500C 真空式縦型チューブ炉 84mm OD 試料回転・昇降システム

管状炉

500C 真空式縦型チューブ炉 84mm OD 試料回転・昇降システム

商品番号: TU-C17

最高動作温度: 1500°C 真空能力: 最大10^-5 Torr チューブ寸法: 84 mm 外径 ムライト
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製品概要

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この高性能真空式縦型チューブ炉は、熱工学の頂点を体現する装置であり、材料科学の研究開発および高度な産業用熱処理の厳しい要求に応えるよう特別に設計されています。本装置は縦型構造に、先進的なるつぼ回転および手動昇降機構を統合し、研究者やエンジニアに焼結の均一性と試料取り扱いにおける比類ない制御性を提供します。分割式設計を採用することで、内部部品の設置とメンテナンスが容易になり、高純度材料の合成や制御環境下での熱処理に注力する研究室にとって不可欠なツールとなっています。

主にセラミックス、冶金、半導体製造などの産業向けに設計された本機は、単純なアニーリングから複雑な化学気相成長まで、幅広いプロセスに対応する汎用プラットフォームを提供します。本システムは、要求の厳しい条件下でも一貫性と再現性のある結果を提供できるよう設計されており、重要な実験や生産バッチが厳格な品質基準を満たすことを保証します。堅牢な構造と熱管理システムにより、高温を長時間維持する場合でも安全な運転を実現し、あらゆる高温ラボやパイロットスケール生産設備における信頼性の高い中核装置として位置付けられます。

本システムの核心的な価値は、高真空性能と高温下での機械的な試料操作を組み合わせられる点にあります。先進セラミックスの焼結でも、新合金の開発でも、統合回転システムが試料内部の熱勾配を解消し、手動昇降機構が迅速な装填・取り出しを可能にします。この精密性能と運用効率の両立により、スループットの向上と優れた材料特性を通じて大きな投資効果をもたらし、包括的な安全認証と卓越したエンジニアリングに裏打ちされています。

主な特長

  • 試料回転・昇降システム一体化: チューブ内のるつぼは高精度DCモーターで駆動され、高真空または制御雰囲気下で連続回転が可能です。これにより試料の加熱が均一になり、局所的なホットスポットを排除して構造の均質性を向上させます。水冷フランジを開放した後は、手動昇降システムにより試料交換を容易に行え、実験間のダウンタイムを削減します。
  • 高精度プログラム温度制御: 本炉は30セグメントのプログラム設定が可能な高度PIDコントローラーを採用しています。これにより、加熱速度、冷却速度、保持時間を非常に細かく設定でき、相転移の管理や熱衝撃に弱い材料の保護に不可欠です。内蔵のオートチューニング機能により、動作範囲全体で温度精度は±1°Cに保たれます。
  • 最適化された二重鋼板シェル: 操作者の安全と構造寿命を確保するため、本機は高効率の空冷ファンを統合した二重鋼板構造を備えています。この設計により、最高温度で長時間運転しても外装温度を65°C以下に維持し、研究室スタッフや周辺機器を過剰な熱放射から保護します。
  • 高性能シリコンカーバイド発熱体: 12本の高品質SiC発熱体を搭載し、最高1500°Cまで到達可能です。これらの発熱体は、優れた耐久性と高速昇温応答を備えており、焼成、焼結、高温アニーリングに必要な強力な熱出力を提供します。
  • 高度な真空・雰囲気管理: 80mm水冷式ステンレスフランジを1組装備し、真空計と高気密バルブを一体化しています。機械式ポンプと組み合わせることで10^-3 Torrの真空度を達成し、オプションのターボポンプを用いれば10^-5 Torrの超高真空に到達可能で、汚染に敏感なプロセスに最適です。
  • 高級ムライト処理チューブ: 中核には高品質の84mm ODムライトチューブを採用しています。優れた耐熱衝撃性と化学的安定性で知られるムライトチューブは、極端な真空および熱負荷下でも構造を維持しながら、各種るつぼサイズに対応できる広い440mmの加熱ゾーンを提供します。
  • 包括的な水冷アーキテクチャ: ステンレスフランジに接続された循環式水冷チラー(16 L/m)により、連続冷却を実現します。これにより真空シールの劣化を防ぎ、機械回転アセンブリを保護し、高温サイクル中の長期信頼性と漏れのない性能を確保します。
  • デジタル接続性と遠隔管理: RS485通信ポートとPC制御ソフトウェアにより、熱処理レシピの管理、リアルタイムデータの記録、熱プロファイルの作図が可能です。オプションのワイヤレスリモート制御により柔軟性がさらに高まり、最大300メートル離れた場所から安全に監視できます。
  • 安全最優先の保護プロトコル: 過熱保護、熱電対断線保護、統合アラームシステムなどの高度な安全機能を備えています。これらの機能により、あらかじめ設定した熱上限を超えた場合には自動停止または警報を行うため、無人運転が可能です。

用途

用途 説明 主な利点
先進セラミックス焼結 均一な熱プロファイルと高温を必要とする高密度セラミック部品の製造。 試料回転により構造欠陥を排除。
粉末冶金 酸化を防ぎ結晶粒成長を確実にするため、高真空下で耐火金属粉末を焼結。 10^-5 Torrの真空性能により高純度を実現。
全固体電池研究 精密な昇温速度と雰囲気制御が重要となる電極材料の焼成。 30セグメントPID制御により再現性の高い組成を確保。
薄膜成膜(CVD) 化学気相成長プロセスで均一なコーティングを作製するための加熱チャンバーとして使用。 縦型設計によりガス流と基板の縦置き配置を促進。
光学結晶育成 内部応力を除去するため、不活性雰囲気下で光学材料をアニーリング・処理。 高温安定性(±1°C)により結晶破損を防止。
核材料処理 制御された密閉環境で酸化物燃料または被覆材を熱処理。 実証済みの信頼性と空冷安全シェル。
航空宇宙部品試験 小型部品の熱サイクル試験により、極端な大気圏再突入条件を模擬。 高い昇温速度(最大10°C/分)で急激な変化を再現。

技術仕様

項目 TU-C17 の説明 / 値
品番 TU-C17
構造 縦型、分割式二重鋼板ケース、空冷付き
最高温度 1500°C(30分未満)
連続運転温度 1400°C
最大昇温速度 ≤ 10°C / 分
冷却速度 PIDプログラムにより制御
発熱体 1500°Cグレード シリコンカーバイド(SiC)— 12個
チューブ材質 ムライト(米国製)
チューブ寸法 OD: 84 mm x ID: 72 mm x 長さ: 1393 mm
加熱ゾーン長さ 合計: 440 mm | 定温ゾーン: 150 mm(±1°C)
出力 5.5 KW
動作電圧 AC 208-240V 単相、50/60 Hz
温度制御 30セグメントのプログラム可能なPID自動制御
温度精度 ± 1ºC
真空度 10^-3 Torr(機械式ポンプ)| 10^-5 Torr(ターボポンプ)
試料動作 モーター回転(DCモーター)および手動昇降
冷却システム 16 L/m 循環式水冷チラー付属
真空フランジ ゲージとバルブ付き 80 mm 水冷ステンレス製
通信インターフェース RS485ポート、PCソフトウェア付属
適合 CE認証済み(24V超の電気部品はUL/CSA/MET認証)
安全機能 過温アラーム、熱電対断線保護、空冷シェル

TU-C17 を選ぶ理由

  • 優れた熱均一性: 静的な水平炉とは異なり、TU-C17はモーター駆動回転システムを採用しており、試料のどの部分も同じ熱環境にさらされるため、材料合成における相純度の確保に重要です。
  • 堅牢な設計と安全性: 高品質の1500°C SiC発熱体と二重層冷却シェルを備え、このシステムは研究室スタッフに安全な作業環境を提供しながら、産業用の高い性能を発揮します。
  • 精密な雰囲気制御: 水冷ステンレスフランジと高効率チラーの組み合わせにより、シール不良のリスクなしに、深真空または高純度不活性ガスサイクル下での長時間運転が可能です。
  • 効率化された作業フロー: 一体型の手動昇降システムと分割式チューブ設計により、試料の装填が迅速になり、メンテナンスも容易になるため、研究チームの生産性が大幅に向上します。
  • 認証済み品質: 24Vを超えるすべての電気部品はUL/CSA認証済みで、システム全体はCE認証を取得しており、世界の産業機関および学術機関の厳しい安全・性能基準を満たしています。

この縦型炉システムは、高精度な熱処理と優れた試料均一性を必要とするあらゆる設備にとって大きなアップグレードとなります。お見積りのご依頼や、お客様の研究要件に合わせたカスタム構成のご相談は、ぜひ本日お問い合わせください。

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