製品概要

本高性能熱処理システムは、実験炉の多用途性において画期的な進化を遂げた製品で、従来のマッフル箱型炉の大容量と真空管式の正確な雰囲気制御を1台に統合しています。要求の厳しい材料研究向けに設計された本装置は、焼結、アニーリング、化学気相成長プロセスに最適化された環境を提供します。その独自設計により、研究者は単一の統合プラットフォームで、バルク材料加工と特殊な制御雰囲気下での実験を両立することができます。
本システムの核心的な価値は、急速熱処理(RTP)に対応している点にあります。縦型スライディング機構を利用することで、標準的な実験炉を大きく上回る加熱・冷却速度を達成でき、相転移や焼入れ速度論を研究する材料科学者にとって欠かせないツールとなっています。本装置は、精度と再現性が最優先される産業研究開発センター、半導体実験室、高度な冶金研究施設での使用を想定して設計されています。
産業グレードの部品を採用し、長期運転安定性を重視して設計された本炉は、過酷な負荷サイクル下でも安定した性能を発揮します。高純度アルミナファイバー断熱材と高性能加熱素子を採用することで、優れた温度均一性を維持しながら最大限のエネルギー効率を実現しています。微小な温度偏差でも実験の完全性が損なわれる重要な研究に必要な信頼性と技術的洗練性を備えています。
主な特長
-
統合型急速熱処理(RTP)機構:本システムは背面に特殊な可動アセンブリを搭載しており、真空密閉された処理管を予熱された加熱ゾーンに瞬時に挿入・取出しすることができます。この設計により、毎秒約1℃の加熱・冷却速度を実現し、焼入れ用途や準安定相の研究に不可欠です。
-
デュアルモードによる運用の柔軟性:本装置は4.2リットルの箱型炉と高真空管式炉の両方の機能を果たします。上部アクセスポートは交換可能な石英管に対応しており、別々の熱処理装置を用意することなく、バルクセラミックの大気処理から薄膜の高純度ガス制御処理まで切り替えることができます。
-
高精度PID温度制御:高度なデジタルコントローラーがオートチューン機能付きPID(比例・積分・微分)ロジックを活用し、±1.0℃の安定性を維持します。昇温・保持・冷却の30のプログラム可能セグメントにより、複雑な熱プロファイルを完全に制御できます。
-
高純度石英真空環境:オプションで外径50mmまたは80mmのステンレス真空フランジ付き石英管を利用可能で、高真空または制御された不活性ガス雰囲気下での処理に対応します。これにより、高温サイクル中に敏感な材料を酸化や汚染から保護します。
-
堅牢な安全・監視システム:本炉には過温度アラームと熱電対故障保護機能が標準で搭載されています。K型熱電対はセラミックシースで保護されているため、最高定格温度1200℃での運転時にも長期的な精度と耐久性を確保します。
-
高精度な雰囲気制御:真空フランジにはデジタル真空計用のKF16ポートと、高精度ガス流入制御用の1/4インチニードルバルブが標準で組み込まれています。これにより内部環境を精密に制御でき、不活性ガスパージや反応性雰囲気下での合成などのプロセスに対応します。
-
高効率断熱・加熱システム:高品質アルミナファイバー断熱材と高品質加熱素子を活用することで、標準で毎分30℃の昇温速度を達成すると同時に、外郭への放熱を最小限に抑え、実験環境の安全性向上と消費エネルギーの削減を実現しています。
-
PC接続・データロギング機能:標準のDB9通信ポートと専用ソフトウェアにより、PCからのリモート操作とリアルタイムデータ取得が可能で、研究者はコンプライアンスと品質管理のために熱サイクルを記録・分析することができます。
用途
| 用途 | 説明 | 主なメリット |
|---|---|---|
| 半導体アニーリング | ドーパントを活性化させるためのシリコンウェハ・薄膜電子部品の急速熱処理 | 速い昇温速度により結晶完全性を確保しながら、不要な拡散を防止します |
| 焼入れ研究 | 金属合金や先進セラミックを高温から室温まで急速冷却 | 縦型昇降機構により1℃/秒の冷却を実現し、準安定微細構造を固定化できます |
| 化学気相成長(CVD) | 真空管モードを利用した基板への高純度コーティングの成膜 | 正確な雰囲気制御と真空安定性により、均一な膜厚を確保します |
| 先進セラミックの焼結 | 箱型炉チャンバー内での工業用セラミック部品の高温処理 | 優れた温度均一性により、安定した材料密度と強度を実現します |
| 電池材料の合成 | 酸化防止のため、制御された不活性ガス雰囲気下での正極・負極粉末の仮焼成 | デュアルモード機能により、粉末合成から管式試験までシームレスに移行できます |
| 冶金研究 | 新規合金組成の熱応力・相転移試験 | プログラム可能な30セグメント制御により、複雑な多段階熱処理サイクルに対応します |
| 歯科材料の加工 | 清浄な環境でのジルコニアその他歯科用セラミックの高温焼成 | 高純度のチャンバー素材により、審美性の汚染や変色を防止します |
技術仕様
| パラメータ | TU-C04-2(2インチ管バリアント) | TU-C04-3(3インチ管バリアント) |
|---|---|---|
| 最高温度 | 1200 ℃(大気/不活性)、1000 ℃(真空) | 1200 ℃(大気/不活性)、1000 ℃(真空) |
| 連続使用温度 | 100 ℃ - 1200 ℃ | 100 ℃ - 1200 ℃ |
| チャンバー寸法 | 150mm(D) x 155mm(W) x 180mm(H) | 150mm(D) x 155mm(W) x 180mm(H) |
| チャンバー容量 | 4.2 リットル (0.44 立方フィート) | 4.2 リットル (0.44 立方フィート) |
| 昇温速度(標準) | 30 ℃ / 分 | 30 ℃ / 分 |
| RTP 加熱/冷却速度 | 約 1 ℃ / 秒 | 約 1 ℃ / 秒 |
| 温度安定性 | ± 1.0 ℃ | ± 1.0 ℃ |
| 熱電対種別 | セラミックシース付きK型 | セラミックシース付きK型 |
| 石英管寸法 | 外径50 x 内径44 x 長さ263 (mm) | 外径80 x 内径73 x 長さ263 (mm) |
| 真空接続 | KF16 ポート | KF16 ポート |
| ガス接続 | 1/4インチ ニードルバルブ | 1/4インチ ニードルバルブ |
| 電源 | 208-240V 単相、50/60 Hz | 208-240V 単相、50/60 Hz |
| 最大電力 | 2.5 KW | 2.5 KW |
| 温度コントローラー | オートチューン付き30セグメントPID | オートチューン付き30セグメントPID |
| 認証 | CE認証取得(NRTL/CSA オプション) | CE認証取得(NRTL/CSA オプション) |
弊社を選ぶ理由
- 比類のないプロセス柔軟性:大容量の箱型炉と高真空管式炉を数分で切り替えられる機能は、多分野研究を行う研究室にとって比類のない価値を提供します。
- 優れた熱管理:弊社の急速熱処理機構は精度と速度のために設計されており、標準炉では対応できない複雑な焼入れや急速加熱プロトコルを実施することができます。
- 高精度な設計と製品品質:高純度アルミナ断熱材からステンレス真空フランジまで、あらゆる部品は極端な熱応力に耐え、長年にわたり安定して使用できる性能を基準に選定されています。
- 包括的な制御と安全性:30セグメントPIDコントローラーと統合型安全アラームの組み合わせにより、実験の精度を確保するだけでなく、ハードウェアの故障や温度オーバーシュートに対しても安全性を確保します。
- 専門的な技術サポート:THERMUNITSは豊富な技術知見とカスタマイズオプションを提供し、産業・学術研究の具体的な要求に応える装置を提供いたします。
詳細な見積もり、またはお客様の特定の材料要件に合わせたカスタム熱処理ソリューションについては、今日弊社技術営業チームまでお問い合わせください。
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい!
関連製品
1200°C対応 スライド式チューブ炉(外径80mm石英管、真空フランジ付、急速熱処理・高速昇降温用)
最高温度1200°Cのスライド式チューブ炉で、急速熱処理を実現します。外径80mmの石英管と手動スライド機構を備え、毎分最大100°Cの昇降温速度により、先端材料研究や産業用R&Dに最適です。
急速熱焼入れおよび制御雰囲気下での材料処理用 ステンレス製真空フランジ付きコンパクト縦型分割式石英管炉
高精度研究用に設計されたこのコンパクトな縦型分割式石英管炉は、最大1100°Cまでの急速加熱を実現します。ステンレス製真空フランジと30セグメントのプログラム制御を備えており、材料科学や工業的な焼入れ用途に不可欠なツールです。信頼性の高い性能を提供します。
1200°C スライディングチューブ炉(外径100mm対応、急速熱処理およびCVDグラフェン成長用)
急速熱処理(RTP)およびCVD用途向けに設計された1200°Cスライディングチューブ炉で、研究を加速させましょう。高精度PLC制御と電動スライドレールを備え、先端材料科学や産業用R&Dラボにおける超高速加熱・冷却サイクルを実現します。
22L加熱チャンバー・最高温度1200℃ 高温縦型るつぼ炉
22Lのチャンバー、30セグメントPID制御、高度な安全プロトコルを備えたプロ仕様の1200℃縦型るつぼ炉。高純度焼結、金属焼鈍、材料科学研究など、要求の厳しい産業および研究開発の熱処理環境に最適です。
高速加熱・冷却対応 自動スライド式管状炉 外径2インチ 1100℃対応
この高性能な自動スライド式管状炉で材料研究を最適化します。毎分100℃の超高速加熱・冷却を実現するこの1100℃対応システムは、半導体、ナノテクノロジー、および急速熱サイクルを必要とする産業用R&Dアプリケーションにおいて、精密な熱処理を保証します。
急速IR加熱と4インチ外径石英管を備えた900℃最大スライド式RTPチューブ炉
この900°Cスライド式RTPチューブ炉は、急速IR加熱、50°C/sの昇温速度、自動冷却機能を備え、グラフェン成長、CNT合成、真空または大気条件下での先進的な半導体ウェハーアニーリングにおける研究開発効率を最大化します。
1700℃ スライドプラットフォーム付きボックス炉:急速加熱・冷却対応高温熱処理システム
この高温ボックス炉は、スライド式プラットフォームを搭載し、1700℃までの急速なサンプルの搬入と迅速な熱処理を実現します。材料科学研究に最適で、精密なPID制御と優れたエネルギー効率を産業用ラボに提供します。
制御雰囲気下での薄膜堆積および材料昇華研究向け 1200℃ スライド式内部るつぼ管状炉
この1200℃スライド式管状炉は、制御雰囲気下での正確な試料位置決めのための自動内部るつぼ機構を備えています。PVDやDVD用途に最適化されており、先端材料研究ラボにおいて優れた膜成長の均一性と熱処理効率を実現します。
1200℃ 高温 5インチ スライディングチューブ炉(RTP・ウェハーアニール用)
材料研究を加速させる、急速熱処理(RTP)対応の1200℃スライディングチューブ炉です。5インチ石英管とデュアルPIDコントローラーを搭載し、先端半導体アプリケーション向けに精密な加熱・冷却レートを実現します。
1200°C 10ゾーン分割型チューブ炉(水平・垂直設置対応、マルチゾーン熱勾配および大口径材料処理用)
10個の独立した加熱ゾーンによる比類のない熱勾配制御と、水平・垂直設置が可能な柔軟性を備えた、先進の1200°C 10ゾーン分割型チューブ炉システム。精密な産業シミュレーション、材料合成、高性能な研究開発(R&D)熱処理用途向けに設計されており、卓越した信頼性を誇ります。
1100°C 分割型縦型チューブ炉(80mm石英管およびステンレス製真空フランジ付き)
この高性能な1100°C分割型縦型チューブ炉は、80mm石英管、ステンレス製真空フランジ、および精密な30セグメントPID制御を備えています。材料研究開発、急速冷却、および専門的な産業研究所での雰囲気制御熱処理のために設計されています。
4インチ石英管およびステンレス鋼製真空フランジ付き、最大1200℃対応の5ゾーン分割式縦型チューブ炉
この高性能な1200℃対応の5ゾーン分割式縦型チューブ炉は、5つの独立加熱ゾーンと4インチ石英管を備え、先端材料研究および産業用熱処理において卓越した温度均一性と急冷性能を提供します。
1200℃ 5面加熱式引戸付きマッフル炉 125L 大容量高温熱処理システム 大規模焼結・焼鈍用途
5面加熱と急速冷却引戸を搭載した1200℃ 125Lマッフル炉で、大容量材料処理を最適化します。優れた温度均一性と産業用信頼性を実現するよう設計されたこの先進システムは、要求の厳しい研究開発ラボにおける高精度な焼結と焼鈍を保証します。
PECVDプロセス用デュアルチューブ・フランジ付き1200Cデュアルスライド式チューブ炉
精密なPECVDプロセス向けに設計されたこの1200Cデュアルスライド式チューブ炉で、材料研究を加速させましょう。高出力RFプラズマジェネレーターと急速熱処理(RTP)機能を備え、高度な産業用R&Dアプリケーションにおいて、卓越した膜の均一性と一貫した結果を提供します。
直接蒸着堆積および高速熱処理用の内部磁気サンプルスライド機構搭載 1200℃ チューブ炉
このプロフェッショナルな1200℃チューブ炉は、直接蒸着堆積および高速熱処理専用に設計された手動式磁気サンプルスライド機構を搭載しています。厳しい要件を持つ研究および産業材料科学用途において、正確な温度制御と安定した材料成長を実現します。
CVD用 50mmチューブフランジ付き 1200℃対応デュアルスライド式チューブ炉
この1200℃デュアルスライド式チューブ炉は、高精度CVDプロセス専用に設計された50mm石英チューブフランジを備えています。スライド機構による急速加熱・冷却で産業用R&Dを加速させ、優れた材料合成、一貫した結果、そして最高レベルの薄膜堆積性能を実現します。
1700°C高温ボトムローディング式縦型電気炉 2ステージ式サンプル処理システム 18L大容量熱処理装置
連続処理を可能にするデュアルスライドステージを備えた1700°Cボトムローディング式縦型電気炉で、研究室の効率を最大化します。高純度断熱材と高度なPIDタッチスクリーン制御を採用し、迅速な熱サイクルと精密な研究のために設計されています。
2インチチューブと真空ポンプを備えた、1200°C対応のコンパクト自動スライド式PECVD炉
この1200°C対応のコンパクトな自動スライド式PECVD炉は、2インチチューブと一体型真空ポンプを備えています。低温薄膜成膜に最適で、300W RFプラズマを採用し、優れた化学量論制御と先進的な産業材料研究における迅速な熱処理を実現します。
1200C 三ゾーン分割式縦型チューブ炉 4インチ石英管 ステンレス鋼真空フランジ
この1200C三ゾーン分割式縦型チューブ炉は、高精度な熱処理のための4インチ石英管とステンレス鋼真空フランジを備えています。材料の急冷や合成に最適で、この堅牢なシステムは均一加熱と迅速な試料投入アクセスを実現します。
2次元材料成長およびTCVD合成用 1200℃デュアル温度ゾーンスライド式チューブ炉
超高速冷却を可能にするスライド式加熱ゾーン、独立したPID温度制御、高純度石英処理環境を備えたこの1200℃デュアル炉システムにより、高度な2次元材料合成を最適化します。精密な熱化学気相成長(TCVD)および研究開発向けに設計されています。