製品概要



本ハイスループット熱処理システムは、材料科学機器における画期的な進化を遂げた製品で、8基の独立した箱型炉を省スペースな1ユニットに統合しています。コンビナトリアルケミストリーや迅速な材料発見の厳しい要求に応えるために設計されており、通常であれば1~2基の標準炉しか設置できない設置面積で、複数の熱処理プロトコルを同時に実行することが可能です。本装置は、手動の低容量試験から、研究出力を最大化し運用ボトルネックを最小化する最新の自動ワークフローへの移行を目指すラボにとって、中核的な存在となります。
本システムの主な価値は、その汎用性と自律性にあります。8つの加熱チャンバーそれぞれに独立した温度コントローラーが搭載されており、配列全体で異なる温度プロファイルを同時に実行することができます。対象業界としては、先進航空宇宙材料研究、半導体開発、工業用セラミックス、特殊金属合金の試験などが含まれます。熱処理プロセスを集約することで、極端な高温処理能力と、同一環境条件下で多数の変数を同時に試験する柔軟性の両方を必要とする研究開発施設に、合理化されたソリューションを提供します。
24時間連続運転向けに設計された本システムは、最大1700℃までの連続サイクルに耐えられる堅牢な部品で構成されています。堅牢なフレームと高品質な耐火材により長期的な熱安定性を確保すると同時に、自動扉機構とデジタル通信ポートを統合することで、次世代の自律研究に対応したラボ環境を提供します。高品質な二珪化モリブデン(MoSi₂)発熱体と精密なB型熱電対を使用することで信頼性を最優先に設計されており、ミッションクリティカルな産業・学術プロジェクトにおいて、すべての加熱サイクルの安定性とすべてのデータポイントの精度を保証します。
主な特長
- マルチチャンバー独立制御:本システムは8つの独立した加熱ゾーンを搭載しており、それぞれで個別の温度プロファイルを同時に実行することができます。これにより研究者は材料のハイスループットスクリーニングを実施し、異なる温度や保持時間を並行して試験することで、実験サイクル全体の所要時間を大幅に短縮できます。
- 自動空気圧式/電動扉駆動:各チャンバーには自動扉システムが搭載されており、統合されたタッチスクリーンインターフェースから扉の開閉をプログラムすることができます。本機能は高温運転時の安全性を確保する上で不可欠であり、外部試料ハンドリングシステムを容易に統合することも可能です。
- 自律運転互換性:標準DB9 PC通信接続ポートを搭載しており、ロボットアームや自動試料トレイステーションとシームレスに接続することができる設計です。これにより完全な「無人」ラボ環境を実現し、試料の投入・処理・取出しを人的介入なしで24時間継続することが可能です。
- 高品質MoSi₂発熱体:高品質な二珪化モリブデン発熱部品を使用することで、炉は最大使用温度1700℃を達成しています。これらの発熱体は耐酸化性に優れ、高熱負荷下でも構造的完全性を維持できる特性から選定されており、長い使用寿命を確保しています。
- 先進インテリジェントPIDコントローラー:温度制御システムは50段階のプログラム可能なPIDロジックを採用しており、±1℃の温度制御精度を実現しています。このレベルの精度は、敏感な材料変態や、8つのチャンバー全体で再現性を確保する上で極めて重要です。
- 統合雰囲気管理:すべてのチャンバーの炉背面に、それぞれ専用のガス注入口が搭載されています。これにより制御雰囲気下での処理が可能となり、特定の雰囲気条件下での材料挙動を研究するために、不活性ガスや反応性ガスを導入することができます。
- 産業用タッチスクリーンインターフェース:中央に集約された高解像度タッチスクリーンパネルが、8つすべてのチャンバーの統合制御ハブを提供します。オペレーターはリアルタイムの温度曲線のモニタリング、複雑な昇降温プログラムの設定、ワンタッチでの扉の駆動を行うことができ、複雑なハイスループットワークフローの管理を簡素化します。
- コンパクトで省エネな設計:8つのチャンバーを1つのシャーシに統合することで、共有断熱材による放熱を削減し、実験室の床面積を最適化しています。この設計は、8基の独立した単体炉を稼働する場合と比較して大幅に省エネルギーであり、総所有コストを削減します。
用途
| 用途 | 説明 | 主なメリット |
|---|---|---|
| コンビナトリアル材料開発 | 様々な温度勾配のもと、8種類の異なるセラミックまたは合金組成を同時に試験 | 実験変数を並列化することで、研究開発の上市までの時間を大幅に短縮 |
| 航空宇宙部品試験 | タービンブレードコーティングや高温複合材に対する熱応力を、複数の小ロットでシミュレーション | 極端な1700℃環境を精密に制御し、高精度なデータを保証 |
| 半導体ドーピング分析 | シリコンウェハや薄膜基板を、制御された雰囲気下で個別の温度プロファイルにより処理 | ハイスループットと精密PID制御により、欠陥を最小化し収率分析を最大化 |
| 産業品質管理バッチ試験 | 複数の生産サンプルに対し、標準化されたエージングまたは焼結試験を同時に実施 | 同一のチャンバー環境により、統計的一貫性とプロセス妥当性確認を提供 |
| 工業用セラミックス焼結 | 歯科用または産業用の小型セラミック部品を、自動ローディングサイクルで精密焼結 | 自動扉による自律運転により、生産能力を向上させ人件費を削減 |
| 熱安定性研究 | 耐火材料を長時間連続して高温サイクルに曝露し、劣化を測定 | 高品質なMoSi₂発熱体と堅牢な断熱により、24時間連続運転をサポート |
| 合金焼入れ研究 | 新しい冶金合金配合に対し、複雑な昇温・急速冷却プロトコルを管理 | 50段階のプログラム機能により、高度で再現性の高い熱サイクルを実現 |
技術仕様
| 項目 | 仕様詳細(型番:TU-CT25) |
|---|---|
| 型番 | TU-CT25 シリーズ |
| チャンバー数 | 8基の独立加熱チャンバー |
| チャンバー寸法 | 1チャンバーあたり 120mm x 120mm x 120mm |
| 総チャンバー容量 | 1ユニットあたり1.7リットル(総容量13.6リットル) |
| 有効均熱域 | 80mm x 80mm x 80mm(温度偏差±5℃以内) |
| 最高温度 | 1700℃(短期間<30分);1750℃(オプション対応可) |
| 連続使用温度 | 1600℃ |
| 電源要件 | AC220V ±10%、50/60Hz、単相 |
| 総定格出力 | 20 KW |
| 昇温速度 | 推奨値 ≤ 10℃/分 |
| 発熱体種類 | 高純度 MoSi₂ |
| 熱電対種類 | B型 精密熱電対 |
| 雰囲気制御 | 8基の個別ガス注入口(背面設置) |
| 制御ロジック | 50段階 インテリジェントPID プログラマブル制御 |
| 扉操作 | 全自動(タッチスクリーンからプログラム可能) |
| データインターフェース | DB9 PC通信ポート(ロボット統合対応済み) |
| 温度精度 | ±1℃(標準);±0.1℃(オプション:欧州製コントローラー) |
| 安全認証 | CE認証済み(要望に応じNRTL認証取得可) |
弊社を選ぶ理由
TU-CT25システムの導入は、比類のない実験室生産性とエンジニアリング精度への投資です。すべてのサイクルに手動介入が必要な標準的な炉とは異なり、本システムは自動研究の未来に向けて設計されています。8つの独立ゾーンを提供することで、エンジニアチームは迅速な試行錯誤と迅速な発見を実現でき、従来数週間かかった逐次試験を、1日の並列処理で完了することができます。高品質なMoSi₂発熱体とB型熱電対を統合することで、最大1700℃の閾値においても、再現性のある科学的結果に必要な安定性をシステムが提供することを保証します。
さらに、本装置の品質は、産業用途での耐久性に対する弊社のコミットメントを反映しています。精密加工された自動扉のレールから、単一のタッチインターフェースで8チャンネルすべてを管理する高度なPID制御ロジックまで、すべての部品は24時間稼働の過酷な負荷下で性能を発揮できるように選定されています。本システムは単なる炉ではなく、自律材料科学のためのスケーラブルなプラットフォームであり、現在でも将来的にもロボットハンドリングとの統合に対応できる柔軟性を提供します。特殊な雰囲気制御や極端な昇温プログラムなど、お客様固有のプロセス要件に対応するために、包括的なサポートとカスタマイズオプションを提供しています。
ハイスループット熱処理のメリットを体験し、完全自律型実験室環境への第一歩を踏み出してください。具体的なお見積もりや、お客様の研究目標に合わせたカスタム設定については、今日からテクニカルセールスチームまでお問い合わせください。
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい!
関連製品
1700℃ スライドプラットフォーム付きボックス炉:急速加熱・冷却対応高温熱処理システム
この高温ボックス炉は、スライド式プラットフォームを搭載し、1700℃までの急速なサンプルの搬入と迅速な熱処理を実現します。材料科学研究に最適で、精密なPID制御と優れたエネルギー効率を産業用ラボに提供します。
先端材料の焼結および産業用熱処理向け、65Lチャンバー搭載 1650℃ 高温雰囲気制御ボックス炉
65Lチャンバー、水冷式真空シール、MoSi2発熱体を備えたこの1650℃雰囲気制御ボックス炉で、精密な熱処理を実現。先端材料の焼結向けに設計され、不活性ガスまたは酸素環境下で、産業R&Dおよび研究用途に対応します。
ボトムロード式不活性ガス雰囲気ボックス炉 最高温度1400℃ 125L大容量 実験用熱処理システム
本製品1400℃対応ボトムロード式雰囲気ボックス炉で、優れた熱精度を実現します。125Lのチャンバー、油圧式サンプル昇降装置、一体型真空制御を備えた本システムは、先端研究および大規模工業生産において、安定した不活性環境を提供します。
材料研究用 1700℃ ハイブリッド高温チューブ・ボックス炉(2インチアルミナチューブ付)
この1700℃ハイブリッド炉は、ボックス炉とチューブ炉の機能を兼ね備え、真空または制御雰囲気下での材料研究を可能にします。高純度アルミナ断熱材とMoSi2発熱体を採用し、要求の厳しいラボの研究開発や産業用途に精密な熱処理を提供します。
高温水素雰囲気ボックス炉 最高1650℃ 還元環境材料合成システム 8x8x8チャンバー
この工業用高温水素雰囲気ボックス炉は、材料合成のために最高1650℃までの制御された還元環境を提供します。精密な8x8x8インチのチャンバーと安全システムを備え、要求の厳しい研究開発ラボ向けに均一な熱処理を実現します。
1700°C 40L容量 高温ボトムローディング式ボックス炉(急速熱処理対応)
プロ仕様の1700°Cボトムローディング式ボックス炉は、先端材料研究のために急速加熱・冷却を実現します。自動昇降機能と高純度断熱材を備え、世界中の産業研究所や研究施設において精密な熱処理を保証します。信頼の品質です。
1200°C 5面加熱雰囲気制御マッフル炉 64リットル 高均一性ボックス炉(材料合成用)
64Lの気密チャンバーと水冷ジャケットを備えた、精密な1200°C 5面加熱雰囲気制御マッフル炉です。先端材料研究に最適で、重要なラボプロセスにおいて優れた温度均一性と信頼性の高いガス環境制御を実現します。
5面加熱・64Lチャンバー搭載 1200℃水素雰囲気ボックス炉
精密設計された1200℃水素雰囲気ボックス炉。64リットルのチャンバーと5面加熱により、優れた温度均一性を実現します。高度な安全システムとプログラム可能なPID制御により、高純度材料の合成や産業R&Dプロセスに最適です。
高温経済的水素ガスボックス炉 1600℃ 雰囲気制御熱処理システム 容量65L
この高温水素雰囲気ボックス炉は、先端材料研究のために最大1600℃の精密熱処理を提供します。モリブデン合金コイルによる3面加熱と水冷式真空密閉チャンバーを備え、安全性、信頼性、優れた性能を確保します。
雰囲気制御マッフル炉 最高温度1700℃ 80L大容量 真空・不活性ガス対応ボックス炉
先端材料研究向けの高性能1700℃雰囲気制御マッフル炉(容量80L)。MoSi2発熱体と精密PID制御を搭載し、産業用R&Dやパイロット生産プロセスにおける不活性ガス、真空、酸素環境下での熱処理に対応します。
工業用大型ボックス炉 1700℃ 216L 高温マフル焼結システム
216L容量、1700℃限界温度のプロフェッショナル高温ボックス炉。MoSi2発熱体と精密PID制御を採用し、工業焼結、材料科学R&D、セラミック加工用に設計されています。先進的な空冷二重鋼板構造により、信頼性の高い結果を保証します。
自動化1700°C高温ボトムローディング式ボックス炉(PCソフトウェア制御およびロボット統合機能付き)
このプロ仕様の1700°C自動ボトムローディング式ボックス炉は、高度なPCソフトウェア制御により精密な熱処理を実現します。再現性の高い焼結サイクルや、ラボの効率を最大化するためのオプションのロボットサンプルハンドリングを必要とする産業用R&Dや材料科学の用途に最適です。
高温1600°C 3ゾーン加熱 ボトムローディング式ボックス炉(急速熱処理チャンバー、容量72L)
72Lのチャンバーと電動昇降機能を備えた、高精度1600°C 3ゾーンボトムローディング炉で熱処理を強化します。材料科学の研究開発向けに設計された本システムは、優れた温度均一性、急速冷却、および高度なPLC制御を提供し、要求の厳しい産業用途に対応します。
分離型プログラマブルコントローラーと4.2Lアルミナファイバー炉室を備えた1200℃小型ボックスマッフル炉
4.2リットルの炉室と、遠隔操作用の分離型プログラマブルコントローラーを備えた、精密設計の1200℃ лаборатリー ボックス炉です。グローブボックス環境や高純度材料研究に最適で、産業R&D用途に卓越した温度均一性と安定性を提供します。
最大1500℃ 高スループット4チャンネルボックス炉 独立温度制御 材料研究焼結システム
この1500℃高スループット4チャンネルボックス炉で材料発見を加速させましょう。独立した温度制御モジュールによりサンプルの同時処理が可能。この高度なシステムは、学術研究や産業用材料科学の厳しい要求に応える精度、効率、信頼性を提供します。
ボトムローディング式不活性ガス雰囲気ボックス炉 1700℃ 1300℃ 216L 大容量産業用熱処理システム
この大容量ボトムローディング式不活性ガス雰囲気ボックス炉は、最大1700℃までの精密な熱処理を実現します。216Lのチャンバーと油圧リフトを備え、先端材料科学や産業用研究開発プロジェクトにおいて均一な熱処理を保証します。
コンパクト高真空ボックス炉 1050℃対応 6.2L セラミックチャンバー ステンレスシェル 材料科学研究用プログラム温度コントローラー付
6.2Lセラミックチャンバーと10-4 torrの真空性能を備えた1050℃対応真空ボックス炉で、研究室の熱処理プロセスを最適化します。制御された雰囲気下や精密な真空環境下での焼結、アニール、熱処理に最適で、高度な産業研究用途に適しています。
高スループット材料研究および省スペース熱処理向け高温4チャンバーボックス炉
1700°C対応の高スループット4チャンバー炉で研究室の効率を向上させます。独立した温度制御とコンパクトな設置面積を備えたこのシステムは、高度な材料科学研究や要求の厳しい工業用熱処理用途向けに、複数のサンプルの同時処理を可能にします。
1750℃ 卓上型マッフル炉 3.6L 高品質二ケイ化モリブデン加熱素子 実験用熱処理装置
高品質加熱素子を搭載し、3.6Lのチャンバーを備えたプロフェッショナルな1750℃卓上型マッフル炉をご紹介します。この超高温システムは優れた熱均一性、高度なPID制御、堅牢な断熱構造を備え、世界中の要求の厳しい材料研究や産業R&Dプロジェクトに対応します。
5面加熱マッフル炉 高均一性 1200℃ ラボ用ボックス炉 27L アルミナファイバーチャンバー
この高性能な5面加熱マッフル炉は、1200℃まで優れた温度均一性を実現します。精密な材料研究向けに設計されており、27Lのアルミナファイバーチャンバー、高度なPID制御、および産業用焼結やアニール処理のための堅牢な安全プロトコルを備えています。