製品概要




この高性能熱処理システムは、自動化された実験室機器の頂点を代表するものであり、特に先進的な材料科学および工業研究開発用途向けに設計されています。1200℃の最高作動温度と洗練された底面ローディング機構を組み合わせることで、複雑な熱処理に対して安定した再現性のある環境を提供します。大口径6インチの溶融石英管の統合により、最高純度と雰囲気制御の基準を維持しながら、かさばるサンプルや高スループットのバッチの処理が可能です。このユニットは、容量を犠牲にすることなく精度を求める研究者向けに設計されており、真空および制御ガス環境の両方に対応する汎用性の高いプラットフォームを提供します。
半導体製造、航空宇宙材料試験、先進セラミックスなどの分野を対象として、本システムは焼結、焼鈍、化学気相成長などの重要なプロセスを容易にします。その垂直方向の配置と自動化されたステージは、サンプルの汚染と熱衝撃のリスクを最小限に抑え、繊細な基板が極めて注意深く取り扱われることを保証します。堅牢な構造は連続運転の過酷な条件に耐えるように構築されており、高級実験室環境に適した形式で工業グレードの信頼性を提供します。個々の実験に使用される場合でも、より大規模な自動化生産ラインに統合される場合でも、本システムは現代のエンジニアリングの厳しい要求を満たす、一貫性のある高忠実度の結果をもたらします。
この装置への信頼は、その精密に設計されたコンポーネントと自律的な機能によって支えられています。システムは24時間365日運転を想定して設計され、高品質のFeCrAlMo加熱体と先進的なPID制御を利用して熱均一性を維持します。手動介入の必要性を減らすことで、装置は安全性と効率性を向上させ、実験室スタッフがハードウェア管理ではなくデータ分析に集中できるようにします。このユニットは単なる炉ではなく、材料開発と工業プロセス最適化における革新のペースを加速させるために設計された包括的な熱処理ソリューションです。
主な特徴
- 自動化底面ローディング機構: 精密モーター駆動ステージにより、サンプルを加熱ゾーンへ滑らかで振動のない移動が可能です。この垂直ローディング構成は、熱対称性を維持し、内部雰囲気を乱すことなく大型または重いるつぼの取り扱いを簡素化するのに理想的です。
- デュアルゾーン温度制御: 合計長さ350mmの2つの独立した加熱ゾーンを備え、特定の熱勾配を作成するか、±2℃以内の幅広い超均一な定温ゾーン(120mm)を維持するための比類のない柔軟性を提供します。
- 統合雰囲気管理: 1-1000 sccmのマスフローコントローラー(MFC)とステンレス鋼水冷フランジを装備し、精密なガス供給と圧力調整を可能にし、不活性、酸化、還元雰囲気を容易にサポートします。
- 高純度溶融石英チャンバー: 外径150mmの石英管は、化学的に不活性な環境を提供し、熱衝撃に強く、プロセスの視覚的モニタリングを可能にします。その高い透明性は、熱サイクル中の材料の物理的変化を追跡する研究者にとって不可欠です。
- 自律運転対応: システムはPC統合およびロボットアーム制御と完全に互換性があり、24時間365日の自律運転を可能にします。これにより、常時人の監視を必要とせずに、高スループットスクリーニングおよび長期安定性試験が可能になります。
- 先進的なタッチスクリーンインターフェース: ユーザーフレンドリーなパネルには、加熱/冷却速度や保持時間を含むすべての処理パラメータが統合されています。オペレーターは50セグメントのプロファイルをプログラムし、複雑な熱処理レシピをワンタッチで実行できます。
- 優れた真空性能: 高品質のシールフランジとオプションの分子ポンプアップグレードを含むことで、システムは10⁻⁵ Torrという深い真空レベルに到達でき、湿気や酸素に敏感なプロセスに適しています。
- 包括的な冷却システム: 標準で16L/分の循環水冷却装置が含まれており、シリコーンOリングを保護し、シールフランジの完全性を維持して、持続的な高温運転時でも真空シールの長期的な耐久性を確保します。
- 水素安全アップグレード: 特殊冶金用途向けに、自動水素ガスバーナー、漏洩検知器、供給ユニットを装備するアップグレードが可能で、高安全性の水素対応炉に変えることができます。
用途
| 用途 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| 半導体アニーリング | 制御されたガス流下でのシリコンまたは化合物半導体ウェーハの精密熱処理。 | 超安定な温度ゾーンにより欠陥を最小限に抑え、キャリア移動度を向上。 |
| 工業用セラミック焼結 | 先進セラミック粉末の高温統合による高密度・高強度部品への成形。 | 自動ローディングにより、脆い未焼成状態の部品への機械的衝撃を防止。 |
| 薄膜堆積 | 様々な基板上での蒸気輸送またはCVDプロセスにデュアルゾーン構成を利用。 | 大きな6インチ径にわたる優れた均一性により、一貫した膜厚を確保。 |
| 高スループットスクリーニング | ロボット統合を利用した材料探索のための連続的・自動化バッチサイクルの実行。 | 24時間365日の自律運転により、人件費を削減し、研究開発のタイムラインを加速。 |
| 電池材料合成 | 特定の不活性または反応性雰囲気下での正極/負極材料の焼成および合成。 | 高真空およびMFC制御により酸化を防止し、化学的純度を確保。 |
| 水素ろう付け | 酸化を防止する還元性水素雰囲気下での特殊金属部品の接合。 | 統合された安全バーナーと漏洩検知により、危険ガスに対する安全な環境を提供。 |
| 結晶成長 | 高純度単結晶の成長のための制御冷却および温度勾配。 | デュアルゾーンPID制御により、高品質結晶化に必要な正確な熱勾配が可能。 |
技術仕様
| パラメータカテゴリー | TU-DZ14の仕様詳細 |
|---|---|
| モデル番号 | TU-DZ14 |
| 電源 | 220VAC +/- 10%, 50/60Hz, 単相 |
| 最大電力 | 最大 6.0 kW |
| 最高使用温度 | 1200℃ (30分間以内) |
| 連続使用温度 | 1100℃ (長期運転) |
| 加熱体 | 高品位FeCrAlMo抵抗線 |
| 加熱ゾーン構成 | デュアルゾーン: 175mm (ゾーン1) + 175mm (ゾーン2) |
| 総加熱長 | 350 mm |
| 均一温度ゾーン | 120 mm (±2℃以内で維持) |
| 昇温速度 | 推奨 10℃ / 分 |
| 制御インターフェース | PLCロジック搭載統合タッチスクリーンパネル |
| 温度コントローラー | デュアル50セグメントプログラマブルコントローラー |
| 精度 | 標準 ±1℃ (オプションのEurothermアップグレードで ±0.1℃) |
| 熱電対 | デュアルK型高精度プローブ |
| 遠隔接続性 | 標準DB9 PCポート、遠隔監視用ソフトウェア付属 |
| プロセスチューブ寸法 | 溶融石英: 外径 150 mm x 内径 144 mm x 長さ 600 mm |
| フランジアセンブリ | 水冷SS304; 上部: 真空/ガスポート; 下部: サンプルステージ |
| ガス処理 | マスフローコントローラー (MFC) 1基, 範囲: 1 - 1000 sccm |
| サンプルステージ | 直径130 mm石英プレート (高スループット用にカスタマイズ可能) |
| 冷却システム | 16L/分循環水冷却装置 付属 |
| 真空性能 | 機械式: 10⁻² Torr; 分子ポンプ (オプション): 10⁻⁵ Torr |
| 認証 | オプションでNRTL認定 240 L/m 重真空ポンプ 利用可能 |
当社を選ぶ理由
- 比類のない精度と安定性: システムのデュアルゾーン加熱アーキテクチャにより、高精度K型センサーとPIDロジックに裏打ちされた、再現性のある材料特性に必要な正確な熱プロファイルをサンプルが経験します。
- 拡張可能な自動化: 実験室作業の未来に向けて設計されたこの装置は、手動研究から完全自律・ロボット支援運転へシームレスに移行し、実験室の生産性と投資収益率を大幅に向上させます。
- 工業用の堅牢な構造: 水冷SS304フランジから重厚な石英チャンバーまで、あらゆるコンポーネントは連続的な熱サイクルと過酷な化学環境に耐える能力に基づいて選定されています。
- 柔軟な雰囲気管理: プロセスが高真空、不活性ガスパージ、反応性水素雰囲気のいずれを必要とする場合でも、このユニットは単一プラットフォーム内で多様な実験ニーズに対応するモジュール性と安全機能を提供します。
- 包括的なサポートとカスタマイズ: THERMUNITSは、サンプルステージ、るつぼ、ガス供給システムをカスタマイズする深い技術的専門知識を提供し、装置がお客様の特定のワークフローに統合できる状態で納品されることを保証します。
工業的なパワーと実験室の精度を組み合わせた熱処理ソリューションに投資してください。詳細な見積もりや、お客様の特定の研究要件に合わせたカスタム構成についてのご相談は、本日より技術営業チームまでお問い合わせください。
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