高純度アルミナ断熱材とPID制御を備えた1200°C小型ボックス炉 4.2リットル プログラム式マッフル炉

マッフル炉

高純度アルミナ断熱材とPID制御を備えた1200°C小型ボックス炉 4.2リットル プログラム式マッフル炉

商品番号: TU-CT02

最高動作温度: 1200°C チャンバー容量: 4.2 リットル (150 x 150 x 175 mm) 温度制御精度: ±1.0°C
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製品概要

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この高温ボックス炉は、要求の厳しい材料科学研究および産業R&D用途向けに設計された、精密に設計された熱処理システムです。コンパクトな4.2リットルの炉室を備え、本システムは最大1200°Cまでの非常に均一な熱環境を提供し、限られたスペースで性能を妥協できない研究室にとって不可欠なツールとなります。本装置はエネルギー効率とユーザー安全性を重視して設計されており、高度な断熱材とアクティブ冷却構造を採用することで、厳しい環境下でも連続運転を可能にしています。

主に焼結、焼鈍、灰化プロセスに使用され、本装置は冶金研究室、セラミック工学部門、半導体研究施設での標準装備です。本システムは標準的なグローブボックスとの互換性を持つよう特別に設計されており、研究者は制御雰囲気または真空密封環境下で高温作業を行うことができます。この汎用性により、作業空間に大きな改修を加えることなく、既存の研究室ワークフローに統合できます。

信頼性はこの熱処理装置の中核です。高純度アルミナファイバーと堅牢な構造フレームで構成され、長時間サイクルでも精密な温度安定性を維持できます。産業用グレードの発熱体と高度なデジタルコントローラーの組み合わせにより、すべてのバッチが同一の熱条件で処理され、高度な科学的検証や産業品質管理に必要な一貫性を提供します。

主な特長

  • 高純度アルミナファイバー断熱材: 炉室内には高品質の真空成形アルミナファイバー断熱材が施されています。この材料は従来の耐火煉瓦に比べて熱容量が大幅に低く、内部の均一な温度分布を維持しながら、より速い昇温速度と優れたエネルギー効率を実現します。
  • 二重層安全構造: 本装置は、高効率冷却ファンを統合した特殊な二重シェル構造を採用しています。この設計により、内炉室と外筐体の間に強制空冷チャネルが形成され、最大温度運転中でも外装表面を安全に触れられる温度に保ちます。
  • 高度なプログラム式PID制御: 一体型デジタルコントローラーは、高度な比例・積分・微分制御ロジックとオートチューニング機能を採用しています。最大30セグメントのプログラムに対応し、複雑な昇温、保持、冷却サイクルを定義して、精密な冶金・化学要件に対応できます。
  • グローブボックス対応設計: 最適化された外形寸法により、この炉は標準的な産業用グローブボックスに収まるよう特別に設計されています。これにより、空気に敏感な材料や危険物質を不活性ガス条件下で熱処理でき、試料を周囲環境にさらす必要がありません。
  • 統合安全・監視機能: 装置と操作者の両方を保護するため、過温度および熱電対故障アラームを内蔵しています。標準のDB9 PC通信ポートも備え、外部データロギングや熱サイクルの遠隔監視が可能です。
  • 効率的なガス管理: 炉には、上部に排気用ベントポート、背面に雰囲気制御用の空気入口が装備されています。この構成により、煙を発生する工程や特定のガス導入を必要とする工程において、基本的な気流管理が可能です。
  • 現場交換可能な発熱モジュール: 高稼働が求められる産業環境のニーズを考慮し、発熱モジュールは容易に交換できるよう設計されています。このモジュール式アプローチにより、定期メンテナンス時のダウンタイムを最小限に抑え、システム全体の耐用年数を延ばします。
  • 高精度熱電対設計: 本システムは、標準プラグインターフェースと高温シースを備えたK型熱電対を採用し、炉室から直接正確な温度フィードバックを得ることで、最大限のプロセス制御を実現します。

用途

用途 説明 主な利点
セラミック焼結 セラミックグリーン体を高温焼成し、最大密度と機械的強度を得る工程。 精密なPID制御により熱衝撃を防ぎ、構造健全性を確保します。
冶金焼鈍 金属合金を制御加熱・冷却して微細組織を調整し、内部応力を低減する工程。 均一加熱により、試料全体で一貫した機械特性を確保します。
触媒調製 特定の温度プロファイルで触媒前駆体を焼成し、化学特性を活性化する工程。 多段プログラムにより、精密な化学変換サイクルを可能にします。
材料灰化 無機試料から有機物を除去し、分析化学や環境試験に用いる工程。 上部ベントポートが燃焼副生成物を効率的に炉外へ排出します。
ガラス溶融 光学・構造研究向けの特殊ガラス組成を少量溶融・焼鈍する工程。 1200°Cでの安定した温度維持により、十分な均質化が可能です。
半導体R&D コンパクトで制御された環境下で、ウェハ基板や薄膜を熱処理する工程。 グローブボックス対応により、不活性ガスまたは制御雰囲気下での処理が可能です。
歯科補綴物 研究室環境で歯科用セラミックやジルコニア補綴物を焼成・グレージングする工程。 コンパクト設計で、標準的な歯科技工台に容易に設置できます。
品質管理試験 産業部品に対して反復的な熱応力試験を行い、耐熱性を検証する工程。 産業用グレードの構造品質により、24時間365日の連続運転を支えます。

技術仕様

TU-CT02の運用範囲と構造能力を定義する技術パラメータは以下の通りです。すべての指標は精密校正された試験環境に基づいています。

パラメータ TU-CT02の仕様詳細
製品モデル識別子 TU-CT02
炉室寸法 150 x 150 x 175 mm (6" x 6" x 7")
炉室容量 4.2リットル
断熱材 高純度アルミナファイバー(真空成形)
最高温度 1200°C
連続運転温度範囲 100°C 〜 1200°C
制御精度 +/- 1.0°C(1000°C時)
最大昇温速度 30°C/分(長寿命のため推奨 ≤ 10°C/分)
熱電対タイプ K型(長さ4"、外径3mm)
コントローラータイプ 30セグメントプログラムとオートチューニング機能を備えたデジタルPID
通信インターフェース 標準DB9 PC通信ポート
電源オプションA(低電圧) 110-120 VAC、単相、50/60 Hz、20 A、1.8 KVA
電源オプションB(高電圧) 208-240 VAC、単相、50/60 Hz、15 A、2.5 KVA
ガス管理 上部ベントポート1口、背面空気入口1口
安全認証 CE認証済み(NRTL/UL61010またはCSAは要請に応じて対応可能)
冷却システム 一体型強制空冷ファンを備えた二重層構造
オプションアップグレード Eurothermコントローラー(±0.1°C)、15インチノートPC付きMTS01ソフトウェアキット

この炉を選ぶ理由

  • 高級熱工学: 標準的な汎用品のマッフル炉とは異なり、本システムは高純度アルミナファイバー断熱材を採用し、エネルギー消費を大幅に削減しながら、高純度材料向けによりクリーンな熱環境を提供します。
  • 精密温度管理: ±1.0°Cの精度と30セグメントのプログラム可能コントローラーにより、繊細な科学実験や高度な産業用熱プロファイルに必要な制御レベルを提供します。
  • 安全最優先設計: 二重シェル構造とアクティブ冷却ファンは、操作者の安全への配慮を示しており、高温研究室でも外装を安全な温度に保ちます。
  • 汎用性とカスタマイズ性: グローブボックスへの組み込みが必要な場合でも、装置をハイブリッド管状炉に改造する必要がある場合でも、この装置は進化する研究要件に適応できる柔軟性を提供します。
  • 実証された信頼性: CE基準に適合し、NRTLおよびCSA認証のオプションも用意されており、本装置は連続的な産業利用の過酷な要求に耐えるよう製造されています。さらに、長期的な保守性を高めるため、交換容易なモジュールを備えています。

お客様の特定のR&D要件に合わせた専門的な熱処理ソリューションについては、正式なお見積りやカスタムシステム改造のご相談のため、当社の技術営業チームまでお問い合わせください。

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