材料アニール用3層真空ジャケット・非磁性SS316L製高磁場対応チューブ炉

製品概要

この高精度熱処理システムは、強磁場環境下での材料アニール用途に特化して設計されています。磁気透過率がほぼゼロの特殊な構造材料を使用することで、超伝導強磁場磁石の内部で熱処理を行っても、磁束の歪みや磁気吸引による機械的応力を発生させません。本装置は、量子材料、超伝導、先端磁気学の研究者にとって不可欠なツールです。

本システムは、加熱エレメントコア、専用サンプルチャンバー、真空/ガス絶縁冷却ジャケットを統合した高度な3層構造を採用しています。この構成により、高温動作を維持しつつ炉の外面を安全な温度に保ち、周囲の超伝導磁石コンポーネントへの熱干渉を防ぎます。極限の電磁条件下で精密な熱制御を必要とする研究室や産業用R&D施設にとって最適なソリューションです。

長期的な信頼性と一貫性を追求し、構造部品には高品質なSS316Lステンレス鋼を、加熱エレメントには先進的な炭化ケイ素（SiC）を採用しています。これらの選択は、過酷な真空および高温サイクル下での耐久性と性能へのこだわりを反映しています。磁気干渉や熱漏れが問題となる繊細な実験セットアップにおいても、本装置は再現性の高い結果を提供します。

主な特長

• 非磁性SS316L構造： 炉体全体に磁気透過率が無視できるほど低い高品質なSS316Lステンレス鋼を使用。強磁場磁石内に直接配置しても、磁場の歪みや変位を引き起こしません。
• 3層熱管理： 独自の3層チューブ構造を採用。内部のSiCフィラメントが熱源となり、中間の石英層がサンプルを保持し、外側のガス冷却ジャケットが外壁温度を30ºC以下に保ち、外部センサーや超伝導磁石を保護します。
• 高効率炭化ケイ素（SiC）加熱： 中心スパイラル型のSiCフィラメントにより、コアゾーンで迅速かつ均一な加熱を実現。高温での安定性と真空ジャケット環境下での有効な動作能力により選定されています。
• 精密PID温度制御： 30セグメントのプログラムが可能な高度な自動PIDコントローラーを搭載。オートチューニング機能と±1ºCの精度により、厳密に制御された条件下での繊細な材料変態を可能にします。
• 統合型安全保護： 熱電対の故障や過熱に対する保護機能を内蔵。装置の完全性とサンプルの安全性が最優先される長時間の熱処理プロセスにおいて不可欠です。
• 優れた真空性能： 高真空システムとの接続を想定しており、分子ポンプとの併用で10^-5 Torrまでの真空度に到達可能です。真空シールされたフランジにより、繊細な材料処理のための汚染のない環境を確保します。
• アクティブ冷却ジャケット： 外径90mmの特殊な外層がガス冷却式の熱バリアとして機能。磁石ボア内への熱放射を防ぎ、超伝導システムの極低温安定性を維持するために不可欠です。
• 柔軟なガスハンドリング： 標準でバーブホース継手を装備。KF25アダプターやSwagelok継手にアップグレードすることで、高純度ガス供給や高スループットの真空要件にも対応可能です。

用途

技術仕様

TU-C26が選ばれる理由

この専用チューブ炉を選択することは、強磁場研究というニッチな要件に特化したソリューションに投資することを意味します。磁性合金を使用したり、限られた磁石ボア用の十分な断熱性能を欠く標準的な炉とは異なり、本システムはSS316Lと3層ジャケットを用いてゼロから構築されています。これにより、研究環境の安定性が保たれ、磁石を低温に維持し、迷走磁場の影響を受けない信頼性の高いデータを取得できます。

本装置の優れたエンジニアリングは、その熱的精度と堅牢な真空性能に表れています。700mmの均熱ゾーンと高真空到達能力により、最も繊細な材料アニールプロセスに対して非常に安定したプラットフォームを提供します。UL認証部品の採用とCE準拠は、ラボ機器製造における安全性と国際基準への取り組みを裏付けています。

さらに、チューブサイズのカスタマイズや特殊な継手ポートの提供により、既存の実験セットアップへの最小限の変更で統合が可能です。シームレスな設置と運用のために、包括的な技術サポートとドキュメントを提供します。詳細な見積もりや、お客様の特定の強磁場研究要件については、今すぐ弊社の技術営業チームまでお問い合わせください。