製品概要
この高性能マルチチャンネル熱処理システムは、極めて高い純度と高スループット能力を必要とする先端材料科学および産業R&D用途向けに設計されています。高清浄度チャンバー内に6つの独立した加熱チャンネルを統合することで、研究者やエンジニアはさまざまな条件下で複数の熱処理サイクルを同時に実行できます。この構成により、半導体、先端合金、高純度セラミックスを含む最も繊細な材料にも適した制御環境を維持しながら、実験ワークフローを大幅に加速します。
クリーンルーム環境での運用を前提に設計された本システムは、US FED STD 209E Class 100に適合する清浄度レベルを実現します。内部構造には高品質な断熱材と表面処理を採用し、粒子汚染を防止するため、半導体ウェーハの焼鈍、薄膜成膜研究、高純度焼結に最適です。本装置は雰囲気制御プロセスに優れており、水素、真空、不活性ガス環境との高い互換性を備え、複雑な冶金および化学合成プロセスにおいて多用途な性能を発揮します。
要求の厳しい産業および学術環境で長期的な信頼性を発揮するよう構築されており、頑丈なステンレス鋼チャンバーと高度な安全プロトコルを備えています。特殊な水素安全機構と精密な自動化により、完全な安心感のもとで連続無人運転が可能です。大学研究室でも企業のパイロットラインでも、本システムは熱処理精度への高級投資を体現し、各チャンネルで一貫した再現性の高い結果を提供します。
主な特長
- 6つの独立した加熱チャンネル: 各チャンネルには専用の温度制御システムとガス供給インフラが備わっており、異なる温度および雰囲気条件で6つの異なる試料を同時処理できます。
- Class 100清浄度認証: 高純度アルミナファイバーチャンバーは、特別なアルミナコーティング表面を採用し、粉じんの発生とアウトガスを最小限に抑え、US FED STD 209E Class 100基準を満たす内部環境を実現します。
- 高度な水素安全システム: 爆発の可能性を防ぐため、チューブとチャンバー間の断熱層内に不活性ガス循環システムを採用しています。チューブが破損した場合でも、水素はこの保護中間層内で安全に封じ込められ、希釈されます。
- 高精度PIDおよびPC連携: 各加熱モジュールはインテリジェントな50セグメントのプログラマブルコントローラーで管理され、PCベースのソフトウェアと完全に統合されており、リアルタイム監視、データ記録、加熱・保持・冷却サイクルの完全自動制御が可能です。
- 高純度アルミナファイバーチャンバー: チャンバーは真空成形セラミックファイバーで構成され、優れた断熱性と高い加熱効率を提供するとともに、内部部品の寿命を大幅に延ばします。
- 二重層空冷シェル: 外部構造は統合型強制空冷を備えた二重層設計を採用し、内部温度が最大時でも外面を安全に触れられる状態に保ちます。
- 自動ガス・圧力管理: ソフトウェア制御の定圧焼結モードがガス流量を自動調整し、安定したわずかな正圧を維持することで、熱処理全体を通じて一貫した雰囲気密度を確保します。
- 独立水冷フランジ: 304ステンレス鋼製フランジ6組に統合された水冷ポートがOリングシールを保護し、集中的な高温サイクル中でも長期的な真空保持と高圧安定性を確保します。
- カスタマイズ可能なチューブ選択: 高純度石英チューブが標準ですが、本システムはニッケル基合金またはジルコニウム合金チューブにも対応し、特殊な腐食環境や最大1200℃までの特定温度要件に対応できます。
- 包括的なデータ記録: 温度曲線、圧力レベル、真空状態を含むすべての実験プロセスデータが記録され、詳細分析および品質管理検証のためにエクスポートできます。
用途
| 用途 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| 半導体焼鈍 | クリーンルーム条件下でのシリコンおよび化合物半導体ウェーハの高純度熱処理。 | 粒子汚染を最小限に抑え、均一な結晶回復を確保します。 |
| 水素還元 | 制御された水素雰囲気を用いた金属酸化物の純金属粉末または薄膜への還元。 | 爆発性ガスに対する安全プロトコルを統合した高スループット処理。 |
| 先端冶金 | 高温合金および非鉄金属の焼結と熱処理を、複数の段階にわたって実施。 | 独立チャンネルにより、材料比較研究を迅速に行えます。 |
| 薄膜R&D | 真空または不活性ガス中で、セラミックまたはガラス基板上の機能性薄膜の熱処理。 | 酸化を防止し、膜の微細構造を精密に制御します。 |
| 核材料試験 | 模擬運転雰囲気下での特殊材料の高温分析。 | 繊細な研究向けの堅牢な封じ込めと信頼性の高いデータ記録。 |
| セラミック焼結 | 歯科材料や構造部品を含む先端技術セラミックスの焼結。 | 6つの試料ゾーンすべてで卓越した温度均一性。 |
| 産業QC試験 | 生産ロット全体にわたる熱安定性と耐化学性を確認するための材料サンプルのバッチ試験。 | 複数の試験プロファイルを同時に実行することで実験室の生産性を向上させます。 |
技術仕様
| カテゴリ | パラメータ | 仕様 (TU-QF25) |
|---|---|---|
| モデル識別 | 製品品番 | TU-QF25 |
| 電源 | 入力電源 | AC三相380V、50/60Hz |
| 最大電力 | 48 KW | |
| 温度性能 | 最高使用温度 | 1200℃（≤ 30分） |
| 連続使用温度 | 1100℃ | |
| 昇温速度 | ≤ 10℃/分 | |
| 加熱ゾーン長さ | 700 mm | |
| 温度精度 | ± 1℃（オプションの欧州製コントローラー ± 0.1℃） | |
| 制御システム | コントローラーモデル | 858P PID インテリジェントコントローラー |
| プログラミング | 50セグメントのプログラマブル制御 | |
| 制御インターフェース | 専用ソフトウェア付き DB9 PC通信ポート | |
| 制御モード | 自動パージモード；定圧焼結モード | |
| 構造 | チャンバー材質 | 表面コーティング付き高純度アルミナファイバー |
| 発熱体 | モリブデン鉄クロムアルミニウム | |
| 熱電対 | K型 | |
| 清浄度レベル | US FED STD 209E Class 100 | |
| ガス＆amp;真空 | フランジタイプ | 304ステンレス鋼 水冷フランジ（KF60/KF25） |
| ガス流量制御 | 6台の独立フローメーター（40-400ml/min） | |
| 標準機械式リリーフ | 0.04 MPaで開放 | |
| 焼結圧力範囲 | 100,000 Pa - 115,000 Pa（自動調整） | |
| チューブ仕様 | 標準石英サイズ | Φ25x19 ID、Φ50x44 ID、Φ60x55 ID（長さ：1200 mm） |
| オプション合金チューブ | ニッケル基合金（1200℃）／ジルコニウム合金（800℃） | |
| オプションアクセサリー | 可燃性ガス処理 | 200W、AC220V、電流変成器保護付き |
| 水素検知 | 固定式または携帯式（1-1000ppm範囲） | |
| 真空ポンプ | メカニカル（10^-2 Torr）または分子ポンプ（10^-5 Torr） | |
| チラー装置 | CW-6300（冷却能力 26826 Btu/h） |
高スループット焼鈍向け 1200℃最大 6チャンネル 高清浄度水素炉を選ぶ理由
- 比類ないスループットと多用途性: このシステムは実質的に6台の独立した炉の役割を果たし、設備面積やエネルギー負荷を増やすことなく、R&D活動を大幅に拡大できます。
- 優れたクリーンルーム適合性: 高純度環境向けに設計されており、試料を汚染から守ります。これは現代の半導体およびナノテクノロジー研究における重要な要件です。
- 安全最優先の設計: 統合された不活性ガス中間層とオプションの可燃性ガス処理装置により、この装置は水素雰囲気熱処理における業界標準の安全性を実現します。
- 精密自動化とデータ完全性: 高度なソフトウェアインターフェースは、複雑なガスパージおよび焼結ルーチンを自動化するだけでなく、規制遵守および科学的検証のためにすべてのデータポイントを確実に記録します。
- カスタマイズ可能で将来対応: さまざまなチューブ材質から高度な分子ポンプ統合まで、本システムは現在の研究ニーズに合わせて調整でき、プロセス要件の変化に応じてアップグレード可能です。
高スループット熱処理ソリューションの技術相談や正式なお見積りをご希望の場合は、今すぐTHERMUNITSまでお問い合わせください。
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい！
関連製品
焼鈍及び材料状態図研究向け 50mm石英管搭載 1200℃ ハイスループット多チャンネル管状炉
先端材料科学研究・状態図研究向けに開発された本1200℃ 6チャンネル管状炉は、独立温度制御と真空シール石英管により、合金・セラミックスの同時ハイスループット熱処理を実現し、研究効率を飛躍的に向上させます。
82mm超合金管とデュアル水素検知器を搭載した3ゾーン水素ガスチューブ炉 1200℃高温材料加工システム
ニッケル基超合金管と統合安全検知器を備えたこの高度な3ゾーン水素ガスチューブ炉で、高温材料研究を最適化し、要求の厳しい産業・研究開発用途での安全な1200℃加工を実現し、最大限の信頼性と性能を確保します
5面加熱・64Lチャンバー搭載 1200℃水素雰囲気ボックス炉
精密設計された1200℃水素雰囲気ボックス炉。64リットルのチャンバーと5面加熱により、優れた温度均一性を実現します。高度な安全システムとプログラム可能なPID制御により、高純度材料の合成や産業R&Dプロセスに最適です。
マルチゾーンアニールおよび材料研究用 3インチ石英管付き 高スループット1200℃ 4チャンネル管状炉
各3インチ石英管を個別に制御可能な、当社の先進的な1200℃ 4チャンネル管状炉で材料研究を加速させます。この高スループットシステムは、産業および学術研究開発ラボにおけるアニールや状態図研究に比類のない効率性を提供します。
6ゾーン分割型チューブ炉 1.8メートル石英管 1200℃高温加熱システム
この6ゾーン高温分割型チューブ炉は、柔軟な温度勾配と1.8メートルの加熱ゾーンを提供します。最高温度1200℃の真空対応システムであり、6つのPIDコントローラーを搭載。高度な材料研究や産業用熱処理アプリケーションに最適です。
5面加熱マッフル炉 1200℃ 高い均一性 64L チャンバー 16x16x16インチ 産業用熱処理
この64Lの5面加熱マッフル炉で、優れた温度均一性を実現します。1200℃の最高温度と高耐久の100kg積載 क्षमताを備え、精密なPID制御により、高度な材料研究や高性能な産業用熱処理用途に世界中で対応します。
材料研究用 1200℃ ハイブリッドマッフル・管状炉（デュアル雰囲気制御石英管付き）
7.2Lのマッフルチャンバーと、真空または不活性雰囲気処理が可能な2インチ石英管を2本備えた、高性能1200℃ハイブリッド炉で材料研究を加速させます。産業用R&D用途に最適な精密な温度制御と優れた熱効率を提供します。
1200℃ 5面加熱式引戸付きマッフル炉 125L 大容量高温熱処理システム 大規模焼結・焼鈍用途
5面加熱と急速冷却引戸を搭載した1200℃ 125Lマッフル炉で、大容量材料処理を最適化します。優れた温度均一性と産業用信頼性を実現するよう設計されたこの先進システムは、要求の厳しい研究開発ラボにおける高精度な焼結と焼鈍を保証します。
オプションの合金脱脂室付き 大容量バッチ焼結用 1200℃ 高温 125L 5面加熱マッフル炉
この産業用1200℃高温5面加熱マッフル炉は、125Lの容量とオプションの合金脱脂室を備え、実験室環境における先端材料研究および大規模セラミック焼結用途において、優れた熱均一性と精密制御を提供します。
5面加熱マッフル炉 高純度アルミナファイバー 27Lチャンバー 1200℃ 高温熱処理システム（焼結・アニール・材料研究用）
27Lのチャンバーと1200℃の処理能力を備えた、高性能な5面加熱マッフル炉で専門的な研究を最適化します。優れた温度均一性と精度を実現するように設計されており、焼結、アニール、先端材料科学の産業用ラボ用途において非常に信頼性の高い結果を保証します。
80mm径、最高温度1200℃、3チャンネルガスミキサーおよび真空ポンプシステムを備えたデュアルゾーン石英管炉
この先進的なデュアルゾーン石英管炉は、80mm径のチューブ、統合された3チャンネルガス混合、高性能真空システムを備えています。CVDおよび材料研究に最適で、正確な1200℃の熱処理と耐腐食性真空監視機能を備えています。
1100℃ 水素ガス雰囲気チューブ炉（5インチ溶融石英管および統合型安全監視システム搭載）
統合型H2検知システム、5インチ石英管、自動安全インターロックを備えたこの1100℃水素ガスチューブ炉で、安全性と精度を確保します。酸化に敏感な材料の超高純度熱処理や、高度な触媒研究用途に最適です。専門的に設計された高性能な装置です。
1700℃水素ガス管状炉 60mmアルミナプロセスチューブ一体型水素安全検知器付き
この高温1700℃水素ガス管状炉は、実験室の安全性を最大限に確保するため、60mmアルミナチューブと電磁遮断弁付きの一体型ガス検知器を搭載しています。可燃性雰囲気または不活性雰囲気環境での材料合成と熱処理用に設計されています。
1100°C デュアルゾーン水素ガス管状炉（石英管および水素漏れ検知システム一体型）
この高性能デュアルゾーン水素管状炉は、最大1100°Cまでの安全な熱処理を実現するHoneywell製ガス検知器を内蔵しています。材料科学の研究開発向けに設計されており、60mmまたは80mmの石英管を使用して精密な雰囲気制御が可能です。
最大1100℃まで個別に温度制御可能な、材料科学研究およびハイスループット熱処理用16チャンネル揺動管状炉
この16チャンネル揺動管状炉は、最大1100℃までのハイスループットな材料合成において、独立した温度制御と動的な攪拌機能を提供します。合金研究、セラミックス開発、高度な触媒最適化に最適で、真空対応のコンパクトな産業用実験室向け熱処理装置です。
2インチアルミナチューブと水素検知器を備えた1500℃コンパクト水素ガス管状炉
2インチのアルミナチューブと一体型Honeywell安全検知器を備えた先進的な1500℃コンパクト水素ガス管状炉。要求の厳しい材料科学R&D環境において、精密な熱処理と還元サイクル向けに設計され、比類のない信頼性と安全性を実現します。
高温経済的水素ガスボックス炉 1600℃ 雰囲気制御熱処理システム 容量65L
この高温水素雰囲気ボックス炉は、先端材料研究のために最大1600℃の精密熱処理を提供します。モリブデン合金コイルによる3面加熱と水冷式真空密閉チャンバーを備え、安全性、信頼性、優れた性能を確保します。
高温水素雰囲気ボックス炉 最高1650℃ 還元環境材料合成システム 8x8x8チャンバー
この工業用高温水素雰囲気ボックス炉は、材料合成のために最高1650℃までの制御された還元環境を提供します。精密な8x8x8インチのチャンバーと安全システムを備え、要求の厳しい研究開発ラボ向けに均一な熱処理を実現します。
先端材料加工用 1400℃ 高温コールドウォール高真空チャンバー炉
この1400℃対応コールドウォール高真空チャンバー炉で研究を最適化しましょう。水冷式ステンレス製容器と金属断熱材を採用し、超クリーンな処理を実現。1e-6 torrの真空度を達成し、高純度熱処理や先端材料開発に最適です。
高温1700℃ 6ゾーン分割型チューブ炉（アルミナチューブ、⽔冷フランジ付き）
材料研究および産業用蒸着用途向けに設計された高精度1700℃六ゾーン分割型チューブ炉です。この多用途システムは、独立した温度ゾーン制御と真空対応フランジを備え、一貫した熱処理と高度な材料開発要件に対応し、最大限の性能を実現します。
