管状炉

縦型開閉式チューブ炉 0-1700℃ 高温実験装置 CVD・真空熱処理対応

商品番号: TU-21

最高温度: 1700°C 温度均一性: ±1.5°C 究極真空度: 5×10⁻⁴ Pa

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製品概要

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本高温実験装置は熱工学の頂点を極め、厳格な材料研究・開発・プロセス検証向けに特別設計されています。高温加熱、高度な真空・雰囲気制御、急速熱処理機能を統合することで、最も要求の厳しい研究環境に対応する多用途プラットフォームとして機能します。縦型開閉構造は最大限のアクセス性と柔軟性を実現するよう設計されており、研究者が基本的な材料焼結から複雑な化学気相成長(CVD)や真空焼鈍までシームレスに移行することを可能にします。産業級の堅牢性を備えた本装置は、大学研究室、半導体R&Dセンター、航空宇宙製造分野の材料科学者が必要とする精度を提供します。1700℃の高温、高真空または特殊ガス雰囲気下での運転においても、すべての熱サイクルが安定的で再現性が高く安全であることを保証し、エンジニアリング品質へのコミットメントを体現しています。

主な特長

縦型開閉アーキテクチャ: 炉体は縦方向に分離する設計で、反応管へ180度全開でアクセスでき、サンプルの装填・メンテナンス、内部モニタリングセンサーや焼入れモジュールの組み込みが容易です。
3ゾーン高精度加熱: 3つの独立した温度ゾーンの個別制御による高度な多段階プログラミングにより、広範な恒温域を確保し、最適化された熱補償で±1.5℃の均一性を実現します。
高純度アルミナ断熱材: チャンバーには1700級高純度アルミナ多結晶ファイバーを採用。低熱容量と優れた熱衝撃耐性を持つこの素材により、急速昇温とエネルギー効率を確保しています。
先進的MoSi2発熱体: 高密度ケイ化モリブデンロッドを搭載した加熱システムは極限温度での連続運転が可能で、1800℃までの環境が必要な場合はオプションでアップグレード可能です。
一体型急速冷却システム: 内蔵の空冷循環システムとオプションの水冷フランジにより高速降温を実現し、相変化研究のためサンプルを10秒以内で焼入れ処理することが可能です。
高度な真空シーリング: 装置は二重O型フッ素ゴムシーリングシステムと水冷フランジを搭載しており、高性能分子ポンプユニットと組み合わせることで真空リーク率≤5×10⁻⁴ Pa・m³/sを達成します。
インテリジェントPID制御ロジック: 日本製島津製作所または欧州製コンチネンタルの高性能計測器を採用し、50区画のプログラミング、RS485通信、複数のプロセスプロファイルのプリセット保存に対応しています。
雰囲気管理スイート: 高精度電磁弁と圧力レギュレーターを備えた2系統質量流量計システムにより、水素を含む不活性ガスまたは反応性ガスの制御された導入を可能にします。
包括的な安全インターロック: システムは過昇温時自動遮断、熱電対断線警報、水圧監視、緊急減圧弁など複数の安全層で保護されています。
モジュール式拡張互換性: 多用途性を考慮して設計されたこのプラットフォームは、回転サンプルステージ、赤外線温度計、ガス分析計などの外部モジュールに対応し、進化する研究ニーズに適応します。

用途

用途	説明	主なメリット
半導体CVD	シリコンまたはサファイア基板への蒸気前駆体を用いた薄膜・ナノ材料の成膜	正確なガス流量と温度制御により、均一な膜厚と高純度を確保します。
航空宇宙セラミックス	セラミック基複合材料(CMC)やタービン部品の高温焼結・応力試験	縦型構造により長尺構造部品を収容しつつ、極めて高い熱安定性を維持します。
リチウム電池R&D	制御された窒素またはアルゴン雰囲気下での正極・負極材料の仮焼・合成	熱サイクルの再現性が高いため、一貫した電気化学性能データが得られます。
真空焼鈍	無酸素環境下での高融点金属・特殊合金の応力除去・結晶粒組織調整	酸化や汚染を防止し、サンプルの冶金的完全性を維持します。
急速焼入れ	産業冷却プロセスをシミュレートした急降温後の材料特性試験	数秒での非平衡相・微細組織発達の研究を可能にします。
固体照明	高純度熱環境が必要な蛍光体・光学結晶の合成	クリーンなアルミナチャンバーがドーパントの相互汚染を防止し、高い発光収率を確保します。
カーボンナノチューブ成長	化学気相成長によるCNTフォレスト・グラフェン構造の垂直成長	成長ゾーン全体の最適化された温度勾配により、優れた配向性と密度を実現します。

技術仕様

パラメータ区分	TU-21の仕様詳細
最高使用温度	1700℃ (MoSi2発熱体); オプションで1800℃ (黒鉛/SiC)に対応
昇温速度	最大≤15℃/分; 推奨≤10℃/分
降温速度	最大≤10℃/分; 焼入れモジュールで10秒以下の降温を達成
温度均一性	±1.5℃ (150mmの恒温域内)
温度制御	日本製島津 FP93 / コンチネンタル 3504; 50区画; PID自動調整
炉体素材	1700級高純度アルミナ多結晶ファイバー
標準チューブサイズ	コランダムチューブ (外径Φ60mm × 長さ1200mm)
チューブ素材オプション	石英、ステンレス鋼、またはカスタム耐火チューブ (Φ30-100mm)
耐圧性能	≤ 0.1MPa (真空/加圧)
真空性能	油回転ポンプ: 5×10⁻² Pa; 分子ポンプ: 5×10⁻⁴ Pa
シーリングインターフェース	二重O型フッ素ゴム (耐熱250℃) + KF25フランジ
ガス制御システム	2系統質量流量計 (0-500sccm); 精度±1%
電源設定	220V/380Vの電圧カスタマイズに対応
構造設計	縦型二層ステンレス鋼シェル一体型空冷式
安全保護	過昇温遮断、熱電対断線、水圧・ガス圧警報、漏電ブレーカー
外形寸法	移動用キャスター・水平調整脚付き縦型設置

当社を選ぶ理由

実証済みの長期信頼性: 産業級部品と二層シェルで構築された本炉は、重要性の高い研究環境での連続運転に耐え、性能低下することがありません。
比類ない熱精度: 3ゾーン独立補償技術により、敏感なCVDや焼結プロセスの成功に不可欠な温度均一性と安定性を実現しています。
他にないモジュール柔軟性: 高真空、特殊ガス回路、回転サンプルステージのいずれが必要な場合でも、このシステムはモジュールインターフェースにより研究ニーズの成長に合わせて拡張することができます。
厳格な安全基準: 水素ガスの取り扱いから高圧逃がしまで、システムに冗長化された安全機構を組み込み、研究室のスタッフと高価値材料を保護します。
精密な製造: すべてのユニットは厳格な校正と真空リーク試験を経て、産業級堅牢性と技術的優秀性に関する当社の厳しい基準を満たすことを確認しています。

お客様固有の材料加工要件に合わせた詳細な見積もり、またはカスタマイズされたソリューションのご相談は、今すぐ当社テクニカルセールスチームまでお問い合わせください。

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