急速熱処理・真空管式ハイブリッド機能搭載 1200℃高温縦型スライディング炉

管状炉

急速熱処理・真空管式ハイブリッド機能搭載 1200℃高温縦型スライディング炉

商品番号: TU-C04

最高温度: 1200°C(連続使用時) RTPサイクル速度: 約1°C/秒(加熱・冷却共) チャンバー容量: 4.2リットル(ハイブリッドボックス/チューブ式)
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製品概要

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本高性能熱処理システムは、実験炉の多用途性において画期的な進化を遂げた製品で、従来のマッフル箱型炉の大容量と真空管式の正確な雰囲気制御を1台に統合しています。要求の厳しい材料研究向けに設計された本装置は、焼結、アニーリング、化学気相成長プロセスに最適化された環境を提供します。その独自設計により、研究者は単一の統合プラットフォームで、バルク材料加工と特殊な制御雰囲気下での実験を両立することができます。

本システムの核心的な価値は、急速熱処理(RTP)に対応している点にあります。縦型スライディング機構を利用することで、標準的な実験炉を大きく上回る加熱・冷却速度を達成でき、相転移や焼入れ速度論を研究する材料科学者にとって欠かせないツールとなっています。本装置は、精度と再現性が最優先される産業研究開発センター、半導体実験室、高度な冶金研究施設での使用を想定して設計されています。

産業グレードの部品を採用し、長期運転安定性を重視して設計された本炉は、過酷な負荷サイクル下でも安定した性能を発揮します。高純度アルミナファイバー断熱材と高性能加熱素子を採用することで、優れた温度均一性を維持しながら最大限のエネルギー効率を実現しています。微小な温度偏差でも実験の完全性が損なわれる重要な研究に必要な信頼性と技術的洗練性を備えています。

主な特長

  • 統合型急速熱処理(RTP)機構:本システムは背面に特殊な可動アセンブリを搭載しており、真空密閉された処理管を予熱された加熱ゾーンに瞬時に挿入・取出しすることができます。この設計により、毎秒約1℃の加熱・冷却速度を実現し、焼入れ用途や準安定相の研究に不可欠です。

  • デュアルモードによる運用の柔軟性:本装置は4.2リットルの箱型炉と高真空管式炉の両方の機能を果たします。上部アクセスポートは交換可能な石英管に対応しており、別々の熱処理装置を用意することなく、バルクセラミックの大気処理から薄膜の高純度ガス制御処理まで切り替えることができます。

  • 高精度PID温度制御:高度なデジタルコントローラーがオートチューン機能付きPID(比例・積分・微分)ロジックを活用し、±1.0℃の安定性を維持します。昇温・保持・冷却の30のプログラム可能セグメントにより、複雑な熱プロファイルを完全に制御できます。

  • 高純度石英真空環境:オプションで外径50mmまたは80mmのステンレス真空フランジ付き石英管を利用可能で、高真空または制御された不活性ガス雰囲気下での処理に対応します。これにより、高温サイクル中に敏感な材料を酸化や汚染から保護します。

  • 堅牢な安全・監視システム:本炉には過温度アラームと熱電対故障保護機能が標準で搭載されています。K型熱電対はセラミックシースで保護されているため、最高定格温度1200℃での運転時にも長期的な精度と耐久性を確保します。

  • 高精度な雰囲気制御:真空フランジにはデジタル真空計用のKF16ポートと、高精度ガス流入制御用の1/4インチニードルバルブが標準で組み込まれています。これにより内部環境を精密に制御でき、不活性ガスパージや反応性雰囲気下での合成などのプロセスに対応します。

  • 高効率断熱・加熱システム:高品質アルミナファイバー断熱材と高品質加熱素子を活用することで、標準で毎分30℃の昇温速度を達成すると同時に、外郭への放熱を最小限に抑え、実験環境の安全性向上と消費エネルギーの削減を実現しています。

  • PC接続・データロギング機能:標準のDB9通信ポートと専用ソフトウェアにより、PCからのリモート操作とリアルタイムデータ取得が可能で、研究者はコンプライアンスと品質管理のために熱サイクルを記録・分析することができます。

用途

用途 説明 主なメリット
半導体アニーリング ドーパントを活性化させるためのシリコンウェハ・薄膜電子部品の急速熱処理 速い昇温速度により結晶完全性を確保しながら、不要な拡散を防止します
焼入れ研究 金属合金や先進セラミックを高温から室温まで急速冷却 縦型昇降機構により1℃/秒の冷却を実現し、準安定微細構造を固定化できます
化学気相成長(CVD) 真空管モードを利用した基板への高純度コーティングの成膜 正確な雰囲気制御と真空安定性により、均一な膜厚を確保します
先進セラミックの焼結 箱型炉チャンバー内での工業用セラミック部品の高温処理 優れた温度均一性により、安定した材料密度と強度を実現します
電池材料の合成 酸化防止のため、制御された不活性ガス雰囲気下での正極・負極粉末の仮焼成 デュアルモード機能により、粉末合成から管式試験までシームレスに移行できます
冶金研究 新規合金組成の熱応力・相転移試験 プログラム可能な30セグメント制御により、複雑な多段階熱処理サイクルに対応します
歯科材料の加工 清浄な環境でのジルコニアその他歯科用セラミックの高温焼成 高純度のチャンバー素材により、審美性の汚染や変色を防止します

技術仕様

パラメータ TU-C04-2(2インチ管バリアント) TU-C04-3(3インチ管バリアント)
最高温度 1200 ℃(大気/不活性)、1000 ℃(真空) 1200 ℃(大気/不活性)、1000 ℃(真空)
連続使用温度 100 ℃ - 1200 ℃ 100 ℃ - 1200 ℃
チャンバー寸法 150mm(D) x 155mm(W) x 180mm(H) 150mm(D) x 155mm(W) x 180mm(H)
チャンバー容量 4.2 リットル (0.44 立方フィート) 4.2 リットル (0.44 立方フィート)
昇温速度(標準) 30 ℃ / 分 30 ℃ / 分
RTP 加熱/冷却速度 約 1 ℃ / 秒 約 1 ℃ / 秒
温度安定性 ± 1.0 ℃ ± 1.0 ℃
熱電対種別 セラミックシース付きK型 セラミックシース付きK型
石英管寸法 外径50 x 内径44 x 長さ263 (mm) 外径80 x 内径73 x 長さ263 (mm)
真空接続 KF16 ポート KF16 ポート
ガス接続 1/4インチ ニードルバルブ 1/4インチ ニードルバルブ
電源 208-240V 単相、50/60 Hz 208-240V 単相、50/60 Hz
最大電力 2.5 KW 2.5 KW
温度コントローラー オートチューン付き30セグメントPID オートチューン付き30セグメントPID
認証 CE認証取得(NRTL/CSA オプション) CE認証取得(NRTL/CSA オプション)

弊社を選ぶ理由

  • 比類のないプロセス柔軟性:大容量の箱型炉と高真空管式炉を数分で切り替えられる機能は、多分野研究を行う研究室にとって比類のない価値を提供します。
  • 優れた熱管理:弊社の急速熱処理機構は精度と速度のために設計されており、標準炉では対応できない複雑な焼入れや急速加熱プロトコルを実施することができます。
  • 高精度な設計と製品品質:高純度アルミナ断熱材からステンレス真空フランジまで、あらゆる部品は極端な熱応力に耐え、長年にわたり安定して使用できる性能を基準に選定されています。
  • 包括的な制御と安全性:30セグメントPIDコントローラーと統合型安全アラームの組み合わせにより、実験の精度を確保するだけでなく、ハードウェアの故障や温度オーバーシュートに対しても安全性を確保します。
  • 専門的な技術サポート:THERMUNITSは豊富な技術知見とカスタマイズオプションを提供し、産業・学術研究の具体的な要求に応える装置を提供いたします。

詳細な見積もり、またはお客様の特定の材料要件に合わせたカスタム熱処理ソリューションについては、今日弊社技術営業チームまでお問い合わせください。

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