縦型開閉式チューブ炉 0-1700℃ 高温実験装置 CVD・真空熱処理対応

製品概要

本高温実験装置は熱工学の頂点を極め、厳格な材料研究・開発・プロセス検証向けに特別設計されています。高温加熱、高度な真空・雰囲気制御、急速熱処理機能を統合することで、最も要求の厳しい研究環境に対応する多用途プラットフォームとして機能します。縦型開閉構造は最大限のアクセス性と柔軟性を実現するよう設計されており、研究者が基本的な材料焼結から複雑な化学気相成長(CVD)や真空焼鈍までシームレスに移行することを可能にします。産業級の堅牢性を備えた本装置は、大学研究室、半導体R&Dセンター、航空宇宙製造分野の材料科学者が必要とする精度を提供します。1700℃の高温、高真空または特殊ガス雰囲気下での運転においても、すべての熱サイクルが安定的で再現性が高く安全であることを保証し、エンジニアリング品質へのコミットメントを体現しています。

主な特長

• 縦型開閉アーキテクチャ: 炉体は縦方向に分離する設計で、反応管へ180度全開でアクセスでき、サンプルの装填・メンテナンス、内部モニタリングセンサーや焼入れモジュールの組み込みが容易です。
• 3ゾーン高精度加熱: 3つの独立した温度ゾーンの個別制御による高度な多段階プログラミングにより、広範な恒温域を確保し、最適化された熱補償で±1.5℃の均一性を実現します。
• 高純度アルミナ断熱材: チャンバーには1700級高純度アルミナ多結晶ファイバーを採用。低熱容量と優れた熱衝撃耐性を持つこの素材により、急速昇温とエネルギー効率を確保しています。
• 先進的MoSi2発熱体: 高密度ケイ化モリブデンロッドを搭載した加熱システムは極限温度での連続運転が可能で、1800℃までの環境が必要な場合はオプションでアップグレード可能です。
• 一体型急速冷却システム: 内蔵の空冷循環システムとオプションの水冷フランジにより高速降温を実現し、相変化研究のためサンプルを10秒以内で焼入れ処理することが可能です。
• 高度な真空シーリング: 装置は二重O型フッ素ゴムシーリングシステムと水冷フランジを搭載しており、高性能分子ポンプユニットと組み合わせることで真空リーク率≤5×10⁻⁴ Pa・m³/sを達成します。
• インテリジェントPID制御ロジック: 日本製島津製作所または欧州製コンチネンタルの高性能計測器を採用し、50区画のプログラミング、RS485通信、複数のプロセスプロファイルのプリセット保存に対応しています。
• 雰囲気管理スイート: 高精度電磁弁と圧力レギュレーターを備えた2系統質量流量計システムにより、水素を含む不活性ガスまたは反応性ガスの制御された導入を可能にします。
• 包括的な安全インターロック: システムは過昇温時自動遮断、熱電対断線警報、水圧監視、緊急減圧弁など複数の安全層で保護されています。
• モジュール式拡張互換性: 多用途性を考慮して設計されたこのプラットフォームは、回転サンプルステージ、赤外線温度計、ガス分析計などの外部モジュールに対応し、進化する研究ニーズに適応します。

用途

技術仕様

当社を選ぶ理由

• 実証済みの長期信頼性: 産業級部品と二層シェルで構築された本炉は、重要性の高い研究環境での連続運転に耐え、性能低下することがありません。
• 比類ない熱精度: 3ゾーン独立補償技術により、敏感なCVDや焼結プロセスの成功に不可欠な温度均一性と安定性を実現しています。
• 他にないモジュール柔軟性: 高真空、特殊ガス回路、回転サンプルステージのいずれが必要な場合でも、このシステムはモジュールインターフェースにより研究ニーズの成長に合わせて拡張することができます。
• 厳格な安全基準: 水素ガスの取り扱いから高圧逃がしまで、システムに冗長化された安全機構を組み込み、研究室のスタッフと高価値材料を保護します。
• 精密な製造: すべてのユニットは厳格な校正と真空リーク試験を経て、産業級堅牢性と技術的優秀性に関する当社の厳しい基準を満たすことを確認しています。

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