1100℃材料研究用 高磁場対応チューブ炉（雰囲気制御・水冷非磁性筐体仕様）

製品概要

この特殊な熱処理システムは、高強度磁場環境との統合を前提に設計されており、熱と磁気の両方のストレスを同時に必要とする研究をサポートします。少なくとも100mmの磁気ボア内で動作するように設計されており、10テスラを超える磁場下での材料挙動を分析するための安定した1100℃の環境を提供します。高度な非磁性構造と特殊な加熱アーキテクチャを採用することで、電磁力による機械的干渉を受けることなく、繊細な実験条件を維持します。

本装置の主な用途には、先端材料科学、超伝導研究、スピントロニクス研究などが含まれます。次世代触媒、磁性薄膜、高性能合金の開発に注力する産業用R&Dセンターや大学の研究室にとって不可欠なツールです。設計においては磁場の完全性を優先しつつ、繊細なサンプルにおける相変態や構造秩序化に必要な高温性能を実現しています。

信頼性と一貫性は、本システムのエンジニアリングの根幹です。堅牢な水冷式SS316オーステナイト系ステンレス鋼筐体と精密制御されたDC電源供給により、長時間の実験においても卓越した安定性を維持します。本装置は高磁場研究の厳しい要求に耐えるよう構築されており、設計の不十分なシステムで発生しがちな熱プロファイルの変動や構造振動によってデータが損なわれる心配がなく、研究者に確信を提供します。

主な特徴

• 高磁場適合性: 10テスラを超える磁場内での動作を前提に特別に設計されており、非磁性材料と最適化された形状により、繊細な測定機器への干渉を防ぎます。
• ローレンツ力緩和: 二重螺旋巻き加熱エレメントを採用し、ローレンツ力を打ち消して最小限に抑えることで、強磁束下でも加熱アセンブリの機械的安定性と長寿命を保証します。
• SS316オーステナイト系筐体: 炉体全体が高品位なSS316非磁性オーステナイト系ステンレス鋼で構成されており、産業用途に必要な構造的耐久性を備えつつ、磁場に対して完全に透過的です。
• 精密PID温度制御: 50セグメントのプログラム可能な高度なコントローラーを搭載し、±0.1℃の温度精度を維持することで、極めて精密な熱処理レシピと再現性の高い実験サイクルを可能にします。
• 統合型水冷アーキテクチャ: 高効率な水冷ジャケットにより、炉の外表面を25℃以下に維持し、外部の磁石や繊細な実験環境を熱放射や漏洩から保護します。
• 10kW安定化DC電源: 大容量DC電源システムが加熱エレメントに安定したリップルフリーのエネルギーを供給し、高温処理中の安定した電磁環境維持に不可欠な役割を果たします。
• 不活性雰囲気の最適化: モリブデン抵抗線加熱エレメントを使用し、高純度不活性ガス環境向けに設計されているため、酸化を防ぎ、材料処理環境の純度を確保します。
• デュアルセンサー熱監視: 内部プロセス制御用のS型熱電対と、処理チューブの表面温度を監視するT型センサーを備えており、安全性を確保し、石英管の失透を防ぎます。
• 気密プロセスチャンバー: 精密圧縮フィッティングを備えた一対のSS316真空フランジにより、最大3psigまでの真空または加圧ガス運用において、安全で漏れのない環境を保証します。

用途

技術仕様

TU-C25が選ばれる理由

• 専門的な磁気エンジニアリング: 標準的な実験用炉とは異なり、本システムは非磁性冶金と二重螺旋エレメントを用いて特別に設計されており、機械的故障や磁場歪みを起こすことなく高磁場環境で優れた性能を発揮します。
• 産業グレードの熱安定性: 10kWのDC電源と±0.1℃のPID制御の組み合わせにより、高磁場アプリケーションにおいて現在利用可能な最も安定した熱プロファイルで研究をサポートします。
• 強化された安全プロトコル: 統合センサーが表面温度を監視し、オペレーターと炉外部の高価な磁石システムの両方を保護し、繊細なクライオスタットの過熱を防止します。
• 優れたビルド品質: 高品位なSS316とモリブデンエレメントを採用しており、過酷なR&Dサイクルや産業用材料処理において長期的な運用の一貫性を実現します。
• カスタマイズ可能な統合: 真空ポンプのオプションからガス配管マニホールドまで、ガスに敏感な研究や真空依存の研究プロトコルの特定の要件に合わせてシステムを調整可能です。

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