6インチ石英管デュアルゾーンシステム搭載 1200℃雰囲気制御自動底面ローディング炉

雰囲気炉

6インチ石英管デュアルゾーンシステム搭載 1200℃雰囲気制御自動底面ローディング炉

商品番号: TU-DZ14

最高温度: 1200°C チューブ径: 150 mm (6 inch) OD 加熱ゾーン: デュアルゾーン (全長350mm)
品質保証 Fast Delivery Global Support
お問合せ

配送: お問い合わせ 配送詳細を確認してください オンタイムディスパッチ保証.

製品概要

製品画像1

製品画像2

製品画像3

製品画像4

この高性能熱処理システムは、自動化された実験室機器の頂点を代表するものであり、特に先進的な材料科学および工業研究開発用途向けに設計されています。1200℃の最高作動温度と洗練された底面ローディング機構を組み合わせることで、複雑な熱処理に対して安定した再現性のある環境を提供します。大口径6インチの溶融石英管の統合により、最高純度と雰囲気制御の基準を維持しながら、かさばるサンプルや高スループットのバッチの処理が可能です。このユニットは、容量を犠牲にすることなく精度を求める研究者向けに設計されており、真空および制御ガス環境の両方に対応する汎用性の高いプラットフォームを提供します。

半導体製造、航空宇宙材料試験、先進セラミックスなどの分野を対象として、本システムは焼結、焼鈍、化学気相成長などの重要なプロセスを容易にします。その垂直方向の配置と自動化されたステージは、サンプルの汚染と熱衝撃のリスクを最小限に抑え、繊細な基板が極めて注意深く取り扱われることを保証します。堅牢な構造は連続運転の過酷な条件に耐えるように構築されており、高級実験室環境に適した形式で工業グレードの信頼性を提供します。個々の実験に使用される場合でも、より大規模な自動化生産ラインに統合される場合でも、本システムは現代のエンジニアリングの厳しい要求を満たす、一貫性のある高忠実度の結果をもたらします。

この装置への信頼は、その精密に設計されたコンポーネントと自律的な機能によって支えられています。システムは24時間365日運転を想定して設計され、高品質のFeCrAlMo加熱体と先進的なPID制御を利用して熱均一性を維持します。手動介入の必要性を減らすことで、装置は安全性と効率性を向上させ、実験室スタッフがハードウェア管理ではなくデータ分析に集中できるようにします。このユニットは単なる炉ではなく、材料開発と工業プロセス最適化における革新のペースを加速させるために設計された包括的な熱処理ソリューションです。

主な特徴

  • 自動化底面ローディング機構: 精密モーター駆動ステージにより、サンプルを加熱ゾーンへ滑らかで振動のない移動が可能です。この垂直ローディング構成は、熱対称性を維持し、内部雰囲気を乱すことなく大型または重いるつぼの取り扱いを簡素化するのに理想的です。
  • デュアルゾーン温度制御: 合計長さ350mmの2つの独立した加熱ゾーンを備え、特定の熱勾配を作成するか、±2℃以内の幅広い超均一な定温ゾーン(120mm)を維持するための比類のない柔軟性を提供します。
  • 統合雰囲気管理: 1-1000 sccmのマスフローコントローラー(MFC)とステンレス鋼水冷フランジを装備し、精密なガス供給と圧力調整を可能にし、不活性、酸化、還元雰囲気を容易にサポートします。
  • 高純度溶融石英チャンバー: 外径150mmの石英管は、化学的に不活性な環境を提供し、熱衝撃に強く、プロセスの視覚的モニタリングを可能にします。その高い透明性は、熱サイクル中の材料の物理的変化を追跡する研究者にとって不可欠です。
  • 自律運転対応: システムはPC統合およびロボットアーム制御と完全に互換性があり、24時間365日の自律運転を可能にします。これにより、常時人の監視を必要とせずに、高スループットスクリーニングおよび長期安定性試験が可能になります。
  • 先進的なタッチスクリーンインターフェース: ユーザーフレンドリーなパネルには、加熱/冷却速度や保持時間を含むすべての処理パラメータが統合されています。オペレーターは50セグメントのプロファイルをプログラムし、複雑な熱処理レシピをワンタッチで実行できます。
  • 優れた真空性能: 高品質のシールフランジとオプションの分子ポンプアップグレードを含むことで、システムは10⁻⁵ Torrという深い真空レベルに到達でき、湿気や酸素に敏感なプロセスに適しています。
  • 包括的な冷却システム: 標準で16L/分の循環水冷却装置が含まれており、シリコーンOリングを保護し、シールフランジの完全性を維持して、持続的な高温運転時でも真空シールの長期的な耐久性を確保します。
  • 水素安全アップグレード: 特殊冶金用途向けに、自動水素ガスバーナー、漏洩検知器、供給ユニットを装備するアップグレードが可能で、高安全性の水素対応炉に変えることができます。

用途

用途 説明 主な利点
半導体アニーリング 制御されたガス流下でのシリコンまたは化合物半導体ウェーハの精密熱処理。 超安定な温度ゾーンにより欠陥を最小限に抑え、キャリア移動度を向上。
工業用セラミック焼結 先進セラミック粉末の高温統合による高密度・高強度部品への成形。 自動ローディングにより、脆い未焼成状態の部品への機械的衝撃を防止。
薄膜堆積 様々な基板上での蒸気輸送またはCVDプロセスにデュアルゾーン構成を利用。 大きな6インチ径にわたる優れた均一性により、一貫した膜厚を確保。
高スループットスクリーニング ロボット統合を利用した材料探索のための連続的・自動化バッチサイクルの実行。 24時間365日の自律運転により、人件費を削減し、研究開発のタイムラインを加速。
電池材料合成 特定の不活性または反応性雰囲気下での正極/負極材料の焼成および合成。 高真空およびMFC制御により酸化を防止し、化学的純度を確保。
水素ろう付け 酸化を防止する還元性水素雰囲気下での特殊金属部品の接合。 統合された安全バーナーと漏洩検知により、危険ガスに対する安全な環境を提供。
結晶成長 高純度単結晶の成長のための制御冷却および温度勾配。 デュアルゾーンPID制御により、高品質結晶化に必要な正確な熱勾配が可能。

技術仕様

パラメータカテゴリー TU-DZ14の仕様詳細
モデル番号 TU-DZ14
電源 220VAC +/- 10%, 50/60Hz, 単相
最大電力 最大 6.0 kW
最高使用温度 1200℃ (30分間以内)
連続使用温度 1100℃ (長期運転)
加熱体 高品位FeCrAlMo抵抗線
加熱ゾーン構成 デュアルゾーン: 175mm (ゾーン1) + 175mm (ゾーン2)
総加熱長 350 mm
均一温度ゾーン 120 mm (±2℃以内で維持)
昇温速度 推奨 10℃ / 分
制御インターフェース PLCロジック搭載統合タッチスクリーンパネル
温度コントローラー デュアル50セグメントプログラマブルコントローラー
精度 標準 ±1℃ (オプションのEurothermアップグレードで ±0.1℃)
熱電対 デュアルK型高精度プローブ
遠隔接続性 標準DB9 PCポート、遠隔監視用ソフトウェア付属
プロセスチューブ寸法 溶融石英: 外径 150 mm x 内径 144 mm x 長さ 600 mm
フランジアセンブリ 水冷SS304; 上部: 真空/ガスポート; 下部: サンプルステージ
ガス処理 マスフローコントローラー (MFC) 1基, 範囲: 1 - 1000 sccm
サンプルステージ 直径130 mm石英プレート (高スループット用にカスタマイズ可能)
冷却システム 16L/分循環水冷却装置 付属
真空性能 機械式: 10⁻² Torr; 分子ポンプ (オプション): 10⁻⁵ Torr
認証 オプションでNRTL認定 240 L/m 重真空ポンプ 利用可能

当社を選ぶ理由

  • 比類のない精度と安定性: システムのデュアルゾーン加熱アーキテクチャにより、高精度K型センサーとPIDロジックに裏打ちされた、再現性のある材料特性に必要な正確な熱プロファイルをサンプルが経験します。
  • 拡張可能な自動化: 実験室作業の未来に向けて設計されたこの装置は、手動研究から完全自律・ロボット支援運転へシームレスに移行し、実験室の生産性と投資収益率を大幅に向上させます。
  • 工業用の堅牢な構造: 水冷SS304フランジから重厚な石英チャンバーまで、あらゆるコンポーネントは連続的な熱サイクルと過酷な化学環境に耐える能力に基づいて選定されています。
  • 柔軟な雰囲気管理: プロセスが高真空、不活性ガスパージ、反応性水素雰囲気のいずれを必要とする場合でも、このユニットは単一プラットフォーム内で多様な実験ニーズに対応するモジュール性と安全機能を提供します。
  • 包括的なサポートとカスタマイズ: THERMUNITSは、サンプルステージ、るつぼ、ガス供給システムをカスタマイズする深い技術的専門知識を提供し、装置がお客様の特定のワークフローに統合できる状態で納品されることを保証します。

工業的なパワーと実験室の精度を組み合わせた熱処理ソリューションに投資してください。詳細な見積もりや、お客様の特定の研究要件に合わせたカスタム構成についてのご相談は、本日より技術営業チームまでお問い合わせください。

この製品に関するよくある質問をもっと見る

引用を要求

弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい!

関連製品

80mm径、最高温度1200℃、3チャンネルガスミキサーおよび真空ポンプシステムを備えたデュアルゾーン石英管炉

80mm径、最高温度1200℃、3チャンネルガスミキサーおよび真空ポンプシステムを備えたデュアルゾーン石英管炉

この先進的なデュアルゾーン石英管炉は、80mm径のチューブ、統合された3チャンネルガス混合、高性能真空システムを備えています。CVDおよび材料研究に最適で、正確な1200℃の熱処理と耐腐食性真空監視機能を備えています。

1200°C 雰囲気制御式自動ボトムローディング炉(6インチ石英管付き)

1200°C 雰囲気制御式自動ボトムローディング炉(6インチ石英管付き)

6インチ石英管とデュアルゾーン加熱を備えた、高度な1200°C雰囲気制御式自動ボトムローディング炉です。一貫した精度と完全な自動化統合機能を必要とする研究開発ラボでの材料研究や産業用熱処理アプリケーションに最適です。

2ゾーン高速加熱管状炉 高温真空雰囲気システム

2ゾーン高速加熱管状炉 高温真空雰囲気システム

この高性能な2ゾーン高速加熱管状炉は、最高温度1200℃、毎分100℃の高速昇温、精密なPID制御、および真空雰囲気機能を備えており、先端材料研究、焼結、化学気相成長(CVD)用途に最適です。

急速熱焼入れおよび制御雰囲気下での材料処理用 ステンレス製真空フランジ付きコンパクト縦型分割式石英管炉

急速熱焼入れおよび制御雰囲気下での材料処理用 ステンレス製真空フランジ付きコンパクト縦型分割式石英管炉

高精度研究用に設計されたこのコンパクトな縦型分割式石英管炉は、最大1100°Cまでの急速加熱を実現します。ステンレス製真空フランジと30セグメントのプログラム制御を備えており、材料科学や工業的な焼入れ用途に不可欠なツールです。信頼性の高い性能を提供します。

1100°C デュアルゾーン水素ガス管状炉(石英管および水素漏れ検知システム一体型)

1100°C デュアルゾーン水素ガス管状炉(石英管および水素漏れ検知システム一体型)

この高性能デュアルゾーン水素管状炉は、最大1100°Cまでの安全な熱処理を実現するHoneywell製ガス検知器を内蔵しています。材料科学の研究開発向けに設計されており、60mmまたは80mmの石英管を使用して精密な雰囲気制御が可能です。

高真空雰囲気制御および急速冷却機能付きデュアルゾーン分割型チューブ炉

高真空雰囲気制御および急速冷却機能付きデュアルゾーン分割型チューブ炉

卓越したエンジニアリングにより設計されたこのデュアルゾーン分割型チューブ炉は、精密な焼入れと真空雰囲気制御を実現します。先進の日本製制御システムと高品質な発熱体を採用し、重要な材料研究や高性能な産業用R&Dプロセスにおいて均一な熱プロファイルを保証します。

1200℃ デュアルゾーン分割型チューブ炉(溶融石英管および真空フランジ付き、60mm/80mm/100mm径から選択可能)

1200℃ デュアルゾーン分割型チューブ炉(溶融石英管および真空フランジ付き、60mm/80mm/100mm径から選択可能)

独立した温度制御により精密な温度勾配を実現する、1200℃デュアルゾーン分割型チューブ炉で材料研究を加速させます。溶融石英管と真空シールフランジを備え、高度なCVDやナノ材料合成に最適なソリューションです。

デュアルゾーンチューブ炉 1100℃ 11インチ石英チューブ・真空フランジ付き 8インチウエハ加工用

デュアルゾーンチューブ炉 1100℃ 11インチ石英チューブ・真空フランジ付き 8インチウエハ加工用

本製品の高性能高温デュアルゾーンチューブ炉は、11インチ石英チューブと24インチ加熱ゾーンを備え、産業用途・研究用途を問わず、8インチウエハのアニーリング、材料焼結、特殊な化学気相成長研究装置に優れた熱均一性を提供します。

11インチまたは15インチ石英管とヒンジ式フランジを装備した真空雰囲気熱処理用3ゾーンチューブ炉

11インチまたは15インチ石英管とヒンジ式フランジを装備した真空雰囲気熱処理用3ゾーンチューブ炉

本3ゾーンチューブ炉は11インチまたは15インチの石英管を備え、精密な真空制御下での大規模ウェハアニーリングや材料合成に優れた熱均一性を実現します。産業研究所の安全性のため電動式リッド操作に対応しています。

1100°C 高温石英チャンバー炉 8インチ外径 7.6リットル容量 真空雰囲気対応

1100°C 高温石英チャンバー炉 8インチ外径 7.6リットル容量 真空雰囲気対応

外径8インチ、容量7.6リットルの1100°C石英チャンバー炉で、研究室の能力を向上させましょう。真空および制御雰囲気環境向けに設計されたこのシステムは、先端材料研究や半導体製造のための精密な熱処理を提供します。

1100°C 大口径石英チューブ炉(24インチ加熱ゾーンおよび水冷フランジ付き)

1100°C 大口径石英チューブ炉(24インチ加熱ゾーンおよび水冷フランジ付き)

この1100°C大口径石英チューブ炉は、24インチの加熱ゾーンと精密なCVD処理のための水冷フランジを備えています。材料研究や産業用R&Dに最適で、優れた熱安定性と堅牢な熱性能を提供します。

マルチゾーンアニールおよび材料研究用 3インチ石英管付き 高スループット1200℃ 4チャンネル管状炉

マルチゾーンアニールおよび材料研究用 3インチ石英管付き 高スループット1200℃ 4チャンネル管状炉

各3インチ石英管を個別に制御可能な、当社の先進的な1200℃ 4チャンネル管状炉で材料研究を加速させます。この高スループットシステムは、産業および学術研究開発ラボにおけるアニールや状態図研究に比類のない効率性を提供します。

材料焼結および制御雰囲気熱処理用 3ゾーン回転管状炉

材料焼結および制御雰囲気熱処理用 3ゾーン回転管状炉

この3ゾーン回転管状炉で熱処理プロセスを強化しましょう。スウェーデン製Kanthal A1エレメントと0~40度の傾斜機能を備え、粉末焼結や制御された真空・雰囲気下での高純度材料研究において優れた均一性を提供し、産業用R&D部門に最適です。

AI材料研究向け自動式1200℃チューブ炉 外径6インチ・スライドフランジ仕様

AI材料研究向け自動式1200℃チューブ炉 外径6インチ・スライドフランジ仕様

AI駆動研究向けに設計されたこの高品質自動チューブ炉で、材料開発を加速させましょう。直径6インチのヒーティングゾーンとデュアルゾーン加熱を特長とする本システムは、ロボット統合と24時間連続合成に対応し、ハイスループットな産業・研究開発用途に最適です。

80mmアルミナ管採用 垂直型1700℃真空・雰囲気制御チューブ炉

80mmアルミナ管採用 垂直型1700℃真空・雰囲気制御チューブ炉

この高精度垂直型チューブ炉は、材料合成のために最高1700℃までの卓越した熱均一性を実現します。80mmのアルミナ管と高度な真空シールフランジを備え、要求の厳しい産業用R&Dや特殊な熱処理プロセスに安定した雰囲気を提供します。

先端材料研究向け:精密回転・傾斜調整機能付き二重温度回転管状炉

先端材料研究向け:精密回転・傾斜調整機能付き二重温度回転管状炉

Kanthal A1エレメントと精密回転機構を搭載し、均一な材料処理を実現する高性能二重温度回転管状炉です。信頼性の高い温度制御と調整可能な傾斜機能を備え、厳しい産業用ラボ環境でのCVDや研究開発用途に最適です。

高温CVDおよび真空アニール用2ゾーン・ダブルカバー管状炉

高温CVDおよび真空アニール用2ゾーン・ダブルカバー管状炉

Kanthal A1発熱体と高度なPID制御を備えた、研究および産業用途向けのプロフェッショナル仕様の2ゾーン管状炉です。CVD、真空アニール、材料焼結において、比類のない信頼性と精密な熱処理プロセスを提供します。

1500℃ 2ゾーン分割型チューブ炉(真空フランジ・80mmアルミナチューブ付)

1500℃ 2ゾーン分割型チューブ炉(真空フランジ・80mmアルミナチューブ付)

80mmアルミナチューブ、SiC発熱体、高精度PID制御を搭載した高性能1500℃ 2ゾーン分割型チューブ炉。材料研究開発、化学気相成長(CVD)、真空および多雰囲気下での熱処理など、高度な産業用ラボ研究用途に最適です。

1200°C 5インチ垂直型石英管状炉(ステンレス製真空フランジ付き)

1200°C 5インチ垂直型石英管状炉(ステンレス製真空フランジ付き)

5インチ径のチャンバーとステンレス製真空フランジを備えた高性能1200°C垂直型石英管状炉。30セグメントの精密PID制御により、材料科学の研究開発、CVD、および制御雰囲気下での特殊な焼入れ用途において正確な熱処理を実現します。

タッチスクリーンコントローラーと複数の石英管オプションを備えた5ゾーン1200℃高温分割式チューブ炉

タッチスクリーンコントローラーと複数の石英管オプションを備えた5ゾーン1200℃高温分割式チューブ炉

精密な熱勾配と雰囲気制御のために設計された高性能5ゾーン1200℃チューブ炉です。本システムは、直感的なタッチスクリーンプログラミングと真空シール機能を備え、精密焼結、アニーリング、材料合成の各ワークフローにおいて安定した結果を実現します。