製品概要
この高温スプリットチューブ炉は、先進材料科学および産業R&Dのための精密工学の頂点を体現する装置です。最高1500°Cまでの温度で動作するよう設計されており、独自の分割可能なアルミナ管チャンバーにより、迅速な試料アクセスと複雑な実験セットアップの容易な統合が可能です。高性能シリコンカーバイド（SiC）加熱素子と多用途のチューブ構成を組み合わせることで、焼結、アニーリング、化学気相成長などの重要プロセスに必要な安定した熱環境を提供します。
この装置の主な価値は、真空および制御雰囲気の両条件に対応できる柔軟性にあります。高品質のステンレス製真空シーリングフランジと高純度アルミナ管を装備し、半導体製造、航空宇宙材料開発、触媒研究を含むさまざまな産業で厳格な熱処理をサポートします。スプリット設計は、周辺の試料セットアップやガス接続を乱すことなく、プロセスチューブの挿入・取り外しを頻繁に行う必要がある研究者にとって特に有利です。
過酷な産業用途および研究室用途向けに設計されたこの炉は、空冷技術を採用した二重層鋼製ケーシング内に構築されており、安全な外装温度を維持します。繊維状アルミナ断熱材から高度なPIDコントローラに至るまで、すべての部品は長期的な信頼性と安定性を確保するために選定されています。このシステムは、精度と安全性が妥協できない高温処理プロトコルにおいて、調達部門や研究室管理者に堅牢で高可用性のソリューションを提供します。
主な特長
- 分割可能なチャンバー構造: 長手方向のスプリット設計により、処理ゾーンへの比類のないアクセス性を実現します。これにより、オペレーターは炉全体を分解することなく、アルミナ管の設置・取り外し、内部熱電対の管理、試料位置の調整を容易に行え、実験ごとのダウンタイムを大幅に削減します。
- 先進シリコンカーバイド（SiC）加熱素子: 高品質な1500グレードのSiCロッドが、効率的で均一な輻射熱を供給します。これらの素子は急速な熱サイクルに対応し、高温安定性を維持するよう特別に構成されており、重要な産業プロセスにおいて機器が定格最高温度に確実に到達できるようにします。
- 高精度PID温度制御: 統合デジタルコントローラは比例・積分・微分制御ロジックと自動チューニング機能を備えています。昇温、冷却、保持用に30のプログラム可能なセグメントを備え、±1°Cの精度を実現し、繊細な材料合成に必要な再現性の高い熱サイクルを提供します。
- 安全インターロック一体型保護: 多忙な研究室環境での作業者の安全を確保するため、システムには内蔵インターロック機構が搭載されています。この安全機能は、炉のカバーが開かれると自動的に加熱素子への電力供給を遮断し、偶発的な高電圧または極端な熱放射への曝露を防ぎます。
- 高性能真空シーリングフランジ: 各ユニットには、バルブとゲージを備えた高機能ステンレス製真空フランジが2つ含まれます。この構成により、高真空環境と加圧ガス流条件をシームレスに切り替えられ、幅広い雰囲気制御ニーズに対応します。
- 二重層空冷鋼製ケーシング: 炉の筐体は内部空冷ファンシステムを備えた設計です。この二重壁構造により、内部チャンバーが1500°Cに達しても外表面は60°C未満に保たれ、作業者および周囲の繊細な研究室機器を保護します。
- 産業グレードの断熱: 高純度の繊維状アルミナ断熱材を採用し、炉は熱損失を最小化してエネルギー効率を最大化します。内面の特殊耐火コーティングは、繰り返しの高温サイクルによる劣化に耐えることで、断熱材の使用寿命をさらに延ばします。
- 多用途な雰囲気制御: 本装置は多様なガス環境向けに最適化されています。ターボ分子ポンプ使用時に10^-5 torrまでの真空レベルを維持できるほか、不活性ガスの流通にも対応し、黒鉛化、炭化、および特殊な酸化研究に理想的なプラットフォームです。
用途
| 用途 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| 触媒黒鉛化 | フェノール樹脂炭素と触媒を超高温で処理し、非晶質炭素をグラファイト構造へ変換します。 | 優れた熱場均一性により、Ni-Zn-B触媒の効率を確保します。 |
| 化学気相成長（CVD） | 半導体用途向けに、シリコン基板上へ高品質薄膜および3C-SiC膜を成長させます。 | ガス流量と温度勾配を精密に制御し、一貫した膜厚を実現します。 |
| セラミックス焼結 | セラミック粉末を高温で緻密化し、高性能な構造部材へと成形します。 | 熱変動を最小限に抑え、割れを防ぎ、材料密度を向上させます。 |
| 電池材料R&D | 制御された不活性雰囲気下で電極材料を熱処理し、電気化学特性を向上させます。 | 高信頼性の真空シーリングにより、繊細な粉末の酸化を防止します。 |
| 半導体アニーリング | 制御された加熱により、シリコンウエハーやその他基板の物理的・電気的特性を調整します。 | 急速冷却機能により、ドーパント拡散プロファイルを精密に制御できます。 |
| 航空宇宙複合材 | 1500°Cの熱プロファイルを厳守する必要がある先進合金および複合材料の熱処理に対応します。 | 堅牢なSiC素子が、大きな試料負荷に必要な高ワット出力を提供します。 |
技術仕様
| パラメータ | TU-63-2（2インチ仕様） | TU-63-3（3インチ仕様） |
|---|---|---|
| モデル識別子 | TU-63-2 | TU-63-3 |
| 標準アルミナ管サイズ | 外径50mm × 内径40mm × 長さ1000mm | 外径76mm × 内径67mm × 長さ1000mm |
| 加熱素子タイプ | SiCロッド16本（1500グレード） | SiCロッド16本（1500グレード） |
| 最高温度 | 1500°C（1時間未満） | 1500°C（1時間未満） |
| 連続運転温度 | 1400°C | 1400°C |
| 加熱速度 | 最大10°C/分（管に依存） | 最大10°C/分（管に依存） |
| 冷却速度 | < 5°C/分（アルミナ専用） | < 5°C/分（アルミナ専用） |
| 温度精度 | ±1°C | ±1°C |
| 総加熱ゾーン長 | 390 mm | 390 mm |
| 定温ゾーン | 150 mm（±2°C） | 150 mm（±2°C） |
| 電圧要件 | 208 - 240VAC 単相 | 208 - 240VAC 単相 |
| 消費電力 | 6.0 KW | 6.0 KW |
| 熱電対タイプ | Sタイプ | Sタイプ |
| 到達真空レベル | 10^-2 torr（機械式） / 10^-5 torr（ターボ） | 10^-2 torr（機械式） / 10^-5 torr（ターボ） |
| リーク率 | < 5 mtorr / 分 | < 5 mtorr / 分 |
| 圧力監視 | 機械式ゲージ（-0.1 ～ 0.15Mpa） | 機械式ゲージ（-0.1 ～ 0.15Mpa） |
| 適合規格 | CE認証済み（UL/CSA対応可） | CE認証済み（UL/CSA対応可） |
このスプリットチューブ炉を選ぶ理由
- 実証された長期信頼性: 1500グレードのSiC加熱素子と垂直ロッド設置を採用し、性能劣化なく過酷な連続産業使用に耐えられるよう設計されています。
- 強化された運用安全性: 熱危険からユーザーを保護する統合インターロックシステムから二重層冷却ケーシングまで、あらゆる設計要素が研究者に安全な作業環境を提供することを最優先しています。
- 精密製造基準: 高純度の繊維状アルミナと特殊耐火コーティングの使用により、炉は熱的完全性を維持し、メンテナンス頻度と総所有コストを低減します。
- 多用途なフランジ設計: スマートなステンレス製フランジシステムは、高真空の保持性と使いやすさを考慮して設計されており、異なる雰囲気処理モード間の迅速な切り替えを可能にします。
- カスタマイズ可能な制御オプション: 標準の30セグメントPID制御に加え、本システムはコンピュータ化されたデータロギングやPC通信ポートでアップグレードでき、現代のR&D研究室の特定の記録要件に対応できます。
当社の技術エンジニアチームが、お客様の独自の高温処理要件に最適な熱ソリューションの構成をお手伝いします。技術相談または正式なお見積りについては、今すぐお問い合わせください。
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