高スループット焼鈍向け 1200℃最大 6チャンネル 高清浄度水素炉

雰囲気炉

高スループット焼鈍向け 1200℃最大 6チャンネル 高清浄度水素炉

商品番号: TU-QF25

最高温度: 1200℃ 処理チャネル: 6つの独立したチャネル 清浄度基準: US FED STD 209E クラス100
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製品概要

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この高性能マルチチャンネル熱処理システムは、極めて高い純度と高スループット能力を必要とする先端材料科学および産業R&D用途向けに設計されています。高清浄度チャンバー内に6つの独立した加熱チャンネルを統合することで、研究者やエンジニアはさまざまな条件下で複数の熱処理サイクルを同時に実行できます。この構成により、半導体、先端合金、高純度セラミックスを含む最も繊細な材料にも適した制御環境を維持しながら、実験ワークフローを大幅に加速します。

クリーンルーム環境での運用を前提に設計された本システムは、US FED STD 209E Class 100に適合する清浄度レベルを実現します。内部構造には高品質な断熱材と表面処理を採用し、粒子汚染を防止するため、半導体ウェーハの焼鈍、薄膜成膜研究、高純度焼結に最適です。本装置は雰囲気制御プロセスに優れており、水素、真空、不活性ガス環境との高い互換性を備え、複雑な冶金および化学合成プロセスにおいて多用途な性能を発揮します。

要求の厳しい産業および学術環境で長期的な信頼性を発揮するよう構築されており、頑丈なステンレス鋼チャンバーと高度な安全プロトコルを備えています。特殊な水素安全機構と精密な自動化により、完全な安心感のもとで連続無人運転が可能です。大学研究室でも企業のパイロットラインでも、本システムは熱処理精度への高級投資を体現し、各チャンネルで一貫した再現性の高い結果を提供します。

主な特長

  • 6つの独立した加熱チャンネル: 各チャンネルには専用の温度制御システムとガス供給インフラが備わっており、異なる温度および雰囲気条件で6つの異なる試料を同時処理できます。
  • Class 100清浄度認証: 高純度アルミナファイバーチャンバーは、特別なアルミナコーティング表面を採用し、粉じんの発生とアウトガスを最小限に抑え、US FED STD 209E Class 100基準を満たす内部環境を実現します。
  • 高度な水素安全システム: 爆発の可能性を防ぐため、チューブとチャンバー間の断熱層内に不活性ガス循環システムを採用しています。チューブが破損した場合でも、水素はこの保護中間層内で安全に封じ込められ、希釈されます。
  • 高精度PIDおよびPC連携: 各加熱モジュールはインテリジェントな50セグメントのプログラマブルコントローラーで管理され、PCベースのソフトウェアと完全に統合されており、リアルタイム監視、データ記録、加熱・保持・冷却サイクルの完全自動制御が可能です。
  • 高純度アルミナファイバーチャンバー: チャンバーは真空成形セラミックファイバーで構成され、優れた断熱性と高い加熱効率を提供するとともに、内部部品の寿命を大幅に延ばします。
  • 二重層空冷シェル: 外部構造は統合型強制空冷を備えた二重層設計を採用し、内部温度が最大時でも外面を安全に触れられる状態に保ちます。
  • 自動ガス・圧力管理: ソフトウェア制御の定圧焼結モードがガス流量を自動調整し、安定したわずかな正圧を維持することで、熱処理全体を通じて一貫した雰囲気密度を確保します。
  • 独立水冷フランジ: 304ステンレス鋼製フランジ6組に統合された水冷ポートがOリングシールを保護し、集中的な高温サイクル中でも長期的な真空保持と高圧安定性を確保します。
  • カスタマイズ可能なチューブ選択: 高純度石英チューブが標準ですが、本システムはニッケル基合金またはジルコニウム合金チューブにも対応し、特殊な腐食環境や最大1200℃までの特定温度要件に対応できます。
  • 包括的なデータ記録: 温度曲線、圧力レベル、真空状態を含むすべての実験プロセスデータが記録され、詳細分析および品質管理検証のためにエクスポートできます。

用途

用途 説明 主な利点
半導体焼鈍 クリーンルーム条件下でのシリコンおよび化合物半導体ウェーハの高純度熱処理。 粒子汚染を最小限に抑え、均一な結晶回復を確保します。
水素還元 制御された水素雰囲気を用いた金属酸化物の純金属粉末または薄膜への還元。 爆発性ガスに対する安全プロトコルを統合した高スループット処理。
先端冶金 高温合金および非鉄金属の焼結と熱処理を、複数の段階にわたって実施。 独立チャンネルにより、材料比較研究を迅速に行えます。
薄膜R&D 真空または不活性ガス中で、セラミックまたはガラス基板上の機能性薄膜の熱処理。 酸化を防止し、膜の微細構造を精密に制御します。
核材料試験 模擬運転雰囲気下での特殊材料の高温分析。 繊細な研究向けの堅牢な封じ込めと信頼性の高いデータ記録。
セラミック焼結 歯科材料や構造部品を含む先端技術セラミックスの焼結。 6つの試料ゾーンすべてで卓越した温度均一性。
産業QC試験 生産ロット全体にわたる熱安定性と耐化学性を確認するための材料サンプルのバッチ試験。 複数の試験プロファイルを同時に実行することで実験室の生産性を向上させます。

技術仕様

カテゴリ パラメータ 仕様 (TU-QF25)
モデル識別 製品品番 TU-QF25
電源 入力電源 AC三相380V、50/60Hz
最大電力 48 KW
温度性能 最高使用温度 1200℃(≤ 30分)
連続使用温度 1100℃
昇温速度 ≤ 10℃/分
加熱ゾーン長さ 700 mm
温度精度 ± 1℃(オプションの欧州製コントローラー ± 0.1℃)
制御システム コントローラーモデル 858P PID インテリジェントコントローラー
プログラミング 50セグメントのプログラマブル制御
制御インターフェース 専用ソフトウェア付き DB9 PC通信ポート
制御モード 自動パージモード;定圧焼結モード
構造 チャンバー材質 表面コーティング付き高純度アルミナファイバー
発熱体 モリブデン鉄クロムアルミニウム
熱電対 K型
清浄度レベル US FED STD 209E Class 100
ガス&真空 フランジタイプ 304ステンレス鋼 水冷フランジ(KF60/KF25)
ガス流量制御 6台の独立フローメーター(40-400ml/min)
標準機械式リリーフ 0.04 MPaで開放
焼結圧力範囲 100,000 Pa - 115,000 Pa(自動調整)
チューブ仕様 標準石英サイズ Φ25x19 ID、Φ50x44 ID、Φ60x55 ID(長さ:1200 mm)
オプション合金チューブ ニッケル基合金(1200℃)/ジルコニウム合金(800℃)
オプションアクセサリー 可燃性ガス処理 200W、AC220V、電流変成器保護付き
水素検知 固定式または携帯式(1-1000ppm範囲)
真空ポンプ メカニカル(10^-2 Torr)または分子ポンプ(10^-5 Torr)
チラー装置 CW-6300(冷却能力 26826 Btu/h)

高スループット焼鈍向け 1200℃最大 6チャンネル 高清浄度水素炉を選ぶ理由

  • 比類ないスループットと多用途性: このシステムは実質的に6台の独立した炉の役割を果たし、設備面積やエネルギー負荷を増やすことなく、R&D活動を大幅に拡大できます。
  • 優れたクリーンルーム適合性: 高純度環境向けに設計されており、試料を汚染から守ります。これは現代の半導体およびナノテクノロジー研究における重要な要件です。
  • 安全最優先の設計: 統合された不活性ガス中間層とオプションの可燃性ガス処理装置により、この装置は水素雰囲気熱処理における業界標準の安全性を実現します。
  • 精密自動化とデータ完全性: 高度なソフトウェアインターフェースは、複雑なガスパージおよび焼結ルーチンを自動化するだけでなく、規制遵守および科学的検証のためにすべてのデータポイントを確実に記録します。
  • カスタマイズ可能で将来対応: さまざまなチューブ材質から高度な分子ポンプ統合まで、本システムは現在の研究ニーズに合わせて調整でき、プロセス要件の変化に応じてアップグレード可能です。

高スループット熱処理ソリューションの技術相談や正式なお見積りをご希望の場合は、今すぐTHERMUNITSまでお問い合わせください。

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