科学研究および産業用ラボアプリケーション向けに設計されています。本装置は、最大1100℃までの加熱が可能な制御環境を提供し、高純度石英管と高度な真空フランジコンポーネントが統合されています。焼成、焼結、熱時効処理を行う研究者に堅牢なプラットフォームを提供し、急速加熱能力と長期的な熱安定性の間で重要なバランスを実現しています。高純度繊維断熱材と洗練された制御インターフェースを組み合わせることで、繊細な実験プロトコルを最高レベルの再現性で実行できます。

本装置の汎用性は、デュアルオリエンテーション(水平・垂直両対応)機能によって際立っています。炉体は柔軟な支持構造に取り付けられており、ユーザーは水平および垂直の両方の位置で操作可能です。この適応性は、ガス流動特性により垂直方向のチムニー効果が必要な化学気相成長(CVD)プロセスや、水平レイアウトが好まれる標準的な材料アニール処理に不可欠です。対象業界には、半導体製造、電池技術研究、先端セラミックスなどが含まれ、雰囲気の純度と温度勾配を制御する能力が成功の鍵となります。

工業グレードの信頼性を重視して構築された本ユニットは、省エネ型のAl2O3断熱材と高耐久ヒーターを採用し、長い運用寿命を保証します。熱損失を最小限に抑えつつ均一加熱ゾーンを最大化する設計により、最も繊細な熱反応に対しても安定した環境を提供します。内部コンポーネントは高温サイクルに耐えるよう設計されており、真空の完全性や温度精度を損なうことなく、24時間365日の過酷な研究サイクルにも対応可能です。

主な特徴

  • デュアルオリエンテーション柔軟設計: 3つのステンレス製ノブを備えた調整可能な高さのシャーシにより、垂直および水平操作をシームレスに切り替え可能です。垂直方向の重力供給プロセスから標準的な水平アニールまで、さまざまな実験セットアップに対応します。
  • 精密PID温度管理: 高度な自動PIDコントローラーを搭載し、30セグメントのプログラムが可能です。複雑な加熱、保持、冷却プロファイルを設定でき、±1℃の精度で試料の熱履歴を完全に制御します。
  • 優れた断熱性能: 内部には高純度Al2O3繊維断熱層がライニングされています。この軽量でエネルギー効率の高い素材は、消費電力を削減し、急速加熱を可能にすると同時に、動作中も外側のステンレス製シェルを低温に保ちます。
  • 高真空統合フランジ: バルブと機械式圧力計を備えた高耐久ステンレス製真空フランジが含まれています。これにより即座に真空環境を構築でき、メカニカルポンプで最大50 m-torr、分子ポンプシステムで10^-5 torrまでの真空度に到達可能です。
  • 堅牢な加熱エレメント: モリブデン(Mo)をドープしたFe-Cr-Al合金ヒーターを使用し、一貫した放射熱を提供します。これらのエレメントは、耐酸化性と1000℃の持続温度における構造的完全性を維持する能力に基づいて特別に選定されています。
  • カスタマイズ可能な処理管: 複数の石英管径(1インチまたは2インチ)に対応しており、特定のサンプルに最適な容量を選択できます。高純度石英は、汚染を最小限に抑え、急激な温度変化に対する優れた耐熱衝撃性を備えています。
  • 包括的な安全保護: 過熱アラームや熱電対断線保護などの安全機能を内蔵しています。センサー故障や熱暴走が発生した場合、自動的にヒーターへの電源を遮断し、装置と実験環境の両方を保護します。
  • スマート制御オプション: 標準インターフェースに加え、ノートPC統合用のソフトウェア制御にアップグレード可能です。これにより、ユーザーフレンドリーなデジタルプラットフォームを介した遠隔監視、データロギング、複雑な熱処理レシピの管理が可能になります。

用途

用途 説明 主な利点
炭素ナノ材料合成 高温下での窒素ドープ炭素材料の構造秩序化および黒鉛化。 電気伝導性の向上と安定したCo-Nクラスター形成。
触媒調製 安定したH2/Ar還元雰囲気下での担持銅種の精密還元。 焼結を防ぎ、最適な原子価分布(Cu0/Cu+)を維持。
活性炭研究 800-850℃の活性化段階における加熱速度と保持時間の精密制御。 安定したガス切り替えにより、微細孔分布と比表面積を調整。
半導体アニール 制御された真空または不活性ガス下でのシリコンウェハーや薄膜の熱処理。 汚染の最小化と高度に均一な結晶構造の形成。
先端セラミックス焼結 セラミックス粉末を高温で緻密で高強度の部品に固化。 PID精度による信頼性の高い密度制御と構造欠陥の防止。
CVD / PECVDプロセス 基板上での気相前駆体の化学反応による薄膜成長。 優れた流量制御と熱均一性による均一な膜厚の実現。
電池電極時効処理 リチウムイオン電池材料の熱安定性と電気化学的性能の試験。 再現性のあるサイクルによる極限動作条件の正確なシミュレーション。

技術仕様

パラメータ TU-16 仕様詳細
モデル番号 TU-16
最高温度 1100℃(1時間未満)
連続使用温度 1000℃
加熱速度 推奨10℃/分(最大)
加熱ゾーン長 12インチ(300 mm)
恒温ゾーン 4インチ(100 mm)、±2℃以内
加熱エレメント MoドープFe-Cr-Al合金
処理管材質 高純度石英管
管寸法(オプション1) 外径1.0" x 内径0.87" x 長さ24"
管寸法(オプション2) 外径2.0" x 内径1.85" x 長さ24"
温度コントローラー PID自動制御、30セグメントプログラム可能
温度精度 +/- 1℃
熱電対タイプ Kタイプ
真空度(メカニカルポンプ) 50 m-torr
真空度(分子ポンプ) 10^-5 torr
真空フランジセット 真空計およびニードルバルブ付きステンレス製
接続ポート 標準3/8"ホース継手(KF25またはSwagelokはオプション)
圧力モニタリング 機械式真空計(-0.1 ~ 0.15 MPa)
電源 AC 110V 単相 または AC 220V(合計1.2 KW)
定格電流 15 アンペア(110V) / 10 アンペア(220V)
垂直調整範囲 コントロールボックスプラットフォームから4.5" ~ 12"
コンプライアンス CE認証(NRTL/CSAはオプション)

TU-16が選ばれる理由

  • 工業レベルの精度と均一性: TU-16は、100mmの非常に安定した恒温ゾーンを提供するよう設計されており、焦点ゾーン内の位置に関係なく、サンプルが均一な熱変態を受けることを保証します。このレベルの精度は、わずかな温度変動がデータ整合性を損なう可能性がある重要なR&Dにおいて不可欠です。
  • 比類のない構成の柔軟性: 標準的な固定式炉とは異なり、TU-16は垂直および水平の両方の操作をサポートします。これにより、従来の材料アニールから複雑な垂直気相成長や急冷プロセスまで、1台の投資で複数のラボ機能を果たすことができます。
  • 優れた材料の完全性: Moドープヒーターと高純度Al2O3断熱材を使用することで、本システムは長寿命を実現しています。低品質のラボ用オーブンに見られる劣化に強く、数百回の熱サイクルにわたって真空シールと温度校正を維持します。
  • 高度な雰囲気制御: 統合されたステンレス製フランジと真空定格バルブにより、不活性、還元、または真空雰囲気で作業する研究者にターンキーソリューションを提供します。10^-5 torrに到達する能力は、酸素や湿気と反応する繊細な材料にとって高性能な選択肢となります。
  • 専門的なサポートとコンプライアンス: すべてのユニットはCE認証を受けており、厳格な安全基準に基づいて構築されています。THERMUNITSは包括的な技術サポートとカスタマイズオプションを提供し、既存のワークフローや安全プロトコルに装置が完璧に適合することを保証します。

詳細な見積もりや、研究室向けのカスタム熱処理構成に関するご相談は、今すぐ当社の技術営業チームまでお問い合わせください。

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