研究室材料研究および高度な産業用熱処理向け 1100℃ マルチポジション管状炉

管状炉

研究室材料研究および高度な産業用熱処理向け 1100℃ マルチポジション管状炉

商品番号: TU-15

最高温度: 1100°C 加熱ゾーンの長さ: 12インチ (300mm) 温度精度: ±1°C
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製品概要

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このマルチポジション熱処理システムは、先端材料研究のための多用途なソリューションであり、垂直および水平の両方の操作を可能にするユニークな機械設計を提供します。最大1100°Cの温度に到達するように設計されており、小型サンプルの焼成、複雑な気液固(VLS)成長、化学気相成長(CVD)、および急速冷却試験を容易にする、コンパクトかつ高性能な環境を提供します。本装置の核心的な価値はその適応性にあります。ステンレス製のシェルは高さ調節可能なプラットフォームに取り付けられており、研究者は実験プロトコルの重力や方向の要件に合わせて、加熱チャンバーを正確に向き調整することができます。

現代の産業用R&Dおよび材料科学研究室の厳しい環境向けに設計されたこのシステムは、精度と一貫性を重視しています。高純度アルミナ繊維断熱材の採用により、迅速な加熱サイクルと優れたエネルギー効率を実現しつつ、外殻を低温に保ちます。半導体産業における電子結晶の成長や、エネルギー研究におけるプロトン導電性セラミックスの焼結など、どのような用途においても、再現性の高い熱プロファイルを提供します。モジュール式であるため、さまざまなチューブ径や真空構成をシームレスに統合でき、空間的な柔軟性を犠牲にすることなく高温精度を必要とする研究室にとっての基盤ツールとなります。

本装置のすべてのコンポーネントには、性能への信頼性が組み込まれています。モリブデン添加Fe-Cr-Al合金発熱体から高度なPID制御アーキテクチャに至るまで、システムは1000°Cでの連続運転に耐えられるよう製造されています。堅牢な構造に加え、過熱保護や熱電対断線アラームなどの安全機能が備わっており、重要な産業プロセスを安全に維持します。このシステムは単なる炉ではなく、学術界および産業界における最も厳格な熱処理アプリケーションに対して長期的な信頼性を提供する精密機器です。

主な特徴

  • マルチポジションの機械的柔軟性: 調整可能なステンレス製シェルを備えた独自の設計により、垂直、水平、または傾斜位置に固定可能です。これにより、垂直焼結から水平結晶成長、傾斜CVDプロセスまで、多様な用途に対応します。
  • 精密PID温度制御: 高度な自動PIDコントローラーを搭載し、30セグメントのプログラム設定をサポートしています。これにより、加熱速度、保持時間、冷却勾配を正確に定義し、特定の冶金学的または化学的変化を実現できます。
  • 高純度アルミナ繊維断熱材: 内部チャンバーには、省エネ型の高純度Al2O3繊維断熱材がライニングされています。この素材は優れた熱反射率と低い蓄熱性を持ち、従来の耐火レンガと比較して、より速い昇温速度と消費電力の削減を実現します。
  • 多様なチューブ互換性: さまざまな直径の石英処理チューブに対応するように設計されており、精密加工された付属のアダプターを介して1インチおよび2インチの外径の両方をサポートします。この柔軟性により、別の加熱ユニットを必要とせずに特殊なサンプルサイズに対応可能です。
  • モリブデン添加の先端発熱体: モリブデンを添加したFe-Cr-Al合金発熱体を使用することで、高温サイクル下でも安定した抵抗値と長い耐用年数を確保します。これらの発熱体は、300mmの均一な加熱ゾーンを提供するよう戦略的に配置されています。
  • 高さ調整制御機構: 構造背面の3つの精密ノブにより、制御プラットフォームに対する炉の垂直位置を4.5〜12インチの範囲で調整可能です。これにより、外部の冷却タンクや二次処理装置との統合が容易になります。
  • 統合された安全・診断機能: 制御システムには過熱および熱電対断線に対する保護機能が組み込まれており、無人運転中の機器損傷やサンプル損失を防ぐため、自動的に発熱体への電源を遮断します。
  • 真空・雰囲気対応設計: 炉本体は主要コンポーネントですが、高真空アプリケーション向けに設計されています。互換性のあるフランジと石英ブロックを装備すれば、分子ポンプを使用して10^-5 torrまでの真空レベルに到達可能であり、酸素に敏感なプロセスにも適しています。
  • 堅牢な産業用ビルド品質: 外装ケースは高級ステンレス鋼で構成されており、過酷な研究室環境においても耐食性と構造的完全性を提供します。コンパクトな設置面積により、熱性能を損なうことなくベンチトップスペースを効率的に使用できます。

アプリケーション

アプリケーション 説明 主な利点
CVD / PECVD 制御された温度下での化学気相成長による薄膜およびナノ構造の成長。 正確な雰囲気制御と高真空互換性により、純粋な膜成長を保証。
結晶成長 水平または傾斜方向を利用した、電子結晶のブリッジマン法またはVLS成長の促進。 傾斜角度の調整により、重力支援成長と最適化された温度勾配が可能。
冷却試験 垂直方向から冷却媒体へサンプルを落下させることによる急速冷却。 垂直傾斜機能により、重力を利用した直接的なサンプル移送が可能。
焼結 金属またはセラミック粉末を最大1100°Cで固体形状に固める。 均一な定温ゾーンにより、一貫した密度と微細構造を確保。
プロトン導電性セラミックス 水素燃料電池研究のための電気化学セルおよび足場の焼成と試験。 高純度断熱材がサンプルの汚染を防ぎ、長時間の熱安定性を確保。
半導体R&D 半導体ウェハーおよび小型基板の熱酸化、アニール、ドーピング。 ±1°Cの精度により、電子部品試験に必要な再現可能な条件を提供。
材料疲労 繰り返し熱サイクルと保持時間による合金の構造的完全性の試験。 30セグメントプログラミングにより、複雑で自動化された熱応力プロファイルが可能。

技術仕様

機能グループ パラメータ TU-15の仕様詳細
熱性能 最高温度 1100 °C (1時間未満)
連続使用温度 1000 °C
最大昇温速度 10 °C / 分
温度精度 ± 1 °C
物理寸法 加熱ゾーン長 12インチ (300 mm)
定温ゾーン 3.1インチ (80 mm)
位置移動距離 4.5インチ ~ 12インチ (プラットフォームからの高さ調整可能)
チューブ径互換性 1.0インチおよび2.0インチ外径 (アダプター付属)
電気データ 消費電力 1500 W
定格電流 15 A
動作電圧 AC 110V または 220V 単相 (ユーザー選択可能)
制御システム コントローラータイプ PID自動制御 (オートチューニング機能付)
プログラミング 30セグメント (加熱、保持、冷却)
熱電対 Kタイプ
コンピュータインターフェース オプションのMTS02-Yソフトウェアキット + ノートPC利用可能
材料・安全 断熱材 省エネ型高純度Al2O3繊維ライナー
発熱体 モリブデン添加Fe-Cr-Al合金
認証 CE認証 (ご要望に応じてNRTL/CSA/UL61010対応可能)
安全機能 過熱および熱電対断線保護
真空能力 メカニカルポンプ限界 50 m-torr (適切なフランジ/チューブ使用時)
分子ポンプ限界 10^-5 torr (適切なフランジ/チューブ使用時)
ガス流量制限 熱衝撃低減のため200 ml/分未満を推奨

このマルチポジション管状炉を選ぶ理由

  • 比類のない位置調整の柔軟性: 固定式ユニットとは異なり、本システムは水平および垂直方向をシームレスに切り替え可能です。この適応性により、複数の炉を購入することなく、焼結から冷却まで幅広い実験を一つの研究室で行うことができます。
  • 高度な熱工学: モリブデン添加発熱体と高性能繊維断熱材を使用することで、優れた熱均一性とエネルギー効率を実現しています。これにより、運用コストの削減と、より正確な実験データの取得が可能になります。
  • 堅牢な信頼性と安全性: ステンレス製シェルと高性能な安全電子機器で構築されており、連続的な多シフト運用を前提に設計されています。国際的なCE規格に準拠しており、重要な産業用R&D環境にも安心して導入できます。
  • 複雑なレシピのための精密制御: 30セグメントPIDコントローラーは、特定の昇温・保持・冷却プロファイルを必要とする繊細な材料に対して必要な粒度を提供し、研究の再現性と材料の仕様通りの処理を保証します。
  • 専門的な技術サポートとカスタマイズ: メーカーとして、深い技術的専門知識を提供し、お客様固有の処理ニーズに合わせて、カスタマイズされたソフトウェアインターフェース、特殊なチューブ材料、真空フランジ構成などを提案可能です。

この炉への投資は、研究ニーズの成長に合わせて拡張できる、柔軟で耐久性が高く、非常に正確な熱処理プラットフォームを確保することを意味します。詳細な見積もりや、お客様の特定の高温アプリケーション要件についてのご相談は、今すぐお問い合わせください。

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