8.6インチ径石英チャンバー搭載 急速ガス冷却式 1200℃ ボトムローディング真空炉

製品概要

この高性能ボトムローディング熱処理システムは、材料科学を専門とする研究所や産業研究開発施設向けに設計された、技術の粋を集めた製品です。モータ駆動のサンプルステージを備えた縦型構造により、繊細なサンプルや重量のあるサンプルの装填を非常に容易に行えます。本装置の中心的な価値は、高い真空完全性または制御された雰囲気条件を維持しつつ、急速な温度変化を実現できる点にあり、相変態を厳密に制御する必要がある先進的な冶金およびセラミック研究に不可欠です。

汎用性を考慮して設計された本システムは、主に航空宇宙、半導体、先進製造業界で真空ろう付け、焼鈍、高温合成といったプロセスに利用されています。数千時間にわたる運転でも結果が一貫して再現性のあることを保証するよう設計されており、過酷な負荷サイクルに対応可能です。堅牢な構造は高純度石英技術と精密な機械式昇降部品を組み合わせ、最も要求の厳しい技術要件に対しても信頼性の高い熱環境を提供します。

安全性と効率性を考慮して設計された本装置は、空冷式の二重層スチールケーシングを搭載しており、最高温度サイクル中でも筐体外部は安全に触れられる温度に保たれます。高純度アルミナファイバー断熱材とサンプル昇降装置用の高トルクモータを組み合わせることで、すべてのサイクルがスムーズで精密、かつ熱効率に優れたものとなっています。基本的な熱処理から複雑な多段階真空焼結まで、本システムは現代の産業規格が要求する精度と信頼性を提供します。

主な特長

• モータ駆動式ボトムローディングステージ：自動昇降システムによりシームレスなサンプルの挿入・取り出しが可能で、繊細な基板の熱衝撃や物理的損傷のリスクを最小限に抑えつつ、熱中心内での再現性のある位置決めを保証します。
• 急速ガス焼入れシステム：不活性ガスブローシステムを内蔵し4本の専用ガス供給チューブを備えているため、加熱後すぐにサンプルを急速冷却でき、微細組織の形成と材料硬度の精密制御が可能になります。
• デュアルゾーン温度監視：2基の独立した30セグメントプログラム可能PIDコントローラーを搭載しており、1基が発熱体を制御し、2基目が実際のサンプルステージ温度を監視することで、熱プロファイル分析のための包括的なデータを提供します。
• 電動輻射シールド：サンプルステージが下降した状態では、電動スライド扉が加熱チャンバーからの熱放射を効果的に遮断し、チャンバー内部の熱を維持しつつ作業者と周囲の機器を保護します。
• 高度な真空管理：本システムは高品質Oリングシールを備えた水冷式SS304真空フランジ、高感度圧力監視用のピラニ真空計、デュアルステージ回転翼ポンプを統合しており、急速かつ安定した真空度の到達を実現します。
• 高純度石英チャンバー：交換可能な内径8.5インチの石英チャンバーは、高純度処理のための清浄で非反応性の環境を提供し、高真空下と制御されたガスフロー条件の両方で動作可能です。
• 包括的な熱安全対策：二重層スチールケーシングと統合された空冷システムにより、炉の外表面温度を60℃以下に維持し、研究施設の安全性を高め、施設の空調システムへの負荷を軽減します。
• 精密PID制御ロジック：内部コントローラーはオートチューニング機能、過熱保護、熱電対断線検出を備えており、熱サイクルが設定値に対して±1℃以内に維持され、優れたプロセスの一貫性を実現します。

用途

技術仕様

当社を選ぶ理由

本ボトムローディング真空システムに投資することで、貴社の研究施設は現代材料科学の過酷な要求に応える設計のツールを手に入れることができます。大径石英チャンバーとモータ駆動式昇降装置の独自の組み合わせにより、標準的なチューブ炉では対応できない嵩張る形状や複雑な形状の加工が可能になります。大容量真空ポンプとアクティブガス焼入れシステムの両方を統合することで、通常ははるかに大型の産業規模炉にしかないレベルのプロセス制御を提供します。

専用冷水機とデュアル温度コントローラー（1基はサンプル監視専用）を標準搭載していることは、データの精度と装置の長寿命を優先するエンジニアリングへのこだわりを示しています。本システムは単なる炉ではなく、完全な熱処理ワークステーションであり、ステークスの高い研究開発環境で長年にわたり安定したサービスを提供するよう設計されています。当社の技術チームは、お客様固有の雰囲気または真空要件に対応するカスタマイズの支援を準備しております。

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