82mm超合金管とデュアル水素検知器を搭載した3ゾーン水素ガスチューブ炉 1200℃高温材料加工システム

雰囲気炉

82mm超合金管とデュアル水素検知器を搭載した3ゾーン水素ガスチューブ炉 1200℃高温材料加工システム

商品番号: TU-QF24

作動温度: 1200°C 連続 / 1250°C 最大 処理チューブ: 高圧耐性ニッケル基超合金(外径80mm) 安全システム: 自動ソレノイド遮断付き二重統合水素検知器
品質保証 Fast Delivery Global Support
お問合せ

配送: お問い合わせ 配送詳細を確認してください オンタイムディスパッチ保証.

製品概要

Product image 1

この高性能熱処理システムは、水素リッチな環境での安全な運用のために特別に設計され、材料科学研究と産業生産に堅牢なソリューションを提供します。特殊なニッケル基超合金加工チューブと精巧な3ゾーン加熱構造を統合することで、比類のない熱均一性と構造的完全性を実現します。本システムは、揮発性ガス雰囲気下での高温処理を必要とする研究室における安全性と精度の頂点を代表し、繊細なプロセスが制御・監視された環境下で実施されることを保証します。

要求の厳しい研究開発用途向けに設計された本装置は、半導体製造、先端冶金、グリーンエネルギー開発などの分野で優れた性能を発揮します。その最大の価値は、高温下でも高圧安定性を維持できる点にあり、これは標準的な石英管やアルミナ管では達成できない特長です。金属粉末の水素化から高性能セラミックスの焼結まで、本装置は安全な実験室環境を維持しつつ、現代材料工学の限界を押し広げるために必要な技術性能を提供します。

本炉の設計の中心には信頼性があります。高度な空冷技術を搭載した複層鋼製筐体を採用することで、1200℃のピーク運転中でも外部表面温度をオペレーターに安全な範囲に維持します。自動ガス遮断弁と連続水素モニタリングを含む冗長安全機構を搭載することで、調達チームや主任研究者に、熱処理インフラの長期的な性能と運用安全性に対する完全な信頼をもたらします。本システムは、精度や安全性を損なうことなく、連続産業使用の過酷さに耐えられるように設計されています。

主な特長

  • 高度なニッケル基超合金管:水素脆化や熱衝撃破損を起こしやすい標準石英管と異なり、本システムは高品質なCr20NI25Al15超合金管を採用しています。この継ぎ目なし容器は、高温下での水素ガス流通に耐え、割れが発生しないよう特別に設計されており、温度プロファイルに応じて最大5MPaの内圧に耐えられる卓越した耐久性を提供します。
  • 統合型デュアル水素検知システム:安全性を2段階監視システムで優先しています。1台は炉に固定搭載され装置内部環境を監視し、2台目の携帯型検知器によりオペレーターが外部ガスラインやポートを点検できます。水素濃度が100ppmに達すると、システムが自動的に電磁弁を作動させ、直ちにガス入口を遮断します。
  • 3ゾーン高精度加熱制御:加熱チャンバーはそれぞれ長さ180mmの3つの独立制御ゾーンに分割されています。これにより、±3℃の精度で260mmの安定した恒温帯を生成できます。研究者は温度勾配を調整したり、長尺サンプル全体で完全な均一性を確保したりでき、複雑な実験セットアップに最大の柔軟性を提供します。
  • 高度な30セグメントPIDコントローラー:本装置はマイクロプロセッサベースのPIDコントローラーを搭載し、加熱、保持、冷却の最大30の異なるセグメントをプログラムできます。この自動化により、バッチ間の高い再現性を確保し、正確に制御された昇温速度により繊細な材料への熱衝撃を防止します。
  • 強化された断熱と筐体:高純度繊維状アルミナ断熱材を使用してエネルギー効率を最大化し、放熱を最小限に抑えています。複層鋼製筐体と一体型冷却ファンと組み合わせることで、装置の外部温度を80℃以下に維持し、省エネ性と実験室でのオペレーターの快適性の両方を向上させます。
  • 包括的な真空・ガス管理:高品質なSS304ステンレスフランジとKF-25真空ポートを搭載しており、適切なポンプを使用することで10-5 torrまでの真空度を達成できます。内蔵流量計によりガス流量を正確に調整でき、一体型ステンレス着火管により排気水素ガスを安全に燃焼処理します。
  • 自動安全インターロック:本装置は自動過温保護と熱電対断線保護を搭載しています。これらのハードウェアレベルのインターロックは、運転中に故障が検出された場合、瞬時に発熱体への電力を遮断し、装置の損傷と危険な状態を防止します。
  • データ接続性とソフトウェア統合:標準RS485通信ポートを搭載しており、本システムはPC制御ソフトウェアと完全に互換性があります。これにより、リアルタイムデータロギング、熱サイクルのリモート監視、LabVIEWベースの自動実験室環境への統合が可能です。

用途

用途 説明 主なメリット
金属の水素化 高圧水素下で金属粉末を加工し、水素化物を生成 統合H2検知器と超合金管により優れた安全性を実現
先端CVD研究 正確なガス流量と温度ゾーンを必要とする薄膜の化学気相成長 3つの独立加熱ゾーン全体で高い熱均一性を実現
セラミックスの焼結 還元雰囲気下での工業用セラミックスの高温固化 精密PID制御により割れを防止し、材料密度を確保
固体科学 高圧ガス下、1200℃での材料の挙動を調査 超合金管が0.1~5.0MPa下で構造的完全性を維持
超合金の焼きなまし 航空宇宙・自動車部品向けの応力除去熱処理 全長600mmの加熱ゾーンが多様なサンプルサイズに対応
半導体ドーピング ガス状前駆体を用いて半導体ウェハに不純物を導入 KF-25ポートを備えたクリーン真空環境で高純度加工を実現
触媒試験 反応性水素流通下での工業触媒の効率を試験 リアルタイム監視と自動ガス遮断により研究開発資産を保護

技術仕様

仕様カテゴリ TU-QF24のパラメータ詳細
炉構造 空冷付き複層鋼製筐体;高純度繊維状アルミナ断熱
最大消費電力 最大11KW(50Aサーキットブレーカーが必要)
電源要件 AC 208-240V 単相、50/60 Hz
連続使用温度 1200°C(石英ライナー使用時) / 1400°C(アルミナ管使用時)
最高管温度 1250°C(0.5時間未満;超合金の限界温度)
昇温速度 最大10°C/min;推奨5°C/min
加工管材質 ニッケル基超合金(Cr20NI25Al15)
管寸法 外径80mm x 内径72mm x 長さ1200mm
耐圧性能(1250°C) 0.1 Mpa
耐圧性能(1200°C) 0.3 Mpa
耐圧性能(1000°C) 1.5 Mpa
耐圧性能(800°C) 5.0 Mpa
加熱ゾーン構成 3ゾーン:180mm + 180mm + 180mm(合計600mm)
恒温帯 ゾーン同期時 260mm(± 3°C)
温度コントローラー PID自動制御;30セグメント;過温・熱電対断線保護
安全システム デュアル水素検知器(1~1000 ppm範囲);電磁式入口遮断弁
警報設定値 レベル1:50 ppm(警報);レベル2:100 ppm(H2自動遮断)
真空性能 10-2 torr(機械式ポンプ);10-5 torr(分子ポンプ)
ガス管理 SS304フランジ;1000 ml/min流量計;H2燃焼排気口
発熱体 Mo添加Fe-Cr-Al合金
接続性 RS485通信ポート;PCソフトウェア付属
認証 CE認証取得(要望に応じNRTL/CSA対応可能)

当社の3ゾーン水素ガスチューブ炉を選ぶ理由

  • 比類のない安全設計:デュアル検知システムと自動電磁弁遮断が、水素加工に不可欠なセキュリティレベルを提供し、人員と施設の両方を保護します。
  • 優れた材料品質:標準的なガラスやセラミックではなくニッケル基超合金管を使用することで、還元雰囲気下での耐圧性と化学的安定性を向上させています。
  • 高精度熱管理:3ゾーン設計により高度な温度プロファイリングが可能で、高品位な研究開発結果に必要な厳密な条件下で材料加工を行うことができます。
  • 産業グレードの構造:複層筐体から高効率アルミナ断熱まで、要求の厳しい環境での長期耐久性と安定した性能のために、すべてのコンポーネントが選定されています。
  • 完全なカスタマイズとサポート:高圧フランジのアップグレードやユーロサーモコントローラーの統合を含む豊富なカスタマイズオプションを提供し、レスポンシブな技術サポートチームが対応します。

カスタム高温熱処理要件について、詳細な技術コンサルティングまたは正式な見積もりをご希望の方は、今すぐお問い合わせください。

この製品に関するよくある質問をもっと見る

引用を要求

弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい!

関連製品

1100℃ 水素ガス雰囲気チューブ炉(5インチ溶融石英管および統合型安全監視システム搭載)

1100℃ 水素ガス雰囲気チューブ炉(5インチ溶融石英管および統合型安全監視システム搭載)

統合型H2検知システム、5インチ石英管、自動安全インターロックを備えたこの1100℃水素ガスチューブ炉で、安全性と精度を確保します。酸化に敏感な材料の超高純度熱処理や、高度な触媒研究用途に最適です。専門的に設計された高性能な装置です。

11インチまたは15インチ石英管とヒンジ式フランジを装備した真空雰囲気熱処理用3ゾーンチューブ炉

11インチまたは15インチ石英管とヒンジ式フランジを装備した真空雰囲気熱処理用3ゾーンチューブ炉

本3ゾーンチューブ炉は11インチまたは15インチの石英管を備え、精密な真空制御下での大規模ウェハアニーリングや材料合成に優れた熱均一性を実現します。産業研究所の安全性のため電動式リッド操作に対応しています。

大型ウェーハ処理用 8.5~11インチ外径石英管および真空フランジ付き 1100°C 3ゾーン管状炉

大型ウェーハ処理用 8.5~11インチ外径石英管および真空フランジ付き 1100°C 3ゾーン管状炉

8.5~11インチの大型石英管と密閉フランジを備えた、精密な1100°C 3ゾーン管状炉です。優れた熱均一性と高真空対応により、産業用R&Dプロジェクトや大規模なウェーハ処理、先端材料研究に最適です。

1700℃水素ガス管状炉 60mmアルミナプロセスチューブ一体型水素安全検知器付き

1700℃水素ガス管状炉 60mmアルミナプロセスチューブ一体型水素安全検知器付き

この高温1700℃水素ガス管状炉は、実験室の安全性を最大限に確保するため、60mmアルミナチューブと電磁遮断弁付きの一体型ガス検知器を搭載しています。可燃性雰囲気または不活性雰囲気環境での材料合成と熱処理用に設計されています。

24インチ加熱長・ヒンジ式フランジ石英管システム搭載 3ゾーンチューブ炉

24インチ加熱長・ヒンジ式フランジ石英管システム搭載 3ゾーンチューブ炉

このプロ仕様の3ゾーンチューブ炉は、24インチの加熱長と、効率的なサンプル投入を可能にするヒンジ式フランジを備えています。1200°Cまでの処理に最適化されており、高度な産業材料研究のために精密な温度均一性と真空互換性を提供します。

1100°C デュアルゾーン水素ガス管状炉(石英管および水素漏れ検知システム一体型)

1100°C デュアルゾーン水素ガス管状炉(石英管および水素漏れ検知システム一体型)

この高性能デュアルゾーン水素管状炉は、最大1100°Cまでの安全な熱処理を実現するHoneywell製ガス検知器を内蔵しています。材料科学の研究開発向けに設計されており、60mmまたは80mmの石英管を使用して精密な雰囲気制御が可能です。

1200°C対応 3ゾーン管状炉 最大外径6インチ(チューブ・フランジ付き)

1200°C対応 3ゾーン管状炉 最大外径6インチ(チューブ・フランジ付き)

外径6インチの処理能力と高度なタッチスクリーン制御を備えた、この1200°C対応3ゾーン管状炉で熱処理プロセスを最適化します。この高精度システムは、先端材料研究、半導体アニール、工業用熱処理用途において均一な温度分布を保証します。

材料研究および工業用熱処理用 1700℃高温3ゾーン管状炉(アルミナ管 外径50mm 60mm 80mm)

材料研究および工業用熱処理用 1700℃高温3ゾーン管状炉(アルミナ管 外径50mm 60mm 80mm)

この高性能1700℃ 3ゾーン管状炉は、精密アルミナ管と独立した加熱制御を特徴としています。高度な材料研究向けに設計されており、化学気相成長(CVD)や複雑な雰囲気制御下の工業用熱処理プロセスにおいて、優れた温度均一性と安定性を提供します。

三ゾーン加熱 分割式縦型チューブ炉 1700 高温真空雰囲気熱処理システム

三ゾーン加熱 分割式縦型チューブ炉 1700 高温真空雰囲気熱処理システム

産業研究開発および材料科学用途向けの先進的な1700°C三ゾーン加熱分割式縦型チューブ炉。独立した熱制御、高真空機能、そしてエネルギー効率の高い断熱により、安定した高温処理と迅速な試料急冷結果を実現する高精度システムです。

8インチまたは11インチ石英管と高真空フランジを装備した大型縦型3ゾーン管状炉 1200℃

8インチまたは11インチ石英管と高真空フランジを装備した大型縦型3ゾーン管状炉 1200℃

当社の設計による大容量縦型3ゾーン炉は、独立した温度制御と11インチ石英管への対応により、要求の厳しい実験環境下での重要な産業用焼鈍・焼結研究および先端材料科学開発において、優れた均熱性と向上した真空完全性を実現します。

2インチアルミナチューブと水素検知器を備えた1500℃コンパクト水素ガス管状炉

2インチアルミナチューブと水素検知器を備えた1500℃コンパクト水素ガス管状炉

2インチのアルミナチューブと一体型Honeywell安全検知器を備えた先進的な1500℃コンパクト水素ガス管状炉。要求の厳しい材料科学R&D環境において、精密な熱処理と還元サイクル向けに設計され、比類のない信頼性と安全性を実現します。

先端材料科学の焼結および化学気相成長(CVD)アプリケーション向け高温三温度帯チューブ炉

先端材料科学の焼結および化学気相成長(CVD)アプリケーション向け高温三温度帯チューブ炉

最高温度1700℃、独立PID制御を備えたこの精密三ゾーンチューブ炉で熱処理を最適化。CVD、真空焼鈍、材料焼結に最適な優れた均一性を実現し、先端研究・産業用R&Dラボラトリーや大規模製造施設に理想的な装置です。

真空フランジ付き 三温度ゾーン分割型チューブ炉 36インチ加熱長 高温1200℃ 材料研究用炉

真空フランジ付き 三温度ゾーン分割型チューブ炉 36インチ加熱長 高温1200℃ 材料研究用炉

1200℃の高温処理向けに精密設計された三温度ゾーン分割型チューブ炉です。材料科学の研究開発における雰囲気制御および真空用途のための高度なPID制御を備え、卓越した熱均一性と信頼性の高い性能を産業用ラボ環境および研究機関に提供します。

1100°C 8ゾーン高圧スーパーアロイ管状炉(高圧ガス制御システム一体型)

1100°C 8ゾーン高圧スーパーアロイ管状炉(高圧ガス制御システム一体型)

スーパーアロイ製容器と統合制御システムを備えた、1100°C対応の8ゾーン高圧管状炉です。安定した高圧雰囲気と、要求の厳しいプロセスに必要な精密なマルチゾーン熱均一性を必要とする、超伝導材料の合成や先端酸化物セラミックスの研究に最適です。

高温3ゾーン分割型チューブ炉 最高1200℃ 加熱長35.4インチ 内径8インチチューブ

高温3ゾーン分割型チューブ炉 最高1200℃ 加熱長35.4インチ 内径8インチチューブ

この高性能な3ゾーン分割型チューブ炉は、35.4インチの加熱ゾーンと8インチ径のチューブを備え、高度な熱処理を実現します。独立したゾーン管理により、真空またはガス雰囲気下で最高1200℃の温度と優れた均熱性を達成します。

5インチ3ゾーン回転式管状炉(統合ガス供給システム搭載、1200℃対応、先端材料CVDプロセス向け)

5インチ3ゾーン回転式管状炉(統合ガス供給システム搭載、1200℃対応、先端材料CVDプロセス向け)

この高精度1200℃ 3ゾーン回転式管状炉は、4チャンネル統合ガス供給システムと自動チルト機構を備えており、先端電池材料、カソード合成、工業用粉末研究用途向けに均一な熱処理と化学気相成長(CVD)を提供します。

高温材料合成用、オプションの石英管および真空フランジシステム付き 24インチ 3ゾーン分割式チューブ炉

高温材料合成用、オプションの石英管および真空フランジシステム付き 24インチ 3ゾーン分割式チューブ炉

独立した温度制御、石英管対応、真空シールフランジを備えたこの高級24インチ3ゾーン分割式チューブ炉で、材料研究を加速します。1200°Cまでの精密な熱処理を実現し、要求の厳しい実験室および産業R&D用途に対応します。

1200°C 3ゾーン分割式管状炉(加熱長18インチ、真空フランジ付き)

1200°C 3ゾーン分割式管状炉(加熱長18インチ、真空フランジ付き)

この1200°C 3ゾーン分割式管状炉で熱処理プロセスを最適化しましょう。18インチの加熱長と精密なPID制御を備え、高度な材料研究、アニーリング、焼結、および世界中の研究施設における専門的な産業R&Dアプリケーションに優れた温度均一性を提供します。

CVDおよび材料焼結用3ゾーン高温真空管状炉

CVDおよび材料焼結用3ゾーン高温真空管状炉

この高性能3ゾーン管状炉は、各ゾーンを独立して制御することで精密な温度勾配を実現します。CVDや真空アニール用に設計されており、優れた温度均一性、高度なPIDプログラミング、産業用R&D向けの堅牢な真空シールを提供します。

高温1500℃ 3ゾーン分割型チューブ炉(80mmアルミナ管・真空フランジ付)

高温1500℃ 3ゾーン分割型チューブ炉(80mmアルミナ管・真空フランジ付)

この設計された1500℃ 3ゾーン分割型チューブ炉は、80mmアルミナ管と精密なPID制御を備えています。高度な材料研究、CVDプロセス、および優れた温度均一性と高真空安定性を必要とする工業用熱処理に最適です。