5面加熱・64Lチャンバー搭載 1200℃水素雰囲気ボックス炉

雰囲気炉

5面加熱・64Lチャンバー搭載 1200℃水素雰囲気ボックス炉

商品番号: TU-QF27

最高温度: 1200°C チャンバー容量: 64 リットル (400x400x400mm) 加熱構成: 5面加熱(±1°Cの均一性)
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製品概要

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この高性能熱処理システムは、制御された水素環境下での材料合成および熱処理向けに設計された特殊なボックス炉です。最高1200ºCまで到達可能で、複雑な還元反応を扱う研究者や産業エンジニアに堅牢なソリューションを提供します。真空封止されたステンレス鋼ケースと先進的な水冷ジャケットを組み合わせることで、正圧下での安定した運転を確保し、高温サイクル中の炉の構造的完全性を保護します。

本システムの主な用途は、リン化合物やチタン合金など、厳密に還元された雰囲気を必要とする先端材料の作製です。水素リッチなプロセスに加え、装置は不活性ガス、酸素、または不燃性混合ガス下での熱処理にも対応可能です。この柔軟性により、大気純度と熱精度が妥協できない要件である冶金、半導体開発、触媒研究に注力する研究室にとって中核的な装置となります。

信頼性は本装置設計の中核です。工業用グレードのKanthal Fe-Cr-Al合金発熱体と多面加熱構成を採用し、64リットルのチャンバー全体で卓越した温度均一性を実現します。高純度繊維質アルミナ断熱材と反射性Al2O3コーティングがエネルギー効率を最大化し、最も要求の厳しいR&Dスケジュール下でも一貫した性能を維持します。専用のH2燃焼システムと自動安全遮断バルブの搭載により、専門的な実験室環境で可燃性ガスを扱う際に必要な運用上の安心感を提供します。

主な特長

  • 優れた5面加熱構成: 2方向または3方向からの加熱にとどまる標準炉とは異なり、本システムは左・右・底・背面・前面に発熱体を配置しています。この包括的な加熱により、加熱チャンバー全体で可能な限り均一な温度分布を実現し、バッチ処理における材料特性の安定化に不可欠です。
  • 高度な水素安全統合: 装置には水素燃焼制御システムが内蔵されています。統合された点火装置が流れるガスを燃焼し、バーナー温度を監視します。システムが消炎を検知した場合、H2供給バルブは自動的に遮断され、ガス蓄積を防止して設備の安全を確保します。
  • 高性能な真空・圧力管理: 二重構造のステンレス鋼ボディは、最大限の真空保持と安全性を考慮して設計されており、0.06 MPaまでの正圧と-0.09 MPaまでの真空を維持可能です。これにより、厳密なパージプロトコルと内部環境の精密制御が可能になります。
  • 高品位な断熱性能: チャンバーは省エネ性の高い1500グレード繊維質アルミナ断熱材で内張りされ、高純度の反射性Al2O3層でコーティングされています。この設計により外部環境への熱損失を低減し、昇温速度を向上させ、運用エネルギーコストを大幅に削減します。
  • 高精度PID温度制御: 30セグメントのプログラムが可能な高度なPIDコントローラを採用し、複雑な昇温、冷却、保持ステップを設定できます。温度精度は±1°Cで、科学的検証に不可欠な再現性の高い熱プロファイルを提供します。
  • 工業用グレードのKanthal発熱体: 1300°CグレードのKanthal Fe-Cr-Al抵抗線を採用しており、優れた耐酸化性と高温サイクル下での長期安定性で知られ、発熱体交換による停止時間を最小限に抑えます。
  • 統合冷却インフラ: 高耐久の水冷ジャケットが前扉とシーリングフランジを保護し、空冷式外殻が外装表面温度を安全に保ちます。真空シールの健全性を維持するため、16L/分の循環式ウォーターチラーを内蔵しています。
  • 包括的なガス流量制御: 前面パネルにはN2およびH2用の2つの独立した大型流量計が搭載されており、不活性ガスパージから水素導入への移行を高い体積精度でシームレスに行えます。

用途

用途 説明 主な利点
チタン合金合成 酸化や窒素汚染を防ぐため、還元雰囲気下でTi系合金を処理します。 処理後合金の優れた構造健全性と純度。
触媒活性化 CO2還元およびグリーンエネルギー用途向け触媒のメカノケミカルおよび熱的活性化。 還元状態と表面形態を精密に制御。
リン製造 安全なH2環境下での高温還元を必要とする精製リン材料の合成。 統合H2燃焼センサーにより爆発リスクを低減。
粉末冶金 不活性ガスまたは還元ガス下で金属粉末を焼結し、高密度化を実現します。 高い温度均一性により局所的な構造弱点を回避。
CVD/PECVDサポート 各種前駆体ガスを用いた化学気相成長プロセスの熱基盤として機能します。 カスタムR&Dに対応する柔軟なガス処理と真空シール機能。
半導体のアニーリング 非酸化雰囲気下でのウェハ部品の高精度熱処理。 ±1°Cの精度により熱応力とドーピング変動を防止。
セラミック共焼成 制御された雰囲気条件下での先進セラミックスの高温処理。 64L容量により、均一な結果で大容量バッチ処理が可能。

技術仕様

パラメータ TU-QF27 の仕様詳細
品番 TU-QF27
チャンバー寸法 400mm x 400mm x 400mm(約16" x 16" x 16")
総容量 64リットル
加熱方式 5面加熱(左、右、底、背面、前面)
発熱体 1300°Cグレード Kanthal Fe-Cr-Al 抵抗線
最高温度 1200°C
昇温速度 推奨:≤ 10°C/分;最大:20°C/分
温度精度 ± 1°C
均一ゾーン(中心250mm) ± 1°C(立方体ゾーン)
均一ゾーン(中心300mm) ± 5°C(立方体ゾーン)
最大試料積載量 35 kg
真空性能 -0.09 Mpa まで
正圧上限 0.06 Mpa まで
流量計範囲 N2: 0–3.5 L/min;H2: 0–3.5 L/min
冷却システム シール用16 L/min循環式ウォーターチラー;空冷式シェル
電源 10 KW;208-240V 三相、50/60Hz(380V-460Vはオプション)
コントローラ FA-YD518P-AG PID、30セグメント、自動チューニング付き
通信 標準DB9 PCポート;LabVIEW/Eurothermオプションあり
適合規格 CE認証済み;MET認証済み(コントローラ)

この炉を選ぶ理由

  • 比類なき熱均一性: 5面加熱設計は、わずか数度の差でも材料特性を損なう可能性がある重要プロセス向けに特別に設計されています。本システムは±1°C精度の250mm立方体ゾーンを提供します。
  • 安全最優先の設計: 水素処理には本質的なリスクがあります。本装置は、統合フレームセンサー、自動遮断バルブ、および正圧を安全に扱えるよう設計された二重壁水冷ジャケットにより、それらのリスクを管理します。
  • 堅牢な商用構造: 産業R&Dの厳しい要求に対応するよう設計されており、Kanthal発熱体と1500グレード断熱材の採用により、低メンテナンスで長期的な投資価値を持つ炉となっています。
  • 高容量処理: 64リットルのチャンバーと35kgの積載能力により、大きな試料やバッチ合成が可能で、小規模実験とパイロット生産のギャップを埋めます。
  • 省エネルギー: 反射性Al2O3コーティングと高密度繊維質断熱材が実験室環境への熱放射を最小化し、光熱費を削減するとともに作業者の快適性を向上させます。

当社の技術チームが、お客様の特定の雰囲気要件についてご相談を承るほか、施設向けのカスタムソリューション構成をお手伝いします。技術相談または正式なお見積りについて、今すぐお問い合わせください。

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