AI材料研究向け自動式1200℃チューブ炉 外径6インチ・スライドフランジ仕様

管状炉

AI材料研究向け自動式1200℃チューブ炉 外径6インチ・スライドフランジ仕様

商品番号: TU-R03

プロセス自動化: ロボットサポートによる完全なポンプパージ、ガス、および熱サイクル自動化 チューブ径: 6インチ(150mm)OD高純度石英 最高温度: 最大1200℃(連続運転1100℃)
品質保証 Fast Delivery Global Support
お問合せ

配送: お問い合わせ 配送詳細を確認してください オンタイムディスパッチ保証.

製品概要

Product image 1

Product image 2

Product image 3

本高性能自動チューブ炉は、次世代の材料開発および自律型研究環境の厳しい要求に応えるために特別に設計されました。先進の加熱技術と包括的な自動化を統合することで、研究者の皆様が手作業で多大な労力を要するプロセスから、効率化されたロボット支援ワークフローへ移行することを可能にします。本システムはハイスループット材料合成の基盤として機能し、精度、再現性、24時間運用能力が現代の産業研究開発において必須条件である用途に対応します。

材料科学および産業研究分野向けに設計された本装置は、制御された雰囲気または真空下での複雑な多段階熱処理が必要なシナリオに優れた性能を発揮します。主な用途としては、実験パラメータの厳密な制御が必要な新規化合物、電池材料、先進セラミックスの合成が挙げられます。完全自律型の「クローズドループ」ラボに統合する場合でも、単体の大容量炉として使用する場合でも、本装置は敏感な材料の合成およびキャラクタリゼーション工程に必要な熱安定性と機械的信頼性を提供します。

産業グレードの高品質部品を使用して製造された本熱処理システムは、過酷な負荷サイクル下での長期的信頼性を最優先に設計されています。二層構造のスチール筐体と高効率空冷システムにより、外部表面の温度を安定に保ちつつ、内部の温度勾配を精密に制御することができます。ポンプパージサイクルやガス流量管理を含む熱処理の最も重要な変数を自動化することで、本装置は人為的ミスを排除し、製造業者および研究機関の皆様に、全てのバッチが最高の品質基準を満たすことへの確信をもたらします。

主な特長

  • 包括的なプロセス自動化:本システムはポンプパージサイクル、ガス流量調整、真空管理、複雑な加熱・冷却シーケンスを完全に自動化します。これにより熱サイクル中の手作業による介入が不要となり、全ての合成プロセスが完全に一定の精度で実行されることを保証します。
  • ロボットアーム統合機能:真の自律性を求める研究室向けに、本装置はロボットアームとシームレスに連携するよう設計されています。試料の自動ローディング・取出しに対応し、24時間連続運転を可能にし、生成される実験データの量を大幅に増やします。
  • 大口径の処理ゾーン:外径6インチ(150 mm)の高純度石英チューブを標準装備し、広大な内部容積を提供します。一度に大型の試料や複数のるつぼを収容できるため、ハイスループットスクリーニングや材料生産のスケールアップに最適です。
  • デュアルゾーンによる高精度温度制御:本装置はそれぞれ独立して制御可能な2つの加熱ゾーン(各175 mm)を備え、合計350 mmの加熱面積を提供します。この構成により、材料プロセスの具体的な要求に応じて、正確な温度勾配の形成またはより広域な均一温度ゾーンの生成のいずれにも対応可能です。
  • 電動スライドフランジシステム:試料管理を簡素化するため、本システムは電動式スライド試料ステージとフランジアセンブリを採用しています。この革新的な設計により、チューブ継手を手作業で分解することなく試料の簡単なローディング・取出しが可能となり、実験間のダウンタイムを削減します。
  • 先進のリモート制御・データロギング:LabVIEWベースのソフトウェアを使用することで、本システムはPCによるリモート制御とリアルタイムモニタリングに対応します。最大8台の炉を同時に接続することができ、大規模研究施設やデータ集約的なAIプロジェクトにスケーラブルなソリューションを提供します。
  • 柔軟なソフトウェアインターフェース:標準の制御パネルに加え、本装置は無料でPython APIを提供します。これによりAI研究者の皆様が炉の動作を機械学習ループや自律合成アルゴリズムに直接統合することができ、ソフトウェア定義の実験による新規材料の開発を促進します。
  • 高性能な真空・ガス制御:本システムは240L/分のロータリーベーンポンプとマスフローコントローラー(1~1000 sccm)を標準搭載しています。これにより、高真空状態から各種化学気相成長や焼結作業に必要な特定のガス混合まで、正確な雰囲気制御が可能です。

用途

用途 説明 主な利点
自律型材料合成 機械学習モデルが実験パラメータを決定するAI駆動型研究室への統合 人間の介入なしで、新しい化合物の迅速なクローズドループ探索を可能にします
固体電解質の研究開発 制御された不活性雰囲気下での固体電池材料の高温処理 正確な温度・ガス制御により、高いイオン伝導度と相純度を確保します
ハイスループットスクリーニング 多キャビティステージにより、1回の運転で最大8種類の材料変種を同時に熱処理 材料組成と処理条件の最適化に必要な時間を大幅に削減します
セラミックマトリックス複合材料 デュアルゾーン温度勾配が必要な先進セラミック材料の焼結・接合 プログラム可能な昇温・降温プロファイルにより、熱衝撃を防止し構造的完全性を確保します
CVD/PECVDプロセス グラフェンやMoS2などの2次元材料成長のための高精度化学気相成長 直径6インチの大口径チューブが薄膜・ナノ材料のスケール生産に対応します
産業用バッチ試験 真空下での工業用顔料または触媒の連続品質管理試験 24時間体制のロボット支援による試料交換で設備稼働率を最大化します

技術仕様

項目 TU-56の仕様詳細
モデル型番 TU-56
電源電圧 208-240VAC, 50/60Hz, 6 kW
自動化シーケンス 試料のローディング/取出し、ポンプパージ、ガス流量、加熱/保持/冷却
構造設計 二層構造スチール製、冷却ファン一体型
断熱材 高純度アルミナ繊維断熱材
ローディング機構 電動スライド試料ステージ(ロボットアーム互換)
最高使用温度 <1100°C(ピーク最高1200°C)
加熱ゾーン デュアルゾーン(175 mm + 175 mm)
温度均一性 120 mm範囲内で ± 5°C
加熱エレメント MoドープFeCrAl
熱電対種別 K型
昇温速度 ≦10°C/分
プロセスチューブ 石英製、Ø150 × 700 mm(外径6インチ)
温度コントローラー PIDプログラマブル、最大50セグメント、精度±1°C
フランジアセンブリ 304ステンレス鋼製、水冷式、Ø12プッシュ継手付き
真空ポート 真空生成用KF25ポート、in-situ測定用1/4"クイックコネクト
圧力モニタリング インフィコン PCG 554 セラミックコーティング ピラニー容量結合圧力計
圧力範囲 3.8e-5 … 1125 torr
ガス流量制御 1-1000 sccm マスフローコントローラー(MFC)
試料容量 8キャビティ石英ステージ + 8個のØ21 × 25 mm石英るつぼ(6 mL)
熱保護 マルチスタック石英サーマルブロック
制御インターフェース イーサネット TCP/IP、LabVIEWソフトウェア、Python API
真空システム 240L/分ロータリーベーンポンプ(付属、炉側で制御可能)
オプションロボット 48VDC/150W アーム、最大耐荷重5kg、精度±0.02 mm
認証 ご要望に応じてNRTLまたはCSA認証を取得可能

当社を選ぶ理由

  • 探索サイクルの加速:実験シーケンス全体を自動化することで、研究チームは手作業ではなくデータ分析に集中することができ、AI統合研究室にとって最適な選択肢となります。
  • 卓越した熱工学技術:当社のデュアルゾーン制御と高純度断熱材は、敏感な材料合成に必要な正確な熱環境を提供し、数千サイクルにわたって再現性のある結果を保証します。
  • スケーラブルな研究インフラ:単一のソフトウェアインターフェースで最大8台のユニットを制御できるため、施設は単一試料の研究開発からハイスループットバッチ生産まで容易に規模を拡大することができます。
  • 産業グレードの信頼性:水冷式ステンレス鋼フランジからインフィコン製セラミックコーティング圧力計まで、全ての部品は連続的な産業使用の過酷さに耐える性能を基準に選定されています。
  • 将来の変化に対応可能な統合性:ビルトインのPython APIとロボットハードウェアサポートにより、本装置は自律材料科学の進化と「未来の研究室」へ適応するよう設計されています。

高性能な材料には高性能な処理が必要です。ぜひ今日弊社エンジニアチームにお問い合わせいただき、見積もりをご依頼いただくか、この自動炉システムをどのようにお客様の特定の研究目標に合わせてカスタマイズできるかについてご相談ください。

この製品に関するよくある質問をもっと見る

引用を要求

弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい!

関連製品

1200°C 雰囲気制御式自動ボトムローディング炉(6インチ石英管付き)

1200°C 雰囲気制御式自動ボトムローディング炉(6インチ石英管付き)

6インチ石英管とデュアルゾーン加熱を備えた、高度な1200°C雰囲気制御式自動ボトムローディング炉です。一貫した精度と完全な自動化統合機能を必要とする研究開発ラボでの材料研究や産業用熱処理アプリケーションに最適です。

精密温度コントローラーおよびクイックフランジ真空システム付き 7ゾーン 1200℃ 分割型チューブ炉

精密温度コントローラーおよびクイックフランジ真空システム付き 7ゾーン 1200℃ 分割型チューブ炉

材料研究用に設計されたプロ仕様の7ゾーン1200℃分割型チューブ炉。5インチ石英チューブ、精密PID制御、真空または制御雰囲気下での迅速な熱処理を可能にするクイックフランジを備えています。高性能な研究開発用熱処理ソリューションです。

急速熱処理用1200℃石英管・ステンレス鋼真空フランジ付き分割型垂直管状炉

急速熱処理用1200℃石英管・ステンレス鋼真空フランジ付き分割型垂直管状炉

この1200°C対応分割型垂直管状炉は、5インチ石英管と精密PID制御を備え、急速焼入れ、真空処理、高度な材料合成を実現し、要求の高い産業研究環境における研究効率を最大化します。

CVD研究および真空雰囲気熱処理用 1200℃高温分割管状炉

CVD研究および真空雰囲気熱処理用 1200℃高温分割管状炉

精密CVD、雰囲気焼結、真空アニール用に設計された高性能1200℃分割管状炉。高度なPID制御、エネルギー効率の高い日本製アルミナファイバー断熱材、産業用R&Dおよび先端材料研究所向けの急速冷却可能な分割設計を採用しています。

焼鈍及び材料状態図研究向け 50mm石英管搭載 1200℃ ハイスループット多チャンネル管状炉

焼鈍及び材料状態図研究向け 50mm石英管搭載 1200℃ ハイスループット多チャンネル管状炉

先端材料科学研究・状態図研究向けに開発された本1200℃ 6チャンネル管状炉は、独立温度制御と真空シール石英管により、合金・セラミックスの同時ハイスループット熱処理を実現し、研究効率を飛躍的に向上させます。

材料研究用 1200℃ ハイブリッドマッフル・管状炉(デュアル雰囲気制御石英管付き)

材料研究用 1200℃ ハイブリッドマッフル・管状炉(デュアル雰囲気制御石英管付き)

7.2Lのマッフルチャンバーと、真空または不活性雰囲気処理が可能な2インチ石英管を2本備えた、高性能1200℃ハイブリッド炉で材料研究を加速させます。産業用R&D用途に最適な精密な温度制御と優れた熱効率を提供します。

材料科学研究用 1200℃高温スプリットチューブ炉(オプションの石英管サイズおよび真空シールフランジ付き)

材料科学研究用 1200℃高温スプリットチューブ炉(オプションの石英管サイズおよび真空シールフランジ付き)

オプションの石英管サイズと精密PID制御を備えたこの1200℃スプリットチューブ炉で、高度な研究を最適化しましょう。雰囲気処理や真空処理に対応し、厳しい産業環境や研究開発環境における耐久性と高純度材料合成のために設計されています。

自律型材料研究および先端ラボR&D向け 高温自動5インチチューブ炉

自律型材料研究および先端ラボR&D向け 高温自動5インチチューブ炉

精密真空制御、高純度石英処理、遠隔対応の統合機能を備えたこの1200°C自動チューブ炉で、材料合成を加速します。要求の厳しい産業材料科学分野や先端R&D開発ワークフロー全体にわたり、高スループットのAI研究および自律型ラボ用途を支えます。

CVD用 50mmチューブフランジ付き 1200℃対応デュアルスライド式チューブ炉

CVD用 50mmチューブフランジ付き 1200℃対応デュアルスライド式チューブ炉

この1200℃デュアルスライド式チューブ炉は、高精度CVDプロセス専用に設計された50mm石英チューブフランジを備えています。スライド機構による急速加熱・冷却で産業用R&Dを加速させ、優れた材料合成、一貫した結果、そして最高レベルの薄膜堆積性能を実現します。

高温3ゾーン分割型チューブ炉 最高1200℃ 加熱長35.4インチ 内径8インチチューブ

高温3ゾーン分割型チューブ炉 最高1200℃ 加熱長35.4インチ 内径8インチチューブ

この高性能な3ゾーン分割型チューブ炉は、35.4インチの加熱ゾーンと8インチ径のチューブを備え、高度な熱処理を実現します。独立したゾーン管理により、真空またはガス雰囲気下で最高1200℃の温度と優れた均熱性を達成します。

1200°C 5インチ垂直型石英管状炉(ステンレス製真空フランジ付き)

1200°C 5インチ垂直型石英管状炉(ステンレス製真空フランジ付き)

5インチ径のチャンバーとステンレス製真空フランジを備えた高性能1200°C垂直型石英管状炉。30セグメントの精密PID制御により、材料科学の研究開発、CVD、および制御雰囲気下での特殊な焼入れ用途において正確な熱処理を実現します。

マルチゾーンアニールおよび材料研究用 3インチ石英管付き 高スループット1200℃ 4チャンネル管状炉

マルチゾーンアニールおよび材料研究用 3インチ石英管付き 高スループット1200℃ 4チャンネル管状炉

各3インチ石英管を個別に制御可能な、当社の先進的な1200℃ 4チャンネル管状炉で材料研究を加速させます。この高スループットシステムは、産業および学術研究開発ラボにおけるアニールや状態図研究に比類のない効率性を提供します。

1200℃高温勾配熱処理用 10ゾーン多方向実験室チューブ炉

1200℃高温勾配熱処理用 10ゾーン多方向実験室チューブ炉

複雑な熱プロファイリング向けに最適化されたこの10ゾーン炉は、水平・垂直両方向で1200℃の高精度制御を実現します。1470mmの加熱長全体にわたり、大規模な温度勾配が必要な素材研究開発や、信頼性の高い雰囲気制御プロセスに最適です。

オプションの大型径石英管付き 1200°C 最大 4ゾーン分割チューブ炉

オプションの大型径石英管付き 1200°C 最大 4ゾーン分割チューブ炉

オプションの直径14インチチャンバーと高純度断熱材を備えた、この1200°C 4ゾーン分割チューブ炉で材料研究を加速します。広い加熱ゾーン全体で高精度な温度均一性を実現し、大規模焼結、アニーリング、先進的な工業用気相成長プロセスに最適です。

1200°C対応 3ゾーン管状炉 最大外径6インチ(チューブ・フランジ付き)

1200°C対応 3ゾーン管状炉 最大外径6インチ(チューブ・フランジ付き)

外径6インチの処理能力と高度なタッチスクリーン制御を備えた、この1200°C対応3ゾーン管状炉で熱処理プロセスを最適化します。この高精度システムは、先端材料研究、半導体アニール、工業用熱処理用途において均一な温度分布を保証します。

高速加熱・冷却対応 自動スライド式管状炉 外径2インチ 1100℃対応

高速加熱・冷却対応 自動スライド式管状炉 外径2インチ 1100℃対応

この高性能な自動スライド式管状炉で材料研究を最適化します。毎分100℃の超高速加熱・冷却を実現するこの1100℃対応システムは、半導体、ナノテクノロジー、および急速熱サイクルを必要とする産業用R&Dアプリケーションにおいて、精密な熱処理を保証します。

材料科学および産業用熱処理向け真空フランジ・プログラム温度コントローラー付き1100℃管状炉

材料科学および産業用熱処理向け真空フランジ・プログラム温度コントローラー付き1100℃管状炉

プログラム可能なPIDコントローラーと高真空フランジを備えた、汎用性の高い1100℃管状炉で、研究室の熱処理プロセスを最適化します。精密な材料合成や産業用R&D向けに設計されており、デュアルオリエンテーション(水平・垂直)の柔軟性と、要求の厳しい用途にも対応する一貫した温度均一性を提供します。

1100°C 大口径石英チューブ炉(24インチ加熱ゾーンおよび水冷フランジ付き)

1100°C 大口径石英チューブ炉(24インチ加熱ゾーンおよび水冷フランジ付き)

この1100°C大口径石英チューブ炉は、24インチの加熱ゾーンと精密なCVD処理のための水冷フランジを備えています。材料研究や産業用R&Dに最適で、優れた熱安定性と堅牢な熱性能を提供します。

精密熱処理向け3インチムライト管・真空密封フランジ搭載 1250℃分割式チューブ炉

精密熱処理向け3インチムライト管・真空密封フランジ搭載 1250℃分割式チューブ炉

本1250℃分割式チューブ炉は、先端研究開発向けに3インチムライト管と真空密封フランジを標準搭載。材料科学用途に設計され、精密PID制御、高純度断熱、真空・制御雰囲気下での信頼性の高い性能を提供するプロフェッショナルグレードの装置です。

12ゾーン超長尺分割型チューブ炉(20フィート石英管、最高温度1100℃)

12ゾーン超長尺分割型チューブ炉(20フィート石英管、最高温度1100℃)

この高精度な12ゾーン分割型チューブ炉は、6メートルの加熱長と最高温度1100℃を実現し、長尺サンプルの処理に最適です。独立したPID制御と真空対応フランジを備え、先端材料科学や研究開発用途において卓越した均熱性を提供します。

関連記事